ASML將攜全景光刻解決方案參加第七屆進(jìn)博會(huì )

半導體行業(yè)的領(lǐng)先供應商ASML（阿斯麥）將于11月5日至10日參加第七屆中國國際進(jìn)口博覽會(huì )（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“進(jìn)博會(huì )”），亮相技術(shù)裝備展區集成電路專(zhuān)區4.1展館A1-03展臺。在本屆進(jìn)博會(huì )上，ASML延續“光刻未來(lái)，攜手同行”的主題，將通過(guò)與時(shí)俱進(jìn)的交互式數字化形式重點(diǎn)展示其融合光刻機臺、計算光刻和量測的全景光刻解決方案，幫助客戶(hù)提升產(chǎn)能和良率。

ASML全球執行副總裁、中國區總裁沈波表示：“今年是我們第六次參加進(jìn)博會(huì )。每年一度的進(jìn)博盛會(huì )持續體現了中國擴大開(kāi)放、推動(dòng)合作的承諾，其傳遞的‘共享未來(lái)’理念與ASML的企業(yè)文化高度契合。借助此次進(jìn)博會(huì )，我們希望進(jìn)一步增強行業(yè)內外對于A(yíng)SML全景光刻解決方案的認知?！?/p>

ASML在第七屆進(jìn)博會(huì )的展臺

今年，ASML將在展臺著(zhù)重介紹全景光刻解決方案下的三款應用廣泛的DUV光刻機和一款新型的電子束量測設備，以及計算光刻業(yè)務(wù)。參觀(guān)者可以近距離感受ASML如何憑借持續創(chuàng )新幫助客戶(hù)實(shí)現更多價(jià)值。

●   DUV產(chǎn)品：

NXT:1470和NXT:870：這兩款從XT氣浮平臺升級至NXT磁浮平臺的干式DUV產(chǎn)品，能為客戶(hù)顯著(zhù)提升產(chǎn)能并降低單位成本；其中NXT:1470 是ASML 第一款應用NXT平臺，并實(shí)現每小時(shí)晶圓產(chǎn)量（wph）達300片以上的干式DUV機臺。

XT:260：即將推出的XT:260機臺是基于A(yíng)SML獨有的雙工作臺技術(shù)，采用業(yè)界公認的XT4 平臺，具有雙倍視場(chǎng)曝光的i-line光刻系統。該產(chǎn)品能夠有效提升性能并降低單片晶圓成本，可支持從先進(jìn)封裝到主流市場(chǎng)的的廣泛應用和發(fā)展趨勢。

●   量測設備：eScan 1100是ASML第一代實(shí)現在線(xiàn)缺陷檢測（物理缺陷和電性缺陷）的多束電子束檢測系統，具有25條光束，可將晶圓量測吞吐量提高至單束量測系統的10倍以上。

●   計算光刻業(yè)務(wù)：計算光刻主要應用于芯片的開(kāi)發(fā)與制造環(huán)節，通過(guò)優(yōu)化成像光源與掩模板設計，實(shí)現更精確的圖形成像和更好的芯片生產(chǎn)良率。

在展臺上，ASML中國創(chuàng )新地借助人工智能生成內容（AIGC）技術(shù)，以“光的旅程”為主題，將ASML不斷推動(dòng)科技進(jìn)步的歷程可視化——一縷從40年前公司創(chuàng )立之初啟程的微光，如今已照射至全景光刻解決方案的每條業(yè)務(wù)線(xiàn)，也點(diǎn)亮了現代科技生活的每個(gè)角落，最終穿梭到未來(lái)世界，開(kāi)啟全新的科技篇章。值此公司成立40周年之際，ASML也在展臺上設置了隨處可見(jiàn)的40周年紀念元素和打卡區域。

在四十年的崢嶸歲月里，ASML一直致力于光刻技術(shù)的研究和發(fā)展，實(shí)現了無(wú)數次的技術(shù)突破與創(chuàng )新，推動(dòng)摩爾定律不斷向前發(fā)展。值得一提的是，自1988年交付首臺步進(jìn)式光刻機以來(lái)，今年也是ASML深耕中國市場(chǎng)的第36年。展望未來(lái)，ASML期待與合作伙伴一起，助力半導體行業(yè)可持續發(fā)展。