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非制冷紅外焦平面陣列電路設計

  •   針對SOI二極管型非制冷紅外探測器,設計了一種新型讀出電路(ROIC)。該電路采用柵調制積分(GMI)結構,將探測器輸出電壓信號轉化為電流信號進(jìn)行積分。設計了虛擬電流源結構,消除線(xiàn)上壓降(IR drop)對信號造成的影響。電路采用0.35μm 2P4M CMOS工藝進(jìn)行設計,5V電源電壓供電。當探測器輸出信號變化范圍為0~5mV時(shí),讀出電路仿真結果表明:動(dòng)態(tài)輸出范圍2V,線(xiàn)性度99.68%,信號輸出頻率5MHz,功耗116mW。
  • 關(guān)鍵字: 紅外  ROIC  CMOS  SOI  GMI  201404  

東芝推出智能手機專(zhuān)用射頻天線(xiàn)開(kāi)關(guān)

  • 東京—東芝公司(TOKYO:6502)日前宣布開(kāi)發(fā)出一種帶MIPI?RFFE接口的SP10T射頻天線(xiàn)開(kāi)關(guān),其插入損耗堪稱(chēng)智能手機市場(chǎng)業(yè)界最低,尺寸堪稱(chēng)業(yè)界最小。該產(chǎn)品即日起交付樣品。
  • 關(guān)鍵字: 東芝  射頻天線(xiàn)  SOI  

不懈追尋科技引領(lǐng)智能生活理念

  • 電子技術(shù)的變革,讓人們的生活不斷智能化,智能化手機,電視,家居,汽車(chē)甚至機器人和人體輔助設備等。意法半導體追尋的理念就是科技引領(lǐng)智能生活,意法半導體執行副總裁兼數字融合事業(yè)部總經(jīng)理GIAN LUCA BERTINO,論述ST在智能電視和智能化家居方面的企業(yè)戰略及技術(shù)演進(jìn)。
  • 關(guān)鍵字: ST  機頂盒  多媒體處理器  FD-SOI  

FD-SOI: 下一代NovaThor平臺的助力器

  • 隨著(zhù)智能手機功能最近不斷升級演化,消費者的期望值日益攀升。速度更快的多核高主頻CPU處理器、令人震撼的3D圖形、全高清多媒體和高速寬帶現已成為高端手機的標配。同時(shí),消費者還期望手機纖薄輕盈,電池續航能力至少
  • 關(guān)鍵字: 助力  平臺  NovaThor  下一代  FD-SOI:  

下一代FD-SOI制程將跳過(guò)20nm直沖14nm

  •   在一場(chǎng)近日于美國舊金山舉行的FD-SOI (fully depleted silicon on insulator)技術(shù)研討會(huì )上,產(chǎn)業(yè)組織SOI Consortium所展示的文件顯示, FD-SOI 制程技術(shù)藍圖現在直接跳過(guò)了20nm節點(diǎn),直接往14nm、接著(zhù)是10nm發(fā)展。   根據SOI Consortium執行總監Horacio Mendez在該場(chǎng)會(huì )議上展示的投影片與評論指出,14nm FD-SOI技術(shù)問(wèn)世的時(shí)間點(diǎn)約與英特爾 (Intel)的14nmFinFET相當,而兩者的性能表現差不多,F
  • 關(guān)鍵字: ST  FD-SOI  10nm  

ST宣布les晶圓廠(chǎng)即將投產(chǎn)28納米FD-SOI

  •   12月13日,意法半導體宣布其在28納米 FD-SOI 技術(shù)平臺的研發(fā)上又向前邁出一大步,即將在位于法國Crolles的12寸(300mm)晶圓廠(chǎng)投產(chǎn)該制程技術(shù),這證明了意法半導體以28納米技術(shù)節點(diǎn)提供平面全耗盡技術(shù)的能力。在實(shí)現極其出色的圖形、多媒體處理性能和高速寬帶連接功能的同時(shí),而不犧牲電池的使用壽命的情況下,嵌入式處理器需具有市場(chǎng)上最高的性能及最低的功耗,意法半導體28納米技術(shù)的投產(chǎn)可解決這一挑戰,滿(mǎn)足多媒體和便攜應用市場(chǎng)的需求。   FD-SOI技術(shù)平臺包括全功能且經(jīng)過(guò)硅驗證的設計平臺和設
  • 關(guān)鍵字: ST  晶圓  FD-SOI  

意法宣布晶圓廠(chǎng)即將投產(chǎn)28納米FD-SOI制程技術(shù)

  • 橫跨多重電子應用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導體供應商意法半導體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱(chēng)ST;紐約證券交易所代碼:STM)宣布其在28納米 FD-SOI技術(shù)平臺的研發(fā)上又向前邁出一大步,即將在位于法國Crolles的12寸(300mm)晶圓廠(chǎng)投產(chǎn)該制程技術(shù),這證明了意法半導體以28納米技術(shù)節點(diǎn)提供平面全耗盡技術(shù)的能力。
  • 關(guān)鍵字: 意法  納米  FD-SOI  

華潤上華第二代200V SOI工藝實(shí)現量產(chǎn)

  •   華潤微電子有限公司(“華潤微電子”)附屬公司華潤上華科技有限公司(“華潤上華”)近日宣布,繼2010年首顆200V SOI CDMOS產(chǎn)品量產(chǎn)后,日前更高性?xún)r(jià)比的第二代SOI工藝實(shí)現量產(chǎn)。該工藝是一種集成多種半導體器件的集成電路制造技術(shù),由華潤上華在2010年實(shí)現量產(chǎn)的一代工藝基礎上作了工藝升級,達到更高的性?xún)r(jià)比,這在國內尚屬首家。第二代工藝的推出顯示了華潤上華已經(jīng)全面掌握了SOI工藝技術(shù),具備了根據市場(chǎng)需求持續開(kāi)發(fā)具有自主知識產(chǎn)權的SOI工藝技術(shù)能力。
  • 關(guān)鍵字: 華潤微電子  半導體  SOI  

華潤上華200V SOI工藝開(kāi)發(fā)持續創(chuàng )新,產(chǎn)品再上新臺階

  • 華潤微電子有限公司(“華潤微電子”)附屬公司華潤上華科技有限公司(“華潤上華”)近日宣布,繼2010年首顆200V SOI CDMOS產(chǎn)品量產(chǎn)后,日前更高性?xún)r(jià)比的第二代SOI工藝實(shí)現量產(chǎn)。該工藝是一種集成多種半導體器件的集成電路制造技術(shù),由華潤上華在2010年實(shí)現量產(chǎn)的一代工藝基礎上作了工藝升級,達到更高的性?xún)r(jià)比,這在國內尚屬首家。
  • 關(guān)鍵字: 華潤上華  SOI   CDMOS  

意法委托GLOBALFOUNDRIES代工FD-SOI芯片

  • 橫跨多重電子應用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導體供應商意法半導體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱(chēng)ST;紐約證券交易所代碼:STM)宣布,引領(lǐng)全球半導體技術(shù)升級的半導體代工廠(chǎng)商 GLOBALFOUNDRIES將采用意法半導體專(zhuān)有的 FD-SOI(Fully Depleted Silicon-on-Insulator,全耗盡絕緣體上硅)技術(shù)為意法半導體制造28納米和20納米芯片。當今的消費者對智能手機和平板電腦的期望越來(lái)越高,要求既能處理精美的圖片,支持多媒體和高速寬帶上網(wǎng)功能,同時(shí)又不能犧牲電池壽命。在設
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利用200V SOI工藝有效降低LED TV背光方案成本

  • CCFL和LED是當前LCD僅有的兩種背光源,CCFL是傳統的背光方式,而LED作為L(cháng)CD背光的后起之秀,正在迅速搶占LCD背光市場(chǎng)。電視機廠(chǎng)商和面板廠(chǎng)商之所以積極推動(dòng)LED背光液晶電視,原因在于全球各國的耗電量規定以及其環(huán)保
  • 關(guān)鍵字: TV  背光  方案  成本  LED  降低  200V  SOI  工藝  有效  利用  

基于SOI高壓集成技術(shù)的電平位移電路設計

  • 隨著(zhù)智能功率IC的發(fā)展.其應用領(lǐng)域和功能都在不斷地擴展。而作為智能功率IC中的重要一類(lèi)柵驅動(dòng)IC在功率開(kāi)關(guān)、顯示驅動(dòng)等領(lǐng)域得到廣泛應用。在柵驅動(dòng)電路中需要電平位移電路來(lái)實(shí)現從低壓控制輸入到高壓驅動(dòng)輸出的電平轉
  • 關(guān)鍵字: 電平  位移  電路設計  技術(shù)  集成  SOI  高壓  基于  

基于SOI和體硅的FinFET對比研究

  • 隨著(zhù)半導體產(chǎn)業(yè)向22納米技術(shù)節點(diǎn)外觀(guān)的發(fā)展,一些制造商正在考慮從平面CMOS晶體管向三維(3D)FinFET器件結構的過(guò)渡。相對于平面晶體管,FinFET元件提供更好的渠道控制,因此,降低短通道效應。當平面晶體管的柵極在溝道之上,FinFET的柵極環(huán)繞溝道,從雙向提供靜電控制。
  • 關(guān)鍵字: SOI  體硅  FinFET  

ARM發(fā)布45納米SOI測試結果,最高節能40%

  •   ARM公司近日在于加州福斯特市舉行的IEEE SOI大會(huì )上發(fā)布了一款絕緣硅(silicon-on-insulator,SOI)45納米測試芯片的測試結果。結果表明,相較于采用傳統的體效應工藝(bulk process)進(jìn)行芯片制造,該測試芯片顯示出最高可達40%的功耗節省的可能性。這一測試芯片是基于A(yíng)RM1176™ 處理器,能夠在SOI和體效應微處理器實(shí)施之間進(jìn)行直接的比較。此次發(fā)布的結果證實(shí)了在為高性能消費設備和移動(dòng)應用設計低功耗處理器時(shí),SOI是一項取代傳統體效應工藝的可行技術(shù)。  
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ARM制成45nm SOI測試芯片 功耗降低40%

  •   據ARM的研究人員的報道,公司制成的45nm SOI測試芯片和普通相同尺寸工藝相比,功耗可減少40%。該結果在近期的IEEE SOI Conference上發(fā)表。
  • 關(guān)鍵字: ARM  45nm  SOI  測試芯片  
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