陶氏電子材料事業(yè)群針對鈰基研磨應用領(lǐng)域推出IKONIC?4000系列新CMP研磨墊產(chǎn)品

　　陶氏化學(xué)公司旗下的陶氏電子材料事業(yè)群日前推出了IKONIC??4000系列的化學(xué)機械研磨(CMP)研磨墊產(chǎn)品。該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應用。

　　“業(yè)界對于IKONIC??技術(shù)?的總體反映可謂出奇的好，”陶氏電子材料事業(yè)群的CMPT?市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)總監Colin?Cameron?介紹說(shuō)?！癐KONIC?4000?系列為我們提供了最尖端的產(chǎn)品設計所普遍需要的很多至關(guān)重要的屬性。這些研磨墊具備高度的可調性，能夠進(jìn)行定制以應對特定的要求。陶氏的大批量制造方法以及對于工藝控制的專(zhuān)注確保了我們客戶(hù)的工藝過(guò)程中的一致性和可靠性，進(jìn)一步地提高了產(chǎn)品效能?！?/p>

　　新的?IKONIC?4000?系列產(chǎn)品解決了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之間的取舍難題。其全新的化學(xué)原理在整個(gè)研磨墊使用壽命內均可提供穩定的去除速率，使其特別適合用于與鈰基研磨相關(guān)的高難度領(lǐng)域。與業(yè)界標準IC1000研磨墊相比，IKONIC?4000系列產(chǎn)品在成品缺陷率方面改進(jìn)了70%。

　　IKONIC?4000系列產(chǎn)品是陶氏與客戶(hù)協(xié)作開(kāi)發(fā)的成果，目前可提供多種型號，涵蓋范圍很廣的硬度和孔洞率。籍此可以實(shí)現定制以便應對具體的客戶(hù)要求。這些研磨墊還進(jìn)行了優(yōu)化，以便使研磨墊的修整更為簡(jiǎn)便，并使研磨墊在整個(gè)使用壽命里均保持穩定的紋理。

　　IKONIC?4000系列產(chǎn)品已經(jīng)成功通過(guò)驗證，現在已可提供樣品。

　　IKONIC?CMP?研磨墊簡(jiǎn)介

　　IKONIC?平臺?將一整套獨特的化學(xué)特性與靈活的設計密度結合在一起，為客戶(hù)提供了范圍很廣的定制解決方案。這些研磨墊旨在改進(jìn)缺陷率表現，從而提高晶圓良率，并使研磨墊使用壽命更長(cháng)，從而實(shí)現更高的設備使用效率。針對產(chǎn)出量和選擇性方面的要求，IKONIC?CMP?研磨墊可以實(shí)現廣泛的去除率目標要求，從而滿(mǎn)足工藝方面的需要。選擇?IKONIC?系列的產(chǎn)品亦有助于提高研磨效率和晶圓形貌。這些優(yōu)點(diǎn)使得IKONIC?研磨墊平臺成為各種高級研磨應用的完美選擇。