外媒稱(chēng)臺積電已開(kāi)始安裝3nm生產(chǎn)線(xiàn) 早于此前預期

據國外媒體報道，在5nm工藝順利量產(chǎn)之后，芯片代工商臺積電在工藝量產(chǎn)及研發(fā)方面的重點(diǎn)，已經(jīng)放在了更先進(jìn)的3nm和2nm上。

5nm之后就將投入量產(chǎn)的3nm工藝方面，臺積電是計劃在2021年風(fēng)險試產(chǎn)，2022年上半年開(kāi)始大規模量產(chǎn)。

在3nm生產(chǎn)線(xiàn)方面，外媒在今年3月底的報道中，是表示臺積電在今年10月份就會(huì )開(kāi)始安裝相關(guān)的生產(chǎn)設備。

而在最新的報道中，出現了臺積電已提前開(kāi)始安裝3nm生產(chǎn)線(xiàn)的消息。外媒在報道中表示，臺積電已經(jīng)開(kāi)始安裝3nm生產(chǎn)線(xiàn)及相關(guān)的設施，正在按進(jìn)度推進(jìn)。

包括創(chuàng )始人張忠謀、現任CEO魏哲家在內的臺積電高管，此前曾多次談及3nm工藝。

在退休前8個(gè)月，也就是在2017年的10月份，張忠謀在接受采訪(fǎng)時(shí)曾談到3nm工藝，當時(shí)他是透露采用3nm工藝的芯片制造工廠(chǎng)計劃在2022年建成，有可能在2022年量產(chǎn)。

在今年4月16日的一季度財報分析師電話(huà)會(huì )議上，魏哲家也曾談及3nm工藝，他透露3nm工藝的研發(fā)正在按計劃推進(jìn)，計劃2021年風(fēng)險試產(chǎn)，2022年上半年大規模量產(chǎn)。

魏哲家在財報分析師電話(huà)會(huì )議上還透露，同第一代的5nm工藝（N5）相比，第一代的3nm工藝（N3），晶體管的密度將提升約70%，速度提升10%到15%，能耗改進(jìn)25%到30%。