臺積電預計 3nm 工藝 Q3 開(kāi)始帶來(lái)可觀(guān)營(yíng)收，目前產(chǎn)能無(wú)法滿(mǎn)足需求

4 月 24 日消息，據外媒報道，臺積電仍采用鰭式場(chǎng)效應晶體管架構的 3nm 制程工藝，在去年的 12 月 29 日正式開(kāi)始商業(yè)化生產(chǎn)，雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業(yè)界看好。

對于 3nm 制程工藝，臺積電管理層在一季度的財報分析師電話(huà)會(huì )議上，也有重點(diǎn)談及。

在財報分析師電話(huà)會(huì )議上，臺積電 CEO 魏哲家表示，他們的 3nm 制程工藝以可觀(guān)的良品率量產(chǎn)，在高性能計算和智能手機應用需求的推動(dòng)下，客戶(hù)對 3nm 制程工藝的需求超過(guò)了他們的產(chǎn)能，他們預計今年的產(chǎn)能將得到充分利用。

魏哲家在會(huì )上還透露，他們的 3nm 制程工藝，預計從三季度開(kāi)始就將為他們帶來(lái)可觀(guān)的營(yíng)收，在他們今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預計為中等個(gè)位數。

魏哲家在會(huì )上還表示，從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來(lái)看，他們的 3nm 制程工藝都是目前最先進(jìn)的半導體技術(shù)，他們也因此預計客戶(hù)對他們的 3nm 制程工藝的強勁需求將持續多年，他們有信心 3nm 制程工藝家族成為他們另一個(gè)大而持久的工藝節點(diǎn)。