臺積電：ASML新型光刻機太貴，A16技術(shù)計劃2026年推出

據媒體報道，當地時(shí)間周二，臺積電高級副總裁張曉強（Kevin Zhang）在阿姆斯特丹舉行的一個(gè)技術(shù)研討會(huì )表示，ASML的最新高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）價(jià)格過(guò)高，并直言：“我喜歡這項技術(shù)，但我不喜歡它的標價(jià)?！?/p>本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202405/458791.htm

據了解，這款新光刻機的線(xiàn)寬僅為8nm，精細度是前一代的1.7倍。但每臺機器的成本高達3.5億歐元（約合3.78億美元），重量相當于兩架空客A320，而ASML的常規EUV設備的成本為2億歐元。

報道稱(chēng)，新款光刻機預計將幫助芯片設計縮小三分之二，但芯片制造商必須權衡技術(shù)優(yōu)勢與更高的成本，以及ASML過(guò)去的技術(shù)是否更可靠或足夠好。

臺積電的下一代芯片制造技術(shù)A16計劃于2026年下半年推出。張曉強透露，A16并不一定需要使用ASML的高數值孔徑 EUV，可以繼續依賴(lài)臺積電現有的極紫外設備，因為現有的EUV技術(shù)已經(jīng)足夠應對這一需求。

目前，臺積電是ASML常規EUV光刻機的最大客戶(hù)。張曉強表示，臺積電的A16工廠(chǎng)可能會(huì )設計成適應這項新技術(shù)。未來(lái)是否使用ASML的新技術(shù)，將取決于其經(jīng)濟效益以及能否實(shí)現技術(shù)平衡。

而據韓媒日前報道，英特爾公司已經(jīng)訂購了最新的高數值孔徑EUV機器，并于12月底將第一臺機器運送到俄勒岡州的一家工廠(chǎng)。截至明年上半年，英特爾已獲得ASML生產(chǎn)的大部分高數值孔徑EUV)設備。