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asml 文章 進(jìn)入asml技術(shù)社區
未來(lái)三年內存價(jià)格將持續攀升
- DRAMeXchange傳來(lái)噩耗稱(chēng)內存芯片的價(jià)格在未來(lái)三年內將持續走高。這家市場(chǎng)分析公司將內存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據該公司的分析師表示，2001-2003年，內存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復為持續盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現虧損期，因此他們預計從2010年開(kāi)始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內存業(yè)者將再度扭虧為盈，進(jìn)入新的一輪三年盈利期。 不過(guò)內存業(yè)者仍然面臨另外一個(gè)重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
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ASML第一季訂單大幅超越預期 對半導體行業(yè)復蘇抱信心
- 荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營(yíng)收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調查得到的分析師預估值7.13億歐元。 第一季機器訂單總量為50部，總價(jià)值為10億歐元，路透調查預估分別為43部和10億歐元。 首席執行官Eric Meurice在聲明中稱(chēng)：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預計第二季訂單水準類(lèi)似，這證實(shí)了半導體行業(yè)正處于上升周期。” 分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預期的風(fēng)向標。 第一季凈利為1.07億歐元，路透調查得到的分析
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ASML第一季訂單量繼續增長(cháng)
- 荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續好轉，投資者將詳細審視該公司業(yè)績(jì)，以尋找芯片行業(yè)結構性復蘇的跡象。 分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績(jì)預估的風(fēng)向標。 根據路透調查，第一季半導體光刻設備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。 ASML是全球最大的光刻設備生產(chǎn)商，其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。 分析師預計ASML第一季凈利為9,900萬(wàn)歐元(1.324億美元)，營(yíng)收為7.13億歐元。15位分析師的營(yíng)收預估范圍為5.90億
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去年光刻機市場(chǎng)銷(xiāo)量總體下跌47%
- 據 Information Network報道，繼2008年銷(xiāo)量下跌25%之后，2009年全球半導體光刻工具的銷(xiāo)量進(jìn)一步下跌了47%。按銷(xiāo)售數量計算，去年光刻工具的銷(xiāo)量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機的銷(xiāo)量下降的最嚴重，售出的數量下跌了70%。 去年光刻機銷(xiāo)售營(yíng)收最高的是ASML公司，其所占的市場(chǎng)營(yíng)收份額達到50%，而尼康公司則在銷(xiāo)售的光刻機數量方面保持領(lǐng)先，其售出的光刻機數量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷(xiāo)售營(yíng)收和銷(xiāo)售機臺數量上均排在頭名。
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半導體能支撐未來(lái)的發(fā)展
- 相比于2009年今年全球半導體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會(huì )上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂(yōu)，認為雖然半導體業(yè)正在復蘇的路上，但是制造商們仍缺少激情，不肯繼續大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。 恐怕更大的擔心來(lái)自全球半導體業(yè)間的兼并與重組到來(lái)，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進(jìn)步。 IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復蘇，但是在半導體業(yè)運營(yíng)中仍面臨成
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臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝
- TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個(gè)取得這項設備的客戶(hù)伙伴之一。 這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(chǎng)(GigaFab™)-臺積十二廠(chǎng)，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠(chǎng)發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專(zhuān)業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。 相較于現行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長(cháng)當作光源，超
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半導體設備行業(yè)：全面走出陰影
- 10月是收獲的季節，對全球半導體設備行業(yè)來(lái)說(shuō)，這句話(huà)同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟危機后，各大設備公司10-11月公布的季度報表開(kāi)始全面飄紅。 Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財報顯示公司已扭虧為盈，凈收入實(shí)現1.38億美元，而上季虧損為5500萬(wàn)美元。其Q4銷(xiāo)售額為15.3億美元，其中半導體設備銷(xiāo)售占6.56億美元，公司同時(shí)已收到了6.29億美元的半導體設備新訂單。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因為在10月14日公布的09
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光刻巨頭ASML四季度來(lái)首次盈利
- 隨著(zhù)芯片廠(chǎng)商設備訂單的恢復，歐洲最大的半導體設備制造商ASML報出了2930萬(wàn)美元的凈利潤，為四個(gè)季度來(lái)首次盈利。 ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤為1970萬(wàn)歐元(2930萬(wàn)美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬(wàn)歐元的利潤水平。不過(guò)這超過(guò)了彭博社調查7位分析師所得出的1060萬(wàn)歐元的市場(chǎng)預期。 該公司首席執行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設備可以讓芯片客戶(hù)生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著(zhù)客戶(hù)在設備投資上恢復投入，該公司本季度銷(xiāo)售額將
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ASML：客戶(hù)下單增溫 微顯影設備2010年成長(cháng)30%
- 半導體市場(chǎng)回溫，ASML市場(chǎng)智庫總監Antonio Mesquida Küsters表示，客戶(hù)對設備下單需求增溫，他引用研究機構預測，2010年半導體微顯影設備可望成長(cháng)30%至少達到40億歐元。尤其晶圓代工領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)18個(gè)月的壓低資本支出，現在業(yè)者更積極投資擴充產(chǎn)能，他個(gè)人亦樂(lè )見(jiàn)臺積電積極擴充產(chǎn)能，滿(mǎn)足客戶(hù)投單需求的做法。 Küsters表示，2008 年是變動(dòng)相當劇烈的一年，回顧2007年時(shí)研究機構還對2008年奧運所帶來(lái)的商機相當樂(lè )觀(guān)，孰料DRAM價(jià)格快速崩落約65%，緊
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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設備
- 全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶(hù)訂單增加相當多，但主是來(lái)自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續延續。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤式微顯影機種來(lái)看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來(lái)將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶(hù)訂單，對ASML來(lái)說(shuō)2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
- 關(guān)鍵字： ASML 38納米 EUV設備
EUV: 一場(chǎng)輸不起的賭局
- 2010年， ASML將有5臺最先進(jìn)的EUV設備整裝發(fā)往全球的5家客戶(hù)。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統將發(fā)送給3家頂級存儲器廠(chǎng)商和2家頂級邏輯廠(chǎng)商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專(zhuān)為EUV新建的大樓中忙碌，在設備出廠(chǎng)前，解決正在發(fā)生的問(wèn)題，并預測著(zhù)各種可能發(fā)生的問(wèn)題及解決方案。 人們談?wù)揈UV的各種技術(shù)問(wèn)題已歷時(shí)數年，因為其波長(cháng)較目前的193nm縮短10倍以上，EUV一直是通往22nm的實(shí)力派參賽選手之一。與此同時(shí)，延伸immersion技術(shù)，用其
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EUV蓄勢待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學(xué)系統
- 德國Carl Zeiss SMT AG已向半導體設備商ASML出貨首臺EUV光學(xué)系統。該公司已使EUV光學(xué)系統達到了生產(chǎn)要求。 光學(xué)系統是EUV設備的核心模塊，首臺EUV設備預計將在2010年出貨。幾周前，美國公司Cymer完成了EUV光源的開(kāi)發(fā)，EUV光源是EUV光刻設備另一個(gè)關(guān)鍵模塊。該技術(shù)將使芯片制造商進(jìn)一步縮小芯片的特征尺寸，提高生產(chǎn)效率。 據Carl Zeiss 介紹，目前出貨的光學(xué)系統已經(jīng)研發(fā)了約15年。
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ASML一體化光刻解決方案延續摩爾定律
- ASML集團公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會(huì )上發(fā)布多項全新光刻設備，讓芯片制造商能夠繼續縮小半導體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調控機制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩定性，能夠優(yōu)化和穩定制造工藝。 半導體行業(yè)發(fā)展的推動(dòng)力量來(lái)自小型化趨勢，以降低生產(chǎn)成本，同時(shí)提高器件性能。不過(guò)，隨著(zhù)半導體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應
- 關(guān)鍵字： ASML FlexRay BaseLiner Eclipse
ASML的上半年訂單落空 預期下半年有望回復
- 按全球第一大光刻設備供應商ASML公司的預估，其Q1的銷(xiāo)售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達80%。 ASML預計Q2的銷(xiāo)售額在2.1-2.3億歐元間，因為受工藝制程的進(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì )在今年下半年開(kāi)始復蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì )要求購買(mǎi)新的或者升級現有的設備。 如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購買(mǎi)設備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶(hù)。預計2009年會(huì )加速工藝制
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Gartner發(fā)布2008年設備商排名 ASML取代TEL排名第二
- Gartner近日發(fā)布2008年半導體設備商排名，Applied Materials仍位居榜首。 去年，盡管Applied Materials的銷(xiāo)售收入減少39.8%，但市場(chǎng)份額占13.2%。 ASML取代了TEL位居第二。ASML的先進(jìn)技術(shù)使其193nm沉浸式光刻設備獲得良好的需求。Teradyne入圍前十，同時(shí)也摘得測試市場(chǎng)中的桂冠。 總體來(lái)看，2008年全球半導體設備支出總額為307億美元，同比減少31.7%。從分類(lèi)市場(chǎng)來(lái)看，晶圓廠(chǎng)設備收入減少32.8%，后端設備減少27.2%
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