三星宣布將為中高端機型推出11nm芯片

　　本周一，三星宣布了全新的11nm LPP工藝，它將用于三星后續推出的中高端機型。三星在新聞公告中表示，11nm LLP的性能相比此前的14nm LLP提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。

　　目前三星的14nm LLP芯片主要用于2017年版Galaxy A系列和J系列手機。三星表示，10nm用于旗艦手機，11nm用于中高端，形成差異化，預計2018年上半年在市場(chǎng)投放。與此同時(shí)，三星也成為了市場(chǎng)上最先確認7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年開(kāi)始試產(chǎn)，采用EUV極紫外光刻技術(shù)。

　　三星電子晶圓營(yíng)銷(xiāo)副總裁Ryan Lee表示：“三星已經(jīng)在路線(xiàn)圖中加入了11nm工藝，為多種應用提供了先進(jìn)的選項。此舉意味著(zhù)，三星已經(jīng)完成了全面的芯片工藝路線(xiàn)圖的繪制，在未來(lái)三年，三星將從14nm到11nm，再到10nm，8nm以及7nm。”而根據今年5月份三星宣布的路線(xiàn)圖，他們更長(cháng)遠的目標是做到4nm。