Mentor對臺積電Reference Flow 10.0中的工具和技術(shù)進(jìn)行擴展

　　Reference Flow 10.0還包括了Questa®和0-In®平臺的高級功能驗證特性，用于復雜IC設計的增強型驗證。

• 基于標準的解決方案，支持IEEE標準、1801-2009™ UPF和IEEE標準、1800-2005™ SystemVerilog。
• 集成低功耗仿真和形式化功能，在設計流程早期驗證高級功耗管理電路。
• 跨電路復雜時(shí)鐘域靜態(tài)和動(dòng)態(tài)驗證，保證標準和低功耗模式下能正常工作。

　　“臺積電Reference Flow 10.0中完整的Mentor設計到硅片流程允許我們一起幫助共同的客戶(hù)解決在28nm所面臨的最大挑戰，包括低功耗設計和驗證、大規模SoC實(shí)施、工藝多變性、經(jīng)濟型測試和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines說(shuō)。“行業(yè)在向28nm工藝過(guò)渡時(shí)也提出了新的技術(shù)挑戰，Mentor為此有自己獨到的解決方案。我們與臺積電密切合作，利用工具消除設計師和代工廠(chǎng)間的距離，并同時(shí)幫助客戶(hù)在提高產(chǎn)品性能和可靠性的同時(shí)縮短產(chǎn)品的上市時(shí)間。”