日本首臺ASML EUV光刻機將運抵，用于Rapidus晶圓廠(chǎng)試產(chǎn)

據日媒報道，日本半導體代工企業(yè)Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場(chǎng)，這也將成為日本全國首臺EUV光刻設備。

據Rapidus高管此前透露，該光刻機是較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。

按Rapidus此前的規劃，該公司計劃于2025年4月啟動(dòng)先進(jìn)制程原型線(xiàn)，該產(chǎn)線(xiàn)將擁有包括EUV光刻機在內的共計200余臺設備。根據千歲市當地政府的說(shuō)法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠(chǎng)截至上月底已完成63%的施工進(jìn)度。