高密度封裝進(jìn)展
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(Multi Device Sub-assemblie Embedding all Passive and Active Components in Substrate)
伴隨輕薄短小、高性能便攜電子設備的急速增加,將電子元器件埋置于基板內部的所謂后SMT(post-SMT)封裝技術(shù)已初見(jiàn)端睨。目前,雖然是以埋置R、C、L等無(wú)源元件為主,但近年來(lái),將芯片等有源元件,連同元源元件全部埋置于基板內部的終極三維封裝技術(shù)也在迅速進(jìn)展之中。
1.驅動(dòng)高密度封裝快速發(fā)展的兩個(gè)車(chē)輪發(fā)展,第一個(gè)車(chē)輪是以手機為代表的便攜電子設備向小型、輕量、薄型方向的進(jìn)步,電子封裝必須適應其發(fā)展;第二個(gè)車(chē)輪是高集成度、超微細化半導體IC元件性能的提高,電子封裝必須滿(mǎn)足其需求。
關(guān)于前者,除了IC卡等超薄形封裝必不可少外,即使是微機、筆記本電腦、手機、數碼相機、PDA等,對封裝小型、輕量化的要求也有增無(wú)減。從這種意義上講,超薄型封裝的重要性不言而譽(yù)。圖1表示采用薄形封裝的電子設備的實(shí)例。
關(guān)于后者,如圖2年示,半導體IC元件的特征尺寸正向亞0.1um進(jìn)展.。與此相應,半導體快速提高。但是,這種發(fā)展都大大受制于電子封裝。從現狀看,電子封裝100um的“特征尺寸”比之半導體芯片0.1um的特征尺寸要大本個(gè)數量級。由SMT技術(shù)將電子元器件實(shí)裝在基板上的傳統技術(shù)已拖住半導體IC元件快速發(fā)展的后腿。因此,急需開(kāi)發(fā)將IC芯片及其他元件封裝在數微米及數十微米范圍內的新型封裝技術(shù)。
被人們知名人士為芯片上系統的SoC(System on Chip),即系統LSI,是,將一個(gè)電子系統制作在同一塊芯片上。但是,這種方法有很大的局限性。自先,SoC并不適用于所有的電路。而且,即使制作在同一塊IC芯片上,隨著(zhù)半導體芯片特征尺寸逐漸接近到0.1um,若原來(lái)的工藝路線(xiàn),在微細化技術(shù)的延長(cháng)線(xiàn)上將遇到如圖2所示,難以跨越的壁壘。換句話(huà)說(shuō),采用現有的半導體工藝技術(shù),要實(shí)現0.1um以下的特征寬度幾乎是不可能。為此,必須采用新的工藝和材料。例如,用金屬鑲嵌工藝(damassin)在溝槽(trench),內埋置Cu,代替傳統的二維布線(xiàn),從而使布線(xiàn)導體電阻有效降低;開(kāi)發(fā)介電常數小于2的超低介電常數絕緣層;采用SOI結構及引入SoGe半導體材料等。
如此說(shuō)來(lái),半導體芯片在進(jìn)步向高集成度發(fā)展的過(guò)程中,僅靠芯片上系統(SoC:System On Chip)并不能解決所有問(wèn)題。今后,隨著(zhù)工作頻率的不斷提高,以克服EMI(electromagneticinterference)為中心,必然會(huì )采用更多的無(wú)源元件。從而,充分利用布線(xiàn)板,將多個(gè)元件高密度且最短距離地封裝,就顯得格外重要。傳統的封裝方式為實(shí)現這一目的,已經(jīng)或正在采取各種各樣的措施。例如:IC封裝及無(wú)源元件的小型化、端子密節距化、元件復合化、基板布線(xiàn)圖形微細化、互連孔經(jīng)微細化、密節距微互聯(lián)技術(shù)等等。但是,所有這些無(wú)一不是針對IC元件及無(wú)源無(wú)件搭載在基板上,通過(guò)互連線(xiàn)連接的傳統封裝方式。如圖2所示,靠這種傳統封裝,即使在其延長(cháng)線(xiàn)上,布線(xiàn)寬度/布線(xiàn)距離充其量能百葉窗到數十um水平,這對于更高速回路來(lái)說(shuō),與IC目樣,會(huì )遇到由布線(xiàn)阻抗等引發(fā)的各種問(wèn)題。
現在看來(lái),避免上述問(wèn)題的理想方案是,將需要搭載的所有元器埋置在基板內部,做成一體化結構。這樣做不僅能實(shí)現小型、薄型封裝,還可以保證元件電極間的距離達到最短。
近年來(lái),電子元器件和印制線(xiàn)路板正發(fā)生日新月異的變化。IC元件在實(shí)現了超小型封裝(如CSP)之后,一部分存儲器元件等正在向三維(如采用芯片疊層、封裝疊層、硅圖片疊)封裝方向發(fā)展。
與此同時(shí),元源元件正從片式元件向陶瓷復合部件方向轉變。其中,搭載IC芯片的埋置無(wú)源無(wú)件的基板模塊,作為高密度封裝發(fā)展的方向,發(fā)展日趨活躍。而且,這些在陶瓷系統中已基本成熟的前提下,正逐漸在樹(shù)脂系基板系統中轉移并推廣。特別是,還出現了將無(wú)源及有源元件全部埋置于基板內部的的終極三維封裝形式。
即使是SI芯片本身,為適應這種形式的發(fā)展,也正發(fā)生著(zhù)一些變化。一方面芯片中集成無(wú)源元件,從而構成集成有無(wú)源元件的集成芯片;另一方面,芯片做成便于埋置于基板內部的系統集成封裝創(chuàng )造了條件。
下面,就高密度封裝在這方面的進(jìn)展加以介紹。
2.電子元器件及封裝的發(fā)展動(dòng)向
在電子元器件向輕薄生龍活虎短小化及高性能、多功能的發(fā)展進(jìn)程中,IC封裝不斷進(jìn)展:以單芯片封裝來(lái)說(shuō),已從QFP及TCP向BGA、CSP等小型化進(jìn)展,隨著(zhù)硅圓片級CSP(WLP CSP)的出現,已實(shí)現與裸芯片尺寸完全一致的超小型封裝(見(jiàn)圖3(a)~(d));而且,通過(guò)將不同種芯片二維或三維組裝在一起(MCP:muhi-chip package),構成一個(gè)多芯征組件(MCM),近年來(lái)又有新的進(jìn)展(見(jiàn)圖3(e)~(i));與此同時(shí),將所有上述元件及電路制作在同一芯片(SOC)的系統LSI(見(jiàn)圖3(j)),研究開(kāi)發(fā)也相當活躍。但是,系統LSI設計復雜,開(kāi)發(fā)時(shí)間長(cháng),顯然不適合于短壽命期及少量、多品種制品。此外,也難以滿(mǎn)足用永及時(shí)采用新功能IC的要求。由此看來(lái),采用MCP及MCM等多芯片封裝形式是必然趨勢。
上述的三維MCP(圖3(g)~(i))中,由2~4個(gè)芯片疊層在一起的封裝制品已經(jīng)面市,成功用于手機中,且不可或缺。在今后的1~2年中,5~6塊芯片疊層的制品也會(huì )出現。由于在同一封裝中疊層再多的芯片越來(lái)越困難,可以將芯片疊層封裝與薄型封裝疊層相組合。富士通公司已開(kāi)發(fā)出將8塊芯片三維疊裝在一起的形式(圖3(i))。而且,與新的芯片減薄工藝相結合,可以將芯片厚度減薄到25mm。這樣,8塊芯片疊裝在一起的高度僅為2.0 mm.按照這種方法,不久將有10塊芯片疊裝在一起的封裝產(chǎn)品問(wèn)世.
不僅是為了超小型、高密度化,而且 充分發(fā)揮半導體IC的性能方面,也迫切要求IC芯片三維封裝。今后,這種形式的封裝制品會(huì )急速增加。
再從無(wú)源元件講,C、R、L等片式元源元件的尺寸正不斷縮小。1996年前后問(wèn)世的0630(0.6 mm
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