陶氏發(fā)表OPTIPLANE 先進(jìn)半導體制造化學(xué)機械研磨液(CMP)平臺

　　陶氏電子材料是陶氏化學(xué)公司的一個(gè)事業(yè)部，本日推出 OPTIPLANE™ 化學(xué)機械研磨液 (CMP) 平臺。OPTIPLANE 研磨液系列的開(kāi)發(fā)是為了滿(mǎn)足客戶(hù)對先進(jìn)半導體研磨液的需求：能以有競爭力的成本，符合減少缺陷的要求和更嚴格的規格，適合用來(lái)製造新一代先進(jìn)半導體裝置。

　　全球 CMP 消耗品市場(chǎng)持續成長(cháng)，部分的成長(cháng)驅動(dòng)力來(lái)自新的 3D 邏輯、NAND 快閃記憶體和封裝應用，這些均要求大幅提高的平坦化效果和最低程度的缺陷率，以符合無(wú)數先進(jìn)電子裝置的性能需求。

　　「生產(chǎn)先進(jìn)半導體晶圓的邏輯和記憶體晶片公司面臨越來(lái)越多的挑戰，要能滿(mǎn)足不斷改變的需求，增強性能, 降低成本和同時(shí)提高最大產(chǎn)量。CMP 因此成為半導體製造過(guò)程中的關(guān)鍵因素，而且 CMP 的使用正持續增加?！?a class="contentlabel" href="http://dyxdggzs.com/news/listbylabel/label/陶氏">陶氏電子材料 CMP 科技部全球研磨液業(yè)務(wù)總監 - Adam Manzonie 表示?！肝覀円验_(kāi)發(fā)出 OPTIPLANE™ 研磨液平臺，以回應我們客戶(hù)對 CMP 研磨液的需求：多功能、具成本效益，并且能因應與日俱增的要求?！?/p>

　　透過(guò)先進(jìn)的化學(xué)程序和最佳化粒子濃度，OPTIPLANE CMP 研磨液能提供多種可調整研磨率的配方，亦可調整選擇能力，以符合客戶(hù)專(zhuān)屬的獨特規格?？上♂尩?OPTIPLANE CMP 研磨液平臺不但能實(shí)現優(yōu)異的平坦化效率和低缺陷率，也能提高產(chǎn)量和降低持有成本 (CoO)。

　　「身為 CMP 技術(shù)龍頭，陶氏相當了解 CMP 研磨墊和研磨液間材料的相互作用?！固帐想娮硬牧?CMP科技部全球研發(fā)總監 - Marty DeGroot 表示?！高@樣的理解讓我們能運用我們的研發(fā)能力，開(kāi)發(fā)出能對應研磨墊性能、并依照每一位客戶(hù)的需求提供具有獨特性能效益的研磨液配方?！?/p>

　　即將推出的第一種配方為 OPTIPLANE™ 2118 CMP 研磨液，這是新一代的層間介電層(ILD) 研磨液，亦可用于不同的前段 (FEOL) 研磨應用。OPTIPLANE 2118 CMP 研磨液現有樣品可供索取。如需索取樣品或深入了解 OPTIPLANE 平臺，請聯(lián)絡(luò )您的客戶(hù)代表。