南華早報：中國計劃利用粒子加速器制造芯片！

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據新加坡《南華早報》(SCMP)報道，中國計劃采用一種創(chuàng )新的方法，利用粒子加速器制造芯片處理器，有可能成為先進(jìn)芯片制造的全球領(lǐng)導者?！赌先A早報》表示，這種方法旨在避開(kāi)傳統光刻機的限制和美國對EUV技術(shù)的制裁，可能會(huì )重塑半導體行業(yè)的格局。

由清華大學(xué)領(lǐng)導的中國研究小組正在利用粒子加速器開(kāi)發(fā)一種獨特的EUV光源，目標是避開(kāi)傳統光刻機的限制。擬議中的粒子加速器大約有兩個(gè)籃球場(chǎng)那么大，周長(cháng)在100-150米之間，將為芯片制造提供高質(zhì)量的特定波長(cháng)的光源。

斯坦福大學(xué)的趙武教授介紹了其基礎技術(shù)——穩態(tài)微束(SSMB)。SSMB捕獲帶電粒子在加速過(guò)程中釋放的能量，將其轉化為連續的純EUV光源。與目前流行的ASML EUV方法相比，SSMB具有更高的功率和效率，有可能降低芯片生產(chǎn)成本。

團隊成員潘志龍教授在2022年1月的一次學(xué)術(shù)研討會(huì )上說(shuō):“清華大學(xué)已經(jīng)設計出了一個(gè)SSMB-EUV光源，設計的EUV功率高于1kW，一些關(guān)鍵技術(shù)已經(jīng)準備就緒?！?/span>

這一雄心勃勃的項目與專(zhuān)注于芯片制造機器小型化的阿斯麥等公司的戰略形成了鮮明對比。相反，中國的愿景是建立一個(gè)巨大的工廠(chǎng)，里面有數十臺光刻機，都圍繞著(zhù)一個(gè)加速器。該設計旨在實(shí)現具有競爭力的制造工藝(如2nm及以上)，這些工藝將用于制造高性能芯片，而無(wú)需使用傳統的極紫外(EUV)光刻機。

清華大學(xué)的項目負責人唐傳祥教授表示：“作為一種全新的光源，該技術(shù)的實(shí)驗驗證已經(jīng)實(shí)現。但有必要建立一個(gè)在EUV波段工作的固體SSMB光源研究設備，然后我們可以利用該設備供給工業(yè)界使用，并完善SSMB技術(shù)?！?/span>

據報道，清華大學(xué)的團隊在這一領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展，現在正在為該項目的建設尋找地點(diǎn)。然而，實(shí)現基于SSMB的EUV光刻機的旅程仍然漫長(cháng)而充滿(mǎn)挑戰。唐傳祥教授強調需要不斷創(chuàng )新和跨行業(yè)合作來(lái)開(kāi)發(fā)一個(gè)功能齊全的光刻系統。

“在我們獨立開(kāi)發(fā)EUV光刻機之前還有很長(cháng)的路要走，但基于SSMB的EUV光源為我們提供了一種替代現有技術(shù)的選擇，需要基于SSMB EUV光源的持續技術(shù)創(chuàng )新，并與上下游行業(yè)合作，才有機會(huì )構建可用的光刻系統?！?/span>