三星更新最新技術(shù)線(xiàn)路圖,7nm芯片明年量產(chǎn)
在芯片7nm工藝上三星沒(méi)能及時(shí)量產(chǎn),導致大量的訂單都被臺積電給奪走了,這也讓三星損失慘重。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201809/391715.htm不過(guò)三星仍舊在繼續努力研發(fā)7nm的工藝,近期在日本舉辦的三星鑄造工廠(chǎng)論壇2018年會(huì )上,三星透漏了關(guān)于7nm工藝的進(jìn)程,表示會(huì )在接下來(lái)的幾個(gè)季度大規模量產(chǎn)。
除了確定7nm工藝的如期生產(chǎn)外,三星HIA宣布了新增8nm的LPU的改良版,也就是低功耗版,相比10nm版本,8nm減少了10%的芯片面積和10%的功耗。
不過(guò),隨著(zhù)芯片技術(shù)的發(fā)展,7nm的工藝肯定不會(huì )滿(mǎn)足手機廠(chǎng)商的需求,所以還需要跟高的工藝制程。
因此,三星還有更完善的方案,表示在2019你那利用FinFET技術(shù),進(jìn)行4/5nm的工藝研發(fā),在2020年使用最新研發(fā)的GAAFET技術(shù)方案,開(kāi)展3nm工藝的試產(chǎn)。
這樣的話(huà),在以后的5G芯片當中,蘋(píng)果,高通和華為的訂單很有可能由三星主要負責,不過(guò)這就要看三星的進(jìn)展速度了,雖然在7nm工藝失利了,不過(guò)相信可以在3/4/5nm的制程中重新奪回市場(chǎng)。
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