從技術(shù)到應用 深入分析什么才是好CPU
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AMD在2008年推出45nmCPU采用high-k工藝，這也意味著(zhù)，AMD從一開(kāi)始的漠視，轉向了跟隨。事實(shí)上，從90nm工藝開(kāi)始，漏電問(wèn)題就一直困擾著(zhù)芯片的開(kāi)發(fā)，而High-K金屬柵極技術(shù)，正是為了這一問(wèn)題而生的。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/95642.htm
為了提高在單位面積上所集成的晶體管數量，晶體管間的連線(xiàn)寬度不斷被減小，以降低成本并提高性能。但晶體管連線(xiàn)寬度的不斷降低最終容易導致體積過(guò)小，密度過(guò)大，這就會(huì )產(chǎn)生晶體管相互之間的“漏電”問(wèn)題，一些晶體管有可能在“關(guān)閉”狀態(tài)下仍然是通電的，這樣就會(huì )帶來(lái)致命的電路錯誤。晶體管漏電除了會(huì )造成漏電問(wèn)題之外，還間接導致CPU的核心電壓一直無(wú)法下降。
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