被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術(shù)，對標了ASML的EUV

被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術(shù)，對標了ASML的EUV

誰(shuí)都知道，俄羅斯已經(jīng)被美國全面打壓了。

俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進(jìn)口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠(chǎng)，都不會(huì )和美國競爭。

但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來(lái)說(shuō)，就是一個(gè)天文數字。

俄羅斯將會(huì )做什么？前段時(shí)間，有消息說(shuō)俄羅斯準備重新做一臺光刻機。

他的目標很明確，就是要用ASML的最新光刻機，去挑戰目前最尖端的EUV（UV）。

當然，ASML也不可能戰勝ASML，因為ASML的EUV光刻機，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒(méi)有人去做。

俄羅斯的計劃，就是研發(fā)一種新的技術(shù)，叫做“X射線(xiàn)光刻機”。

EUV光刻機，原本是將芯片的圖紙，做成掩模，然后用13.9nm的紫外線(xiàn)，對掩模進(jìn)行照射，然后在芯片上刻下電路，EUV光刻機就是這么做的。

而“無(wú)掩膜X光刻蝕機”則是另一種方式，它無(wú)需做任何掩模，只需用0.01nm至10nm的X射線(xiàn)，就能將芯片的電路直接繪制出來(lái)。

技術(shù)可靠嗎？這可不是一件容易的事情，技術(shù)已經(jīng)有了，但效率很低，在很久以前，還沒(méi)有在芯片上使用過(guò)。

畢竟要在一塊硅片上雕刻電路，光是想想都讓人頭疼，技術(shù)上的落后還好說(shuō)，但光是5nm，就是幾十億的晶體管，就很難了。到現在為止，還沒(méi)有任何一家公司，將自己的技術(shù)，投入到光刻的研究中。

俄羅斯的目標是，十一月研發(fā)出一套新的技術(shù)與模式，并對樣機的技術(shù)規格與可行性進(jìn)行分析，其中的制程要求是28nm或更高。

俄羅斯第一批投入了六億七千萬(wàn)盧布，由俄羅斯的莫斯科電子技術(shù)研究所（MIET）接手，這是蘇聯(lián)的硅谷中心，也是以微電子為主的。

雖然不知道最終會(huì )不會(huì )成功，但一旦成功，將會(huì )改變整個(gè)世界的芯片行業(yè)。