臺積電 3nm 制程工藝月產(chǎn)能逐步提升,下月有望達到 4.5 萬(wàn)片晶圓
2 月 24 日消息,據外媒報道,在三星電子采用全環(huán)繞柵極晶體管架構的 3nm 制程工藝量產(chǎn)之后,臺積電仍采用鰭式場(chǎng)效應晶體管的 3nm 制程工藝,也在去年的 12 月 29 日正式開(kāi)始商業(yè)化生產(chǎn)。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202302/443720.htm從外媒最新的報道來(lái)看,同臺積電此前的工藝一樣,去年 12 月份量產(chǎn)的 3nm 制程工藝,產(chǎn)能也在逐步提升,月產(chǎn)能在下月將達到 4.5 萬(wàn)片晶圓。
報道稱(chēng),蘋(píng)果預訂臺積電 3nm 制程工藝量產(chǎn)初期的全部產(chǎn)能,提及臺積電這一工藝的月產(chǎn)能量時(shí)表示,將在下月達到 4.5 萬(wàn)片晶圓。
不過(guò),即便臺積電 3nm 制程工藝的產(chǎn)能在不斷提升,他們這一制程工藝今年的產(chǎn)能依舊會(huì )緊張。
在上月的財報分析師電話(huà)會(huì )議上,臺積電 CEO 魏哲家就曾提到,他們客戶(hù)對 3nm 工藝的需求超過(guò)了他們供應能力,他們預計這一制程工藝今年的產(chǎn)能將得到充分利用。
魏哲家在當時(shí)的會(huì )議上,也提到了 3nm 制程工藝的營(yíng)收,他表示他們預計從今年三季度開(kāi)始,就將為他們帶來(lái)可觀(guān)的營(yíng)收,在全年收入中的比例預計為中等個(gè)位數,預計在今年的營(yíng)收,將高于 5nm 制程工藝量產(chǎn)的第一年,也就是 2020 年。
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