EUV電老虎 臺積電1nm工廠(chǎng)耗電驚人：輕松百億度

臺積電在先進(jìn)工藝上的布局深遠，除了已經(jīng)量產(chǎn)的5nm、4nm之外，明年重點(diǎn)量產(chǎn)3nm，2nm工藝則會(huì )在2025年量產(chǎn)，1nm工藝也在路上了，已經(jīng)開(kāi)始選址工作，2028年有望量產(chǎn)。

1nm芯片工廠(chǎng)的投資驚人，3nm、5nm工廠(chǎng)的建設資金大約是200億美元，1nm工藝的投資計劃高達320億美元，輕松超過(guò)2000億元，成本要比前面的工藝高多了。

不僅如此，1nm工廠(chǎng)的耗電量也會(huì )是個(gè)麻煩，相比3nm工廠(chǎng)年耗電量70億度的水平來(lái)說(shuō)，1nm工廠(chǎng)不會(huì )少于80億度，甚至接近100億度。

這是什么概念？預計到了2028年，這個(gè)1nm工廠(chǎng)的耗電量就相當于全臺2.3%的用電量了，臺積電所有工廠(chǎng)將占到全臺15%以上，影響極大，對供電的要求很高。

為何耗電這么大？一個(gè)重要原因就是1nm需要下代EUV光刻機，總功耗將達到2MW，也就是200萬(wàn)瓦的水平。

如果一天24小時(shí)運轉，那么下代光刻機每天就要消耗4.8萬(wàn)度電，這個(gè)成本對芯片制造企業(yè)來(lái)說(shuō)是非常高的，絕對的電老虎。