ASML遭臺積電大規?？硢?，強調7nm高端DUV光刻機仍可出口中國

據臺系設備廠(chǎng)商透露ASML近期由于客戶(hù)大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶(hù)臺積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延后拉貨時(shí)間，2024全年業(yè)績(jì)將明顯承壓。

根據ASML的財報顯示，今年一季度的凈銷(xiāo)售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。

雖然凈銷(xiāo)售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財報中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元，遠不及去年同期的69.77億歐元，也明顯低于上一季度的63.16億歐元。

受此消息影響，ASML將會(huì )積極保證中國市場(chǎng)的訂單，預計2023年在中國的銷(xiāo)售額將保持在22億歐元左右（約合人民幣超162億元），其正在加快拓展在中國的業(yè)務(wù)和銷(xiāo)售。

在這之前，ASML強調新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統。

截至目前企業(yè)尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場(chǎng)日會(huì )議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCAN NXT:2000i及后續推出的浸潤式光刻系統。

所謂浸沒(méi)式光刻機，屬于193nm（光源）光刻機（分為干式和浸沒(méi)式），可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。

ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產(chǎn)品共有三款設備：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。

ASML官網(wǎng)上關(guān)于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫(xiě)到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光的分辨率，事實(shí)上光刻機是可以進(jìn)行多次曝光的。

理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜、成本更高、良率可能也會(huì )有損失 —— 晶圓廠(chǎng)用這一臺光刻機，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因為良率低、成本高，沒(méi)什么競爭力。