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ASML正式承認,芯片技術(shù)開(kāi)始轉移

  • 在遭遇了西方的芯片技術(shù)封鎖后,我國自主研發(fā)高端光刻機的呼聲越來(lái)越高,雖然近日來(lái)很多權威人士對這樣的做法潑來(lái)了冷水,但是國際巨頭ASML卻對國產(chǎn)高端光刻機的研發(fā)充滿(mǎn)了“信心”。眾所周知,我國在光刻機研發(fā)領(lǐng)域起步較晚,相比于西方仍然具有較大差距,并且根據數據統計,一臺EUV光刻機價(jià)值上億美元,并且零件數量高達上萬(wàn)件,分別來(lái)自全球5000多家供應商。更不利的是,美國、日本、德國都是光刻機核心零件的主要供應國,而目前它們對中國的科技發(fā)展態(tài)度并不友好,所以這也給國產(chǎn)光刻機零件的供應增添了不少難度。即便如此,國產(chǎn)光刻
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臺積電、ASML陸續加入“美國”半導體聯(lián)盟

  • 近日,美國以為了振興制造業(yè)為由,組成了半導體聯(lián)盟,但是明眼人都能看得出來(lái),此舉明顯是針對國產(chǎn)芯片制造業(yè)崛起的手段。對于半導體聯(lián)盟,全球芯片巨頭也紛紛站隊“美國”,包括高通、臺積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導體廠(chǎng)商陸續宣布加入。放眼望去,儼然一副對國產(chǎn)芯片形成包圍圈的樣子。不過(guò),所謂半導體聯(lián)盟,實(shí)際是暗流涌動(dòng)。?以“美國”為首的半導體聯(lián)盟暗流涌動(dòng)“美國”對我們科技產(chǎn)業(yè)的壓制,在近些年一直沒(méi)有停止,甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下,對華為和國產(chǎn)芯片進(jìn)行壓制,完全是“
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ASML CEO:施加限制將使中國搞出替代產(chǎn)品 我們會(huì )徹底失去該市場(chǎng)

  • 繼本月15日就EUV光刻機出口管制發(fā)表看法后,荷蘭ASML(阿斯麥)CEO溫彼得(Peter Wennink)在23日再次表達了自己的意見(jiàn)。他強調的一個(gè)重點(diǎn)是,這樣做只會(huì )加快中國自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認為知識產(chǎn)權保護力度要保持,但他并不認可切斷高端技術(shù)出口的做法?!叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊袌?chǎng)拒之門(mén)外,這將迫使他們爭取技術(shù)自主權……在15年的時(shí)間里,他們自己將能夠做出所有的這些東西,而且他們的市場(chǎng)(針對歐洲供應商的市場(chǎng))將徹底消失?!睖乇说迷诎⑺果溈偛克诘亍商m費爾德霍芬與媒體交流時(shí)時(shí)作出該表
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ASML:如美國繼續對華“卡脖子”,歐洲芯片的中國市場(chǎng)會(huì )消失

  • 據美媒Politico報道,荷蘭光刻機制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示,美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導體行業(yè),“15年之內,中國將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時(shí),歐洲供應商的中國市場(chǎng)將會(huì )消失?!薄 貙幙苏f(shuō),歐盟不應根據美國戰略而限制高端技術(shù)向中國出口,這樣會(huì )加速幫助中國實(shí)現“科技自主”?! 〗陙?lái),隨著(zhù)美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓,歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國許可,無(wú)法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤下降明顯,其中原因是歐洲對
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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

  •   近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱(chēng)“除了EUV光刻機,中芯國際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號的光刻機?!钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現有協(xié)議相關(guān)?! 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普,EUV和DUV到底有啥區別呢?EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思,而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思,通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實(shí)際上也是如此?! SML澄清與中
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ASML 5nm光刻機搶破頭:臺積電一開(kāi)口就18臺 三星英特爾急了

  • 如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴重影銷(xiāo)到了科技數碼產(chǎn)業(yè),就連汽車(chē)產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿(mǎn)足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱(chēng)臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進(jìn)的極紫外光刻機需求,如此之大的需求量可以說(shuō)是史上的天量,三星英特爾急了。ASML光刻機搶破頭  因為目前全球能夠提供最先進(jìn)極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家,在剛剛過(guò)去的2020年當中,ASML面向全球客戶(hù)一共才交付了31臺極紫外光刻機,也就是說(shuō)臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話(huà),就占盡了全球半導體新工藝產(chǎn)能的半數以上還要多?! 《鴮τ谡诓?/li>
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中國芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司

  • 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機,中國大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺?! ∮腥苏f(shuō)阿斯麥是唯一一個(gè)能讓臺積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機,是半導體工廠(chǎng)生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒(méi)有刀,再好的師傅也雕不出來(lái)花?! ∪绻腥魏螐S(chǎng)商的光刻機設備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻,廠(chǎng)商就要付給他們以小時(shí)計的美金?! ≡?jīng),某上市公司的光刻機出問(wèn)題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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全球最大光刻機廠(chǎng)CEO:拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢

  • 拜登上任在即,他會(huì )緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示,即使總統換屆,兩國在包括光刻機在內的半導體領(lǐng)域,仍將出現進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開(kāi)源指令集架構RISC-V可能會(huì )讓中國芯片自主「彎道超車(chē)」?  離美國新任總統拜登的上任越來(lái)越近了?! ≡谶^(guò)去川普任職期內,中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹膲毫?,其最新價(jià)值約2億美元的光刻機已停止向中國銷(xiāo)售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

  •   今年7月,在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展,中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》(Nano Letters)上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報》(NanoLetters)。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)  消息一經(jīng)發(fā)出,外界一片沸騰,一
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荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破!中國訂購的EUV光刻機呢?

  •   據TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報道,近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)又送來(lái)一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作?! 私?,先進(jìn)制程的光刻機對于曝光設備的分辨率要求更高。與此同時(shí),ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃,預計相應的曝光設備全線(xiàn)準備好之后,會(huì )在2022年實(shí)現商業(yè)化?! ∪欢?,這家荷蘭企業(yè)的光刻機制造技術(shù)卻變得重大突破之際,我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉,中芯
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阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

  • 14日訊,《科創(chuàng )板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線(xiàn)圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機器匹配套準精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機?ASML華裔工程師:天方夜譚

  • 9月16日,中國科學(xué)院院長(cháng)白春禮在國新辦發(fā)布會(huì )上介紹稱(chēng),“率先行動(dòng)”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱(chēng),從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計劃第二階段。對此,首先要進(jìn)行體制機制改革。他稱(chēng),目前已經(jīng)設立了創(chuàng )新研究院、卓越創(chuàng )新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機構,目的是根據科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評價(jià)、分類(lèi)資源配置?!斑@個(gè)工作還沒(méi)有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類(lèi)機構全部做完,
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臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm,ASML就近設立培訓中心

  • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶(hù),累計已經(jīng)購買(mǎi)了 30 臺 EUV 設備。日前,ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓中心后,也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮臺灣臺南,成立 EUV 技術(shù)培訓中心。一臺EUV系統需要50個(gè)工程師操作一臺造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統,重量高達 180&nbs
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Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛摩爾定律

  • 日前,中國國際半導體技術(shù)大會(huì )(CSTIC)在上海開(kāi)幕,為期19天,本次會(huì )議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示,截至2019年第四季度,ASML當年共售出53臺EUV NXE:3400系列EUV光刻機,使用EUV機器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達到1000萬(wàn)片。他說(shuō),EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導體技術(shù):產(chǎn)能大漲600%

  • 提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設備。不過(guò)ASML不只是光刻機厲害,今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000,適用于5nm及更先進(jìn)工藝,使得產(chǎn)能大漲600%。隨著(zhù)制程工藝不斷提升,晶圓的制造也越來(lái)越復雜,這也會(huì )導致晶圓中的錯誤更多,HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統,內部也有復雜的光電子系統,能夠產(chǎn)生、控制多個(gè)電子束,然后根據反射回來(lái)的電子束成像來(lái)分析晶圓質(zhì)量,并有
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