歐洲首個(gè)尖端半導體工廠(chǎng)在英國啟用

據媒體報道，當地時(shí)間4月30日，歐洲首個(gè)尖端半導體工廠(chǎng)在英國南安普頓大學(xué)正式投入運營(yíng)。該工廠(chǎng)配備了全球第二臺、歐洲首臺的新型電子束光刻設備，將利用先進(jìn)的電子束技術(shù)制造下一代半導體。
電子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一種基于電子束直寫(xiě)或投影的納米級圖形加工技術(shù)，其核心特點(diǎn)在于突破光學(xué)衍射極限，能夠實(shí)現亞10納米級的超高精度加工。通過(guò)聚焦電子束，該技術(shù)可在材料表面刻畫(huà)出比人類(lèi)頭發(fā)細數千倍的微小特征，分辨率遠超傳統光刻技術(shù)。此外，電子束光刻無(wú)需依賴(lài)掩膜即可直接進(jìn)行圖案化處理，特別適合研發(fā)、原型設計以及小批量生產(chǎn)。
這項技術(shù)在先進(jìn)半導體制造中發(fā)揮著(zhù)重要作用，尤其是在高精度圖形加工領(lǐng)域。例如，它可用于制作光學(xué)掩模版、微納加工器件，同時(shí)也廣泛應用于科研與教育領(lǐng)域，助力高精度圖形的制作與研究。
英國科學(xué)大臣Patrick Vallance表示，南安普頓大學(xué)的新電子束設施將顯著(zhù)提升該國在半導體領(lǐng)域的研發(fā)和制造能力，為技術(shù)創(chuàng )新提供強有力的支持。