Mentor工具被納入臺積電16納米FinFET制程技術(shù)參考流程

　　Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布它已完成其用于臺積電16納米FinFET制程的數字成套工具。臺積電16納米參考流程包含一些新功能，用于Olympus-SoC™布局與布線(xiàn)系統的16納米設計，以及Calibre^®物理驗證和可制造性設計(DFM)平臺。臺積電和Mentor完成了V0.5設計規則手冊(DRM)及SPICE 16納米FinFET認證，并將繼續進(jìn)行V1.0的認證。

　　“我們與Mentor Graphics緊密協(xié)作，以確定IC實(shí)施流程中要實(shí)現16納米FinFET技術(shù)優(yōu)勢所需的新功能，”臺積電公司設計基礎架構營(yíng)銷(xiāo)事業(yè)部高級主管Suk Lee說(shuō)。“Mentor在之前制程節點(diǎn)提供了穩定的設計支持環(huán)境，包括對多圖案的支持、低功耗設計、光刻檢查、可測試性設計，而新的功能正是建立于之前環(huán)境的基礎之上。”

　　Mentor^® Olympus-SoC布局與布線(xiàn)系統經(jīng)過(guò)增強，可滿(mǎn)足臺積電16納米設計支持與認證要求。支持FinFET設計的創(chuàng )新方法學(xué)有：有圖案密度平面規劃(實(shí)現早期金屬填充密度檢查)、MiM電容器插入(IR降改進(jìn))及對高電阻層布線(xiàn)/優(yōu)化(實(shí)現更好品質(zhì)的結果)。此外，Calibre InRoute™產(chǎn)品還讓Olympus-SoC的客戶(hù)能在設計中于本機調用Calibre DRC/DFM/DP簽核引擎，從而更高效快速地實(shí)現制造閉合。

　　16納米技術(shù)，特別是FinFET晶體管，引發(fā)了對更精確器件和互連寄生參數提取的需要。為確?？蛻?hù)16納米設計的成功，臺積電與Mentor合作，通過(guò)工具認證對Calibre xACT™產(chǎn)品進(jìn)行加強，以提供高精確性、高性能的寄生參數提取。

　　Calibre YieldEnhancer產(chǎn)品在其SmartFill部件中提供了一些新功能，從而簡(jiǎn)化FinFET的填充規則并支持填充ECO流程，這樣就能在滿(mǎn)足高級填充簽核要求的同時(shí)，更快更容易地閉合一項設計。

　　Calibre RealTime集成平臺增加了一項支持：根據SPICE模擬生成的凈電壓進(jìn)行16納米電壓依賴(lài)規則的自動(dòng)檢查，同時(shí)在Synopsys的Laker^®定制設計環(huán)境中編輯版圖。凈電壓在版圖創(chuàng )建和編輯過(guò)程中，被自動(dòng)施加于版圖，從而實(shí)現精確的檢查。Calibre RealTime和Synopsys Laker產(chǎn)品利用OpenAccess開(kāi)放接口以實(shí)現快速流暢的用戶(hù)體驗，以在最少的時(shí)間內產(chǎn)生最佳的定制版圖。

　　“每一個(gè)IC制程節點(diǎn)都帶來(lái)新的挑戰——自從20世紀60年代戈登摩爾提出著(zhù)名的摩爾定律以來(lái)就一直是這樣，”Mentor Graphics公司副總裁兼Design-to-Silicon總經(jīng)理Joseph Sawicki說(shuō)。“但是當我們逼近CMOS尺寸的極限時(shí)，每一新節點(diǎn)都需要更多的創(chuàng )新和與整個(gè)生態(tài)系統更緊密的協(xié)作，才能保持我們行業(yè)健康的發(fā)展步伐。Mentor和臺積電再一次迎難而上，及時(shí)給行業(yè)帶來(lái)了需要的技術(shù)。”