打破日美壟斷 國產(chǎn)ArF光刻膠取得重大突破：可用于7nm工藝

作為半導體卡脖子的技術(shù)之一,很多人只知道光刻機,卻不知道光刻膠的重要性,這個(gè)市場(chǎng)也是被日本及美國公司壟斷,TOP5廠(chǎng)商占了全球85%的份額。

國產(chǎn)光刻膠此前只能用于低端工藝生產(chǎn)線(xiàn)中,能做到G 線(xiàn)(436nm)、I 線(xiàn) (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進(jìn)口,EUV光刻膠目前還沒(méi)有公司能生產(chǎn),基本上都控制在日本公司手中。

不過(guò)EUV光刻膠也不是急需的,因為國內目前還沒(méi)有EUV工藝量產(chǎn),193nm的ArF光刻膠更加重要,目前國內有多家公司正在攻關(guān)中,這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進(jìn)工藝。

今天,南大光電在互動(dòng)平臺表示,公司的ArF光刻膠正在按計劃進(jìn)行客戶(hù)測試,這意味著(zhù)國內的ArF光刻膠技術(shù)取得了重要突破,從研發(fā)開(kāi)始走向生產(chǎn)。

根據南大光電公司之前的 消息,公司于2017年開(kāi)始研發(fā)“193nm 光刻膠項目”,已獲得國家“02 專(zhuān)項”的相關(guān)項目立項,公司計劃通過(guò)3年的建設、投產(chǎn)及實(shí)現銷(xiāo)售,達到年產(chǎn)25噸 193nm(ArF干式和浸沒(méi)式)光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規模,產(chǎn)品將滿(mǎn)足集成電路行業(yè)需求標準。