三星聯(lián)合ARM與新思科技開(kāi)發(fā)5納米制程優(yōu)化工具

在半導體先進(jìn)制程上的進(jìn)爭，目前僅剩下臺積電、三星、以及英特爾。不過(guò)，因為英特爾以自己公司的產(chǎn)品生產(chǎn)為主，因此，臺積電與三星的競爭幾乎成為半導體界中熱門(mén)的話(huà)題。

近幾年來(lái)，臺積電在半導體制程技術(shù)上一路突飛猛進(jìn)，但三星也不甘示弱，積極的推進(jìn)各種新制程，但是無(wú)論就技術(shù)，還是進(jìn)度方面仍然比臺積電慢了不少。在當前臺積電的7納米加強版EUV制程已量產(chǎn)情況下，三星方面則可能還要一些時(shí)間的努力。

不過(guò)，眼下兩家廠(chǎng)商的重點(diǎn)都已經(jīng)不在7納米的身上，而是加速邁向更新的5納米制程上。

根據外媒報導，三星、Arm、與新思科技(Synopsys)聯(lián)合宣布，已經(jīng)開(kāi)發(fā)了一整套優(yōu)化工具和IP，可讓芯片廠(chǎng)商以三星5納米制程，快速生產(chǎn)基于ARM Herculues CPU核心的芯片。

報導指出，三星5納米制程技術(shù)編號為5LPE，也就是5nm Low Power Early。該制程是三星7納米制程(7LPP)，在第二代6納米(6LPP)制程之后，所發(fā)展出的第三代改良版制程。在以EUV極紫外光刻技術(shù)之后的5LPE，號稱(chēng)邏輯效率將較前一代提升最多25%，或者是在相同性能和密度下，整體的芯片功耗將可降低20%，以及在同等功耗和密度下，性能能夠提升10%。

對此，三星強調由于制程一脈相承的關(guān)系，芯片廠(chǎng)商可以重新利用三星7納米制程的IP，應用在5納米的制程上，以加速在5LPE上的芯片開(kāi)發(fā)。不過(guò)，如果要想發(fā)揮其全部潛力，其新的優(yōu)化工具和IP依舊必不可少。因此，三星宣布與Arm與新思科技的合作，由ARM向三星的5納米制程提供物理IP和POP IP，以進(jìn)一步幫助客戶(hù)快速開(kāi)發(fā)新品。

而根據三星所公布的資料顯示，三星預計2019年下半年完成5納米制程進(jìn)行流片，2020年上半年投入量產(chǎn)。而屆時(shí)臺積電的新一代6納米制程也進(jìn)入量產(chǎn)，更新5納米制程則將緊隨而來(lái)，這使得兩者間的競爭還將會(huì )進(jìn)一步地延續下去。