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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 20納米

Metryx和Intel合作開(kāi)發(fā)20納米節點(diǎn)半導體工藝

  •   英國質(zhì)量計量設備廠(chǎng)商Metryx日前正式加入一項由歐洲廠(chǎng)商主導的半導體設備創(chuàng )新發(fā)展評估項目,在此合作框架下,Metryx將和Intel,IMEC等展開(kāi)深入合作,為20納米節點(diǎn)半導體工藝開(kāi)發(fā)提供高精度質(zhì)量計量技術(shù)和設備。高精度質(zhì)量計量技術(shù)用于監控淀積工藝和其它引起質(zhì)量細微變化的工藝步驟,也可以用來(lái)監控由于高參雜注入導致光刻膠剝落而引起的硅損耗、襯底損壞等問(wèn)題。
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英特爾稱(chēng)其20納米閃存技術(shù)領(lǐng)先三星

  •   英特爾與美光稱(chēng)上周宣布了20納米Nand閃存制造技術(shù),英特爾稱(chēng)利用這一技術(shù)將有望制造出業(yè)界體積最小、密度最高的閃存裝置。   英特爾的非揮發(fā)性?xún)却娼鉀Q方案部門(mén)的總經(jīng)理Tom Rampone表示,“英特爾與美光的合作是制造業(yè)的楷模,因為我們將會(huì )在制程技術(shù)上持續領(lǐng)導業(yè)界轉換至越來(lái)越微小的技術(shù)?!?/li>
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臺積電有優(yōu)勢應對IBM技術(shù)競爭

  •   近年來(lái)IBM技術(shù)陣營(yíng)不斷坐大,Global Foundries與三星電子(Samsung Electronics)不僅全力爭取人才及訂單,在技術(shù)上亦加速追趕臺積電與聯(lián)電,值得注意的是,IBM陣營(yíng)將于2011年1月于美國舉辦通用平臺(Common Platform)技術(shù)論壇,揭露20納米以下制程藍圖,頗有鳴鼓備戰意味。對于競爭對手節節進(jìn)逼,臺積電董事長(cháng)張忠謀顯得老神在在,他認為,IBM技術(shù)已不是強大競爭對手,臺積電在生產(chǎn)與伙伴關(guān)系上領(lǐng)先同業(yè),是臺積電成功關(guān)鍵。   
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海力士擬明年量產(chǎn)20納米NAND Flash

  •   韓國半導體廠(chǎng)海力士(Hynix)計劃2011年中以20納米制程量產(chǎn)NAND Flash。此20納米制程快閃存儲器可應用于手機或平板計算機(Tablet PC)等裝置,相較26納米存儲器,晶圓(wafer)產(chǎn)出量提高約25%。   
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三星啟動(dòng)64GB 3位元20納米NAND閃存批產(chǎn)

  •   就在啟動(dòng)32GB 20nm閃存生產(chǎn)線(xiàn)四個(gè)月后,三星確認目前已經(jīng)啟動(dòng)64GB,3位元20納米NAND閃存的批量生產(chǎn)。   
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挑戰臺積電 全球晶圓首度公布20納米技術(shù)藍圖

  •   全球晶圓(Global Foundries)于美東時(shí)間1日舉行成軍以來(lái)首屆全球技術(shù)論壇,會(huì )中展示28納米類(lèi)比/混合訊號(AMS)生產(chǎn)設計流程開(kāi)發(fā)套件,并推出新的28納米HPP(High Perfoarmance Plus)技術(shù),預計于第4季正式向客戶(hù)推出,另外也首度揭示22/20納米制程技術(shù)藍圖與時(shí)間進(jìn)程,預計2013年正式進(jìn)入量產(chǎn)。與會(huì )人士指出,全球晶圓在技術(shù)上進(jìn)逼至20納米,時(shí)程上亦與臺積電甚為相近,與臺積電在先進(jìn)制程較勁意味濃厚。   為因應快速成長(cháng)的智能型移動(dòng)裝置市場(chǎng),全球晶圓在原本的28納
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海力士開(kāi)始26nm的NAND閃存量產(chǎn)

  •   韓國海力士聲稱(chēng),在其M11的300毫米生產(chǎn)線(xiàn)上開(kāi)始利用20納米技術(shù)進(jìn)行64Gb的NAND閃存量產(chǎn)。   該公司在2月時(shí)曾報道擬進(jìn)行20納米級的64Gb的NAND生產(chǎn),采用現有的32Gb產(chǎn)品進(jìn)行疊層封裝完成。   海力士稱(chēng)它的芯片是26nm的一種,有人稱(chēng)20nm級產(chǎn)品。三星是27nm的NAND閃存,IM Flash是25nm及Sandisk/Toshiba是24nm。
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臺積電、全球晶圓激戰ARM平臺 20納米世代競賽提前啟動(dòng)

  •   全球晶圓(Global Foundries)挑戰臺積電晶圓代工市場(chǎng)地位來(lái)勢洶洶,2010年初甫與安謀(ARM)攜手開(kāi)發(fā)28納米制程,挑戰臺積電在先進(jìn)制程領(lǐng)先優(yōu)勢,然臺積電亦不干示弱,正式宣布與ARM簽訂長(cháng)期合約,將技術(shù)世代延續至28與20納米制程,建立更長(cháng)遠合作關(guān)系,在看好ARM平臺于可攜式電子產(chǎn)品發(fā)展潛力,臺積電與全球晶圓雙方熱戰互不相讓。   臺積電指出,已與ARM簽訂長(cháng)期合約,在制程平臺上擴展ARM系列處理器及實(shí)體智財設計開(kāi)發(fā),從目前技術(shù)世代延伸到未來(lái)20納米制程,以ARM處理器為設計核心,并
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臺積電中止凌動(dòng)項目轉投ARM再攻移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)

  •   去年春天,臺積電與英特爾曾牽手相歡,雙方首度在處理器領(lǐng)域達成代工戰略合作,尤其面向移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)、嵌入式市場(chǎng)的英特爾凌動(dòng)產(chǎn)品。今年春天,由于客戶(hù)需求不足,雙方無(wú)奈分手,中止了合作。   昨天,不甘寂寞的臺積電再度執人之手。不過(guò),這次不是英特爾,而是英特爾在移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)市場(chǎng)的對手——英國ARM。   雙方表示,將在臺積電工藝平臺上擴展ARM一系列處理器以及物理IP(知識產(chǎn)權)模塊的開(kāi)發(fā),并從目前的技術(shù)65納米延伸到未來(lái)的20納米。而且,雙方將以ARM處理器為核心,以臺積電工藝為基礎
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GlobalFoundries宣布開(kāi)發(fā)20nm工藝 與22nm共存

  •   GlobalFoundries近日宣布將會(huì )開(kāi)發(fā)20nm半導體制造工藝,但與臺積電不同,新工藝將與 22nm共存,而且GF認為這種半代工藝并不會(huì )消失。   臺積電不久前剛剛宣布,將跳過(guò)22nm工藝,改而直接上馬更先進(jìn)的20nm工藝,采用增強型高K金屬柵極(HKMG)、應變硅、低電阻銅超低K互聯(lián)等技術(shù),可帶來(lái)更高的柵極密度和芯片性能。在此之前,臺積電和GF還先后宣布將跳過(guò)32nm Bulk工藝,從40nm直奔28nm。   GF目前的業(yè)務(wù)主要有兩種,一是繼續為AMD制造微處理器,二是開(kāi)拓新的代工業(yè)務(wù),
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三星電子全球率先批量生產(chǎn)20納米制程NAND閃存

  •   據外電報道,三星電子表示,該公司從上周末開(kāi)始批量生產(chǎn)20納米制程32GB多層單元(MLC)NAND閃存。   20納米制程32GB多層單元NAND閃存的生產(chǎn)性,比30納米制程高50%左右。三星電子在全球半導體行業(yè)率先投入到了量產(chǎn)。   三星電子相關(guān)負責人表示,公司同時(shí)開(kāi)發(fā)20納米制程32GB多層單元專(zhuān)用controller,確保了與30納米級NAND閃存相同的穩定性。   三星電子的20納米制程NAND閃存將先用于手機存儲卡SD卡。   此外,今年2月公布開(kāi)發(fā)20納米制程64GB NAND閃存
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張忠謀:全球半導體市場(chǎng)連好5年

  •   4月15日早間消息,據臺灣媒體報道,臺灣晶圓代工龍頭臺積電昨(14)日在美國舉行年度技術(shù)論壇,董事長(cháng)張忠謀表示,今明兩年全球半導體市場(chǎng)均將健康成長(cháng),2011至2014年呈溫和成長(cháng),年復合成長(cháng)率達4.2%。   張忠謀還稱(chēng),半導體產(chǎn)業(yè)需要更多合作,且早在芯片設計開(kāi)始之前就要合作,才能有效降低成本,臺積電在20納米、14納米、10納米等先進(jìn)制程研發(fā)中不會(huì )缺席。   由于半導體市場(chǎng)景氣明顯復蘇,臺積電年度技術(shù)論壇吸引將近1800名客戶(hù)或合作伙伴代表參加,而張忠謀在演說(shuō)時(shí)則針對未來(lái)5年半導體市場(chǎng)景氣、臺積
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臺積電宣布發(fā)展20納米工藝

  •   TSMC于美西時(shí)間13日在美國加州圣荷西市舉行技術(shù)研討會(huì ),會(huì )中宣布將跳過(guò)22納米工藝,直接發(fā)展20納米工藝。此系基于「為客戶(hù)創(chuàng )造價(jià)值」而作的決定,提供客戶(hù)一個(gè)更可行的先進(jìn)工藝選擇。   此次技術(shù)研討會(huì )有1,500位客戶(hù)及合作廠(chǎng)商代表參加,TSMC研究發(fā)展資深副總經(jīng)理蔣尚義在會(huì )中表示,TSMC20納米工藝將比22納米工藝擁有更優(yōu)異的閘密度(gate density)以及芯片性?xún)r(jià)比,為先進(jìn)技術(shù)芯片的設計人員提供了一個(gè)可靠、更具競爭優(yōu)勢的工藝平臺。此外,20納米工藝預計于2012年下半開(kāi)始導入生產(chǎn)。  
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美光攜手南亞科技開(kāi)發(fā)20納米芯片制程技術(shù)

  •   據國外媒體報道,臺灣南亞科技總裁連日昌周三表示,公司目前正在與合作伙伴美光科技聯(lián)手,共同為未來(lái)的DRAM生產(chǎn)開(kāi)發(fā)先進(jìn)的20納米芯片制程技術(shù)。   這 項先進(jìn)的芯片制程技術(shù)有助于提高芯片性能、減少芯片耗電量、降低芯片生產(chǎn)成本。連日昌周三在臺北的一次媒體活動(dòng)中說(shuō),企業(yè)要想在未來(lái)五年的DRAM市場(chǎng)上 保持競爭力,擁有領(lǐng)先技術(shù)至關(guān)重要。   采用20納米制程技術(shù)生產(chǎn)芯片將有助美光和南亞科技與業(yè)界領(lǐng)先企業(yè)三星電子展開(kāi)更加有效的競爭。當前,三星已經(jīng)在它的生產(chǎn)線(xiàn)上采用了30納米芯片制程技術(shù)。三星稱(chēng),使用30納米
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20納米介紹

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