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三星大幅減少未來(lái)生產(chǎn)NAND所需光刻膠使用量

  • 據韓媒報道,稱(chēng)三星電子在生產(chǎn) 3D NAND 閃存方面取得重大突破,在其中光刻工藝中大幅縮減光刻膠(PR)用量,降幅達到此前用量的一半。報道稱(chēng),此前每層涂層需要7-8cc的光刻膠,而三星通過(guò)精確控制涂布機的轉速(rpm)以及優(yōu)化PR涂層后的蝕刻工藝,現在只需4-4.5cc。此外,三星使用了更厚的氟化氪(KrF)光刻膠,通常情況下一次工藝形成1層涂層,而使用更厚的光刻膠,三星可以一次形成多個(gè)層,從而提高工藝效率,但同時(shí)也有均勻性問(wèn)題。東進(jìn)半導體一直是三星KrF光刻膠的獨家供應商,為三星第7代(11微米)和第
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三星將出售西安芯片廠(chǎng)舊設備及產(chǎn)線(xiàn)

  • 據韓媒報道,三星近期將開(kāi)始銷(xiāo)售前端和后端生產(chǎn)線(xiàn)的舊設備,其中包括位于中國西安的NAND工廠(chǎng)。報道稱(chēng),三星近期正在半導體部門(mén)(DS)實(shí)施大規模成本削減和產(chǎn)線(xiàn)調整,并正在考慮出售其中國半導體生產(chǎn)線(xiàn)的舊設備。預計出售程序將于明年正式開(kāi)始,銷(xiāo)售的設備大部分是100級3D NAND設備。自去年以來(lái),三星電子一直致力于將其西安工廠(chǎng)的工藝轉換為200層工藝。
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消息稱(chēng)三星下代 400+ 層 V-NAND 2026 年推出,0a DRAM 采用 VCT 結構

  •  10 月 29 日消息,《韓國經(jīng)濟日報》當地時(shí)間昨日表示,根據其掌握的最新三星半導體存儲路線(xiàn)圖,三星電子將于 2026 年推出的下代 V-NAND 堆疊層數超過(guò) 400,而預計于 2027 年推出的 0a nm DRAM 則將采用 VCT 結構。三星目前最先進(jìn)的 NAND 和 DRAM 工藝分別為第 9 代 V-NAND 和 1b nm(12 納米級)DRAM。報道表示三星第 10 代(即下代) V-NAND 將被命名為 BV(Bonding Vertical) NAND,這是因為這代產(chǎn)品將調
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TrendForce:預計 Q4 NAND Flash 合約價(jià)將下調 3% 至 8%

  • IT之家?10 月 15 日消息,根據 TrendForce 集邦咨詢(xún)最新調查,NAND Flash 產(chǎn)品受 2024 年下半年旺季不旺影響,wafer 合約價(jià)于第三季率先下跌,預期第四季跌幅將擴大至 10% 以上。IT之家注意到,模組產(chǎn)品部分,除了 Enterprise SSD 因訂單動(dòng)能支撐,有望于第四季小漲 0% 至 5%;PC SSD 及 UFS 因買(mǎi)家的終端產(chǎn)品銷(xiāo)售不如預期,采購策略更加保守。TrendForce 預估,第四季 NAND Flash 產(chǎn)品整體合約價(jià)將出現季減 3% 至
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臺積電OIP推3D IC設計新標準

  • 臺積電OIP(開(kāi)放創(chuàng )新平臺)于美西當地時(shí)間25日展開(kāi),除表?yè)P包括力旺、M31在內之業(yè)者外,更計劃推出3Dblox新標準,進(jìn)一步加速3D IC生態(tài)系統創(chuàng )新,并提高EDA工具的通用性。 臺積電設計構建管理處負責人Dan Kochpatcharin表示,將與OIP合作伙伴一同突破3D IC架構中的物理挑戰,幫助共同客戶(hù)利用最新的TSMC 3DFabric技術(shù)實(shí)現優(yōu)化的設計。臺積電OIP生態(tài)系統論壇今年由北美站起跑,與設計合作伙伴及客戶(hù)共同探討如何通過(guò)更深層次的合作,推動(dòng)AI芯片設計的創(chuàng )新。 Dan Kochpa
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三星電子開(kāi)發(fā)出其首款基于第八代V-NAND的車(chē)載SSD

  • 三星電子今日宣布成功開(kāi)發(fā)其首款基于第八代V-NAND技術(shù)的PCIe 4.0車(chē)載SSD。三星新款AM9C1車(chē)載SSD憑借行業(yè)前沿的速度和更高的可靠性,成為適配車(chē)載應用端側人工智能功能的解決方案。三星新款256GB AM9C1車(chē)載SSD相比前代產(chǎn)品AM991,能效提高約50%,順序讀寫(xiě)速度分別高達4,400MB/s和400MB/s。三星半導體基于第八代V-NAND技術(shù)的車(chē)載SSD AM9C1三星電子副總裁兼存儲器事業(yè)部汽車(chē)業(yè)務(wù)負責人Hyunduk Cho表示:“我們正在與全球自動(dòng)駕駛汽車(chē)廠(chǎng)商合作,為這些企業(yè)提
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三星首款!第八代V-NAND車(chē)載SSD發(fā)布:讀取4400MB/s

  • 9月24日消息,今日,三星電子宣布成功開(kāi)發(fā)其首款基于第八代V-NAND 技術(shù)的PCIe 4.0車(chē)載SSD——AM9C1。相比前代產(chǎn)品AM991,AM9C1能效提高約50%,順序讀寫(xiě)速度分別高達4400MB/s和400MB/s。三星表示,AM9C1能滿(mǎn)足汽車(chē)半導體質(zhì)量標準AEC-Q1003的2級溫度測試標準,在-40°C至105°C寬幅的溫度范圍內能保持穩定運行。據介紹,AM9C1采用三星5nm主控,用戶(hù)可將TLC狀態(tài)切換至SLC模式,以此大幅提升讀寫(xiě)速度。其中,讀取速度高達4700MB/s,寫(xiě)入速度高達1
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2024二季度NAND Flash出貨增長(cháng)放緩,AI SSD推動(dòng)營(yíng)收季增14%

  • 根據TrendForce集邦咨詢(xún)最新調查,由于Server(服務(wù)器)終端庫存調整接近尾聲,加上AI推動(dòng)了大容量存儲產(chǎn)品需求,2024年第二季NAND Flash(閃存)價(jià)格持續上漲,但因為PC和智能手機廠(chǎng)商庫存偏高,導致第二季NAND Flash位元出貨量季減1%,平均銷(xiāo)售單價(jià)上漲了15%,總營(yíng)收達167.96億美元,較前一季增長(cháng)了14.2%。第二季起所有NAND Flash供應商已恢復盈利狀態(tài),并計劃在第三季擴大產(chǎn)能,以滿(mǎn)足AI和服務(wù)器的強勁需求,但由于PC和智能手機今年上半年市場(chǎng)表現不佳,
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TrendForce:今年 Q2 NAND 閃存出貨增長(cháng)放緩,AI SSD 推動(dòng)營(yíng)收環(huán)比增長(cháng) 14%

  • IT之家 9 月 9 日消息,TrendForce 集邦咨詢(xún)今天下午發(fā)布報告指出,由于服務(wù)器終端庫存調整接近尾聲,加上 AI 推動(dòng)了大容量存儲產(chǎn)品需求,今年第二季度 NAND Flash(閃存)價(jià)格持續上漲。但由于 PC 和智能手機廠(chǎng)商庫存偏高,導致 Q2 NAND Flash 位元出貨量環(huán)比下降 1%,平均銷(xiāo)售單價(jià)上漲了 15%,總營(yíng)收達 167.96 億美元(IT之家備注:當前約 1193.37 億元人民幣),較前一季實(shí)現環(huán)比增長(cháng) 14.2%。各廠(chǎng)商營(yíng)收情況如下:三星:第二季時(shí)積極回應客戶(hù)對
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消息稱(chēng)三星電子確認平澤 P4 工廠(chǎng) 1c nm DRAM 內存產(chǎn)線(xiàn)投資,目標明年 6 月投運

  • IT之家 8 月 12 日消息,韓媒 ETNews 報道稱(chēng),三星電子內部已確認在平澤 P4 工廠(chǎng)建設 1c nm DRAM 內存產(chǎn)線(xiàn)的投資計劃,該產(chǎn)線(xiàn)目標明年 6 月投入運營(yíng)。平澤 P4 是一座綜合性半導體生產(chǎn)中心,分為四期。在早前規劃中,一期為 NAND 閃存,二期為邏輯代工,三期、四期為 DRAM 內存。三星已在 P4 一期導入 DRAM 生產(chǎn)設備,但擱置了二期建設。而 1c nm DRAM 是第六代 20~10 nm 級內存工藝,各家的 1c nm(或對應的 1γ nm)產(chǎn)品目前均尚未正式
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1000層3D NAND Flash時(shí)代即將到來(lái)

  • Lam Research 推出低溫蝕刻新技術(shù),為 1000 層 3D NAND 鋪平道路。
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存儲亮劍!NAND技術(shù)多點(diǎn)突破

  • 人工智能(AI)市場(chǎng)持續火熱,新興應用對存儲芯片DRAM和NAND需求飆升的同時(shí),也提出了新的要求。近日恰逢全球存儲會(huì )議FMS 2024(the Future of Memory and Storage)舉行,諸多存儲領(lǐng)域議題與前沿技術(shù)悉數亮相。其中TrendForce集邦咨詢(xún)四位資深分析師針對HBM、NAND、服務(wù)器等議題展開(kāi)了深度討論,廓清存儲行業(yè)未來(lái)發(fā)展方向。此外,大會(huì )現場(chǎng),NVM Express組織在會(huì )中發(fā)布了 NVMe 2.1 規范,進(jìn)一步統一存儲架構、簡(jiǎn)化開(kāi)發(fā)流程。另外包括Kioxia
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為 1000 層 NAND 閃存制造鋪平道路,泛林推出新一代低溫介質(zhì)蝕刻技術(shù) Lam Cyro 3.0

  • IT之家 8 月 1 日消息,泛林集團 Lam Research 當地時(shí)間昨日宣布推出面向 3D NAND 閃存制造的第三代低溫介質(zhì)蝕刻技術(shù) Lam Cyro 3.0。泛林集團全球產(chǎn)品部高級副總裁 Sesha Varadarajan 表示:Lam Cryo 3.0 為(我們的)客戶(hù)實(shí)現 1000 層 3D NAND 鋪平了道路。泛林低溫蝕刻已被用于 500 萬(wàn)片晶圓的生產(chǎn),而我們的最新技術(shù)是 3D NAND 生產(chǎn)領(lǐng)域的一項突破。它能以埃米級精度創(chuàng )建高深寬比(IT之家注:High Aspect R
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消息指 SK 海力士加速 NAND 研發(fā),400+ 層閃存明年末量產(chǎn)就緒

  • IT之家 8 月 1 日消息,韓媒 ETNews 報道稱(chēng),SK 海力士將加速下一代 NAND 閃存的開(kāi)發(fā),計劃 2025 年末完成 400+ 層堆疊 NAND 的量產(chǎn)準備,2026 年二季度正式啟動(dòng)大規模生產(chǎn)。SK 海力士此前在 2023 年展示了 321 層堆疊 NAND 閃存的樣品,并稱(chēng)這一顆粒計劃于 2025 上半年實(shí)現量產(chǎn)?!?SK 海力士 321 層 NAND 閃存按照韓媒的說(shuō)法,SK 海力士未來(lái)兩代 NAND 的間隔將縮短至約 1 年,明顯短于業(yè)界平均水平。IT之家注:從代際發(fā)布間隔
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消息稱(chēng) SK 海力士考慮推動(dòng) NAND 業(yè)務(wù)子公司 Solidigm 在美 IPO

  • IT之家 7 月 29 日消息,綜合外媒《韓國經(jīng)濟日報》(Hankyung)與 Blocks & Files 報道,SK 海力士考慮推動(dòng) NAND 閃存與固態(tài)硬盤(pán)子公司 Solidigm 在美 IPO。SK 海力士于 2020 年 10 月宣布收購英特爾 NAND 與 SSD 業(yè)務(wù),而 Solidigm 是 SK 海力士于 2021 年底完成收購第一階段后成立的獨立美國子公司?!?Solidigm D5-P5336,E1.L 規格,61.44TB由于內外部因素的共同影響,Sol
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3d-nand介紹

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