三星率先發(fā)布3nm芯片，日本歐盟正在發(fā)力攻克2nm

關(guān)于芯片，大多數小伙伴了解到的，當下最先進(jìn)的生產(chǎn)工藝是5nm，當然也一直流傳臺積電正在研發(fā)3納米，甚至2納米的生產(chǎn)工藝。其中臺積電一直在技術(shù)上處于領(lǐng)先地位，可誰(shuí)也沒(méi)想到的是，三星率先發(fā)布了3nm芯片。

在剛剛過(guò)去不久的IEEE ISSCC國際固態(tài)電路大會(huì )上，三星首發(fā)應用3nm工藝制造的SRAM存儲芯片，將半導體工藝再度推上一個(gè)進(jìn)程，國際固態(tài)電路大會(huì )我在之前的視頻里提到過(guò)好多次，是世界最權威的行業(yè)會(huì )議，所以這也證明的三星的技術(shù)實(shí)力真的很強。

而我國目前在生產(chǎn)工藝上，最厲害的中芯國際也只停留在今年可以實(shí)現7nm試量產(chǎn)的階段，差距十分巨大，再加上外部條件的限制，沒(méi)有辦法拿到EUV光刻機，所以想要實(shí)現趕超三星、臺積電，希望暫時(shí)來(lái)看不大，除非美國解除禁令。

在人類(lèi)半導體發(fā)展史上，日本是非常關(guān)鍵的角色，有過(guò)輝煌，雖然現在提到芯片，好像看不到日本的身影，但實(shí)際上是大家對他們的認知不足。

當下，日本在半導體設備、零部件、原材料等方面，仍然處于世界領(lǐng)先地位，優(yōu)勢十分明顯?，F在世界上最先進(jìn)的EUV光刻機里，也有很多來(lái)自日本的關(guān)鍵設備。例如，光罩檢驗設備，涂覆顯影設備，這兩個(gè)日本做到了100%壟斷，另外寫(xiě)入設備，蝕刻設備，光刻膠等等?？梢哉f(shuō)，日本搞一個(gè)盡量，asml連euv光刻機都生產(chǎn)不出來(lái)。所以必須承認，日本在半導體領(lǐng)域的強大。

另外，日本還有佳能和尼康這2個(gè)光刻機巨頭，雖然光刻機比不上荷蘭asml，但也具有非常強的技術(shù)底蘊。

所以，日本在半導體領(lǐng)域勢必還有一定的野心，那么根據日本相關(guān)媒體的報道，佳能、東京電子、Screen 三家企業(yè) ，將在日本政府的420億日元（3.86億美元）支持下，開(kāi)發(fā)先進(jìn)的芯片生產(chǎn)技術(shù)，目標是實(shí)現2納米或以下的芯片制程工藝，并建造出一條原型生產(chǎn)線(xiàn)。

說(shuō)到這，還得提一下歐盟，今年3月份，歐盟正式發(fā)布《2030 Digital Compass》規劃書(shū)，提出了雄心勃勃的計劃，要加強歐洲半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，并且也要在2nm技術(shù)節點(diǎn)實(shí)現突破。

或許日本和歐盟都是受到了臺積電和三星2nm工藝發(fā)展的刺激，才下決心要大干一番的，因為臺積電在2nm制程上已經(jīng)取得了一定的技術(shù)突破，預計2023年能夠實(shí)現小規模試產(chǎn)，2024年實(shí)現大規模量產(chǎn)。

其實(shí)通過(guò)這些，我們可以很明顯地感受到，因為美國在半導體領(lǐng)域對我國進(jìn)行了近乎瘋狂，并且持續打壓，這也導致世界各國都處于一種相對緊張的狀態(tài)，所以說(shuō)美國這種技術(shù)霸權的做法，終歸是不得人心的。那么，想要徹底擺脫這種恐懼，那就必須實(shí)現高端技術(shù)獨立。所以，日本、歐盟才會(huì )在現在這個(gè)階段制定出發(fā)展計劃，加大投入并扶持自己的優(yōu)秀半導體企業(yè)，研發(fā)更先進(jìn)的半導體技術(shù)。說(shuō)白了，誰(shuí)也不想受制于人。

如果有一天誰(shuí)能打破荷蘭saml的EUV光刻機壟斷，或者是多幾家能夠實(shí)現5nm以下制程的代工廠(chǎng)，對于我們中國來(lái)說(shuō)都是好事兒，會(huì )多很多選擇的余地，更好的維持發(fā)展狀態(tài)。

總之，沒(méi)辦法，現狀就是如此，對于中國半導體來(lái)說(shuō)，已經(jīng)沒(méi)有退路，別人在技術(shù)上的領(lǐng)先優(yōu)勢越來(lái)越大。不過(guò)也沒(méi)關(guān)系，大不了我們少用幾年高端芯片，我相信全國人民都可以等。加油干就完事了，因為事實(shí)證明，從來(lái)沒(méi)有中國人攻克不了的技術(shù)難題。