美國與荷蘭日本達成“最強”對華限制協(xié)議？將倒逼中國自研半導體設備
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據彭博社報道，日本、荷蘭已經(jīng)同意加入美國針對中國的半導體制裁。三國將組建反華技術(shù)封鎖網(wǎng)絡(luò )：荷蘭或將全面禁止向中國出口DUV光刻機和配件、技術(shù)服務(wù)；日本將全面禁止出口半導體生產(chǎn)制造配套材料和原料。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202302/442957.htm美國在去年10月對中國推出全面的半導體生產(chǎn)設備出口管制，同時(shí)還拉攏日本與荷蘭等盟國，共同對中國推出半導體設備禁令。三國聯(lián)盟近乎全面封鎖中國購買(mǎi)制造尖端芯片所需設備的能力。
現在，“硅幕”正在落下。
對華“最強”限制協(xié)議
2023年1月28日，美國、荷蘭與日本在經(jīng)過(guò)數月的談判后，最終就共同限制向中國出口半導體設備達成共識，它們將聯(lián)手阻止中國獲取發(fā)展先進(jìn)芯片、量子計算、人工智能等所需的技術(shù)。
荷蘭阿斯麥（ASML）、日本尼康（Nikon）和日本東京電子（TEL）等半導體設備巨頭的對華出口，都將執行新的標準。在繼續禁絕向中國企業(yè)出售EUV光刻機的基礎上，新的聯(lián)盟擴大了管制范圍 —— 中國發(fā)展先進(jìn)半導體所需的技術(shù)和設備，都會(huì )被加入到禁售清單中，其中就包括DUV浸潤式光刻機。
DUV光刻機分為248nm和193nm光刻機兩種類(lèi)型，193nm光刻機又分為干式和浸沒(méi)式兩種類(lèi)型。此次可能會(huì )禁運的是浸沒(méi)式193nm光刻機，目前全球僅有ASML和尼康兩家公司生產(chǎn)。
而浸沒(méi)式光刻機可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，也被業(yè)界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。因此，如果一旦浸沒(méi)式光刻機被加入限制，則意味著(zhù)中國自45nm及以下成熟制程芯片的生產(chǎn)可能也將受到影響。
那么落在45-28nm成熟制程工藝區間的芯片，包括數字芯片、顯示驅動(dòng)芯片、車(chē)規級微控制/圖像傳感器、小容量存儲芯片等在短期將無(wú)法擴產(chǎn)，中長(cháng)期可能將不得不轉用DUV干法光刻機，從而芯片的制造成本上升，導致市場(chǎng)競爭力下降。
不過(guò)從最新消息來(lái)看，主要限制對華出口的還是16/14nm及以下先進(jìn)制程芯片的制造，可能會(huì )限制應用于先進(jìn)制程的浸沒(méi)式DUV光刻機的部分型號，而應用于成熟制程的浸沒(méi)式DUV光刻機的部分型號可能會(huì )開(kāi)放申請許可。
按照三方會(huì )談透露出來(lái)的內容，日本、荷蘭各自在國內完成立法后，新的協(xié)議才會(huì )生效，可能需要幾個(gè)月的時(shí)間。鑒于協(xié)議有可能產(chǎn)生的后果，即便協(xié)議生效后，各方也不會(huì )公布管制措施的內容，其重心將會(huì )落在具體的執行層面。
將倒逼中國自研半導體設備
ASML首席執行官Peter Wennink在上月25日接受采訪(fǎng)時(shí)表示，美國主導的針對中國的半導體出口管制措施，最終會(huì )促使中國在高端芯片制造設備領(lǐng)域成功研發(fā)出自己的技術(shù)。
事實(shí)上，目前美國對光刻機采取如此嚴格的出口管控措施，與當年西方國家的對華武器禁運十分類(lèi)似?，F實(shí)情況是，近20年中國的軍事技術(shù)實(shí)現井噴式發(fā)展，在大型水面艦艇、第五代戰斗機和彈道導彈等領(lǐng)域實(shí)現了大量的技術(shù)突破。
同理，我國對高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)，尤其是芯片產(chǎn)業(yè)的投入不斷加大，所以美國的限制措施也只能在短時(shí)間內對我們的高新產(chǎn)業(yè)造成影響。
彭博社報道稱(chēng)，Wennink表示“如果無(wú)法得到這些機器，他們就會(huì )自己研發(fā)。這需要時(shí)間，但最終他們會(huì )實(shí)現目標”。還表示“中國的‘物理定律’和這里的一樣，你越給他們施加壓力，他們越有可能加倍努力”，以制造能夠與阿斯麥匹敵的光刻設備。
Wennink還指出“在美國的壓力下，我們放棄的已經(jīng)夠多了”，此前EUV光刻機向中國銷(xiāo)售已有限制。2022年的市場(chǎng)似乎也印證了這一點(diǎn)：按照ASML公布的數據，2022年的營(yíng)收中，前五大市場(chǎng)分別為中國臺灣地區（42%）、韓國（29%）、中國大陸（14%）、美國（7%）和日本（4%）。
其中中國大陸從去年的16%降至14%，已經(jīng)排名全球第三了，對ASML的貢獻越來(lái)越少了，換句話(huà)來(lái)說(shuō)，就是中國大陸從ASML買(mǎi)的光刻機越來(lái)越少了。
而到了1月29日，ASML表示可以繼續向中國出口DUV曝光設備。當天，Wennink稱(chēng)目前政府層面尚無(wú)新的出口限制措施，"我們可以繼續（向中國）發(fā)貨DUV設備"。為何在達成“最強”對華限制協(xié)議后ASML還能有如此發(fā)言？
之前荷蘭對中國禁售EUV光刻機反應迅速，是因為荷蘭EUV光刻機的本土化率很低，只有45%的零部件能在荷蘭生產(chǎn)，其余55%都要依靠向美國及美國的盟友日德等國的進(jìn)口。尤其是EUV的核心極紫外光源，只有美國Cymer公司可以制造，只要美國斷供光源那荷蘭就造不出EUV光刻機，聯(lián)手其他盟友一起斷供那55%的零部件會(huì )直接缺失。
但DUV光刻機荷蘭的本土化率很高，缺失的部分中國大陸也都可以提供。換句話(huà)說(shuō)荷蘭的DUV光刻機可以完全的非美化，不用任何的美國零部件都能造出來(lái)，甚至可以完全的非美國盟友化。
實(shí)現成熟制程工藝國產(chǎn)化是主要目標
從市場(chǎng)需求角度來(lái)看，成熟制程工藝是全球需求最大的芯片，更是包括電動(dòng)汽車(chē)、智能家電等產(chǎn)品的芯片主力軍。除了智能手機、高性能運算等以外，用成熟制程工藝生產(chǎn)的半導體足以覆蓋絕大多數應用場(chǎng)景。
臺積電作為全球第一大晶圓代工廠(chǎng)，成熟工藝仍然約占臺積電總產(chǎn)能的64%，占總銷(xiāo)售額的34%。從未來(lái)產(chǎn)能擴張來(lái)看，到2025年臺積電計劃將成熟工藝和特色工藝節點(diǎn)的產(chǎn)能將擴大50%。
尤為值得注意的是，制程工藝越先進(jìn)復雜，代工報價(jià)越高。臺積電3nm工藝代工報價(jià)創(chuàng )出歷史新高，每片晶圓報價(jià)在2萬(wàn)美元以上 —— 作為對比，7nm工藝報價(jià)1萬(wàn)美元，5nm工藝報價(jià)1.6萬(wàn)美元。這也很好地解釋了為什么臺積電3nm工藝目前為止只有蘋(píng)果公司這一家客戶(hù)。
同時(shí)，摩爾定律也已接近物理極限，預計仍能夠持續到2030年前后。隨著(zhù)先進(jìn)制程工藝不斷演進(jìn)，制造工藝的研發(fā)和生產(chǎn)成本逐代上漲，高漲的技術(shù)難度和成本高筑進(jìn)入壁壘。
中國在不斷的研究新技術(shù)，以期在光刻機上有突破，從而實(shí)現先進(jìn)光刻機的獨立自主，最終擺脫對ASML的依賴(lài)。
如今上海微電子已經(jīng)成功研發(fā)出第一臺國產(chǎn)28納米DUV光刻機，且已經(jīng)走出實(shí)驗室進(jìn)行了正式生產(chǎn)，今年初就可以交貨，今年底就可以量產(chǎn)。同時(shí)，中國南大光電公司已經(jīng)宣布可以批量生產(chǎn)ARF光刻膠，以及自主開(kāi)發(fā)的DUV光刻機，這兩個(gè)技術(shù)的研究都有了突破性進(jìn)展。
并且在Chiplet異構集成的大潮下，部分先進(jìn)工藝芯片可以用成熟工藝+先進(jìn)封裝來(lái)實(shí)現，采用最尖端的封裝技術(shù)可以提高芯片的綜合效能，同時(shí)表現可以和先進(jìn)制程一比高低。中國也在不斷發(fā)展自己的獨特技術(shù)和先進(jìn)的封裝技術(shù)，中芯公司研發(fā)出55nm BCD技術(shù)。
中國對“最強”限制協(xié)議的回應
2022年12月，商務(wù)部官網(wǎng)發(fā)布的消息稱(chēng)，中國已經(jīng)就美國政府實(shí)施的對華芯片出口管制措施，正式在世貿組織提起訴訟。商務(wù)部明確表示，中方此舉是希望通過(guò)法律手段來(lái)捍衛自身合法權益，美方這種典型的貿易保護主義做法，已經(jīng)嚴重損害了國際貿易規則，同時(shí)也違背了最基本的經(jīng)濟規律。
同時(shí)，2022年12月30日，中國商務(wù)部官網(wǎng)發(fā)布了《中國禁止出口限制出口技術(shù)目錄（征求公眾意見(jiàn)版）》，向社會(huì )公開(kāi)征求意見(jiàn)。
修訂后《目錄》共139項，其中，禁止出口技術(shù)24項，限制出口技術(shù)115項，合計139項。文件顯示，禁止/限制出口技術(shù)主要涉及互聯(lián)網(wǎng)與信息、光伏與新能源、自動(dòng)駕駛、生物醫藥等，都是我國近年來(lái)取得迅猛的領(lǐng)域。
其中，新增光伏硅片制備技術(shù)、激光雷達系統、用于人的細胞克隆和基因編輯技術(shù)、CRISPR基因編輯技術(shù)、合成生物學(xué)技術(shù)、農作物雜交優(yōu)勢利用技術(shù)、散料裝卸輸送技術(shù)等7項技術(shù)進(jìn)入禁止或限制出口技術(shù)條目。
值得一提的是，中國占全球太陽(yáng)能硅片產(chǎn)量高達97%，由于太陽(yáng)能技術(shù)已成為全球最大的新能源來(lái)源，從美國到印度，許多國家都在努力發(fā)展國內供應鏈，以削弱中國的優(yōu)勢，此舉也凸顯相關(guān)技術(shù)的重要地位。
Trivium China分析師Cosimo Ries表示：“中國太陽(yáng)能行業(yè)的市場(chǎng)領(lǐng)先者無(wú)疑對美國、歐盟和印度在發(fā)展本土太陽(yáng)能制造業(yè)方面的努力感到擔憂(yōu)，因此最新的技術(shù)出口管制很可能是一種回應?！?/p>
中國企業(yè)在過(guò)去十年中一直在開(kāi)發(fā)尖端技術(shù)以生產(chǎn)更大、更薄的太陽(yáng)能硅片，這些硅片將太陽(yáng)能發(fā)電成本降低90%以上?？紤]到中國在晶圓領(lǐng)域的主導地位以及該領(lǐng)域相對較高的進(jìn)入壁壘，中國考慮實(shí)施禁令以避免向海外泄露技術(shù)是合理的。
目前該修訂仍在公開(kāi)征求意見(jiàn)階段，尚未決定。
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