霍尼韋爾將擴大靶材及相關(guān)金屬材料的產(chǎn)能

　　美國新澤西州莫里斯鎮 2010 年10 月 11 日訊——霍尼韋爾公司電子材料部今日宣布，作為長(cháng)期投資計劃的一部分，公司將擴大 300mm 濺射靶材及相關(guān)金屬材料的產(chǎn)能，以適應半導體行業(yè)需求的反彈。

　　霍尼韋爾將提高靶材產(chǎn)量以及用于制造靶材的銅、鈷、鈦和鎢等原材料的內部產(chǎn)能。此次擴大產(chǎn)能將有助于霍尼韋爾滿(mǎn)足不斷增長(cháng)的靶材需求，靶材主要用作制造先進(jìn)半導體電路的金屬源。

　　“霍尼韋爾一直致力于發(fā)展半導體產(chǎn)業(yè)，我們將進(jìn)行必要的投資，以確保公司能夠支持半導體行業(yè)的發(fā)展。”霍尼韋爾電子材料部 PVD 濺射靶材產(chǎn)品線(xiàn)負責人Mike Norton 說(shuō)，“我們長(cháng)期以來(lái)的努力加上我們重要原材料的整合能力，使我們能夠更好地滿(mǎn)足客戶(hù)需求。”

　　半導體行業(yè)渡過(guò)了低谷時(shí)期，目前正在企穩回升，預計到 2010 年年底，整個(gè)行業(yè)將可實(shí)現 25%以上的增長(cháng)。一些領(lǐng)先半導體生產(chǎn)廠(chǎng)商已發(fā)布 2011 年將繼續擴大半導體產(chǎn)量的預告。

　　為了滿(mǎn)足不斷增長(cháng)的需求，霍尼韋爾將在流程優(yōu)化、資源擴充和新設備購置等方面投入資金，并將在今年年底前把銅、鈷和鈦等原材料的產(chǎn)能分別提高 110%、100% 和 35%，而 300mm 濺射靶材的產(chǎn)能將提高 90% 以上。另外，公司還計劃在明年將鎢的產(chǎn)能翻番，以滿(mǎn)足日益增長(cháng)的先進(jìn) 300mm 設備的應用需求。

　　霍尼韋爾是生產(chǎn)濺射靶材的領(lǐng)先生產(chǎn)商。銅、鈷、鈦和鎢等金屬主要用于制造集成電路的導電線(xiàn)路。除了制造靶材外，霍尼韋爾還垂直滲透到原材料的生產(chǎn)中，并提供各種專(zhuān)用于半導體行業(yè)的材料。因此，在原材料短缺和/或行業(yè)波動(dòng)時(shí)期，我們的供應鏈可以為客戶(hù)提供更好的質(zhì)量控制和交貨保證。

　　目前，出于制造和成本優(yōu)勢的考慮，整個(gè)行業(yè)正逐漸轉向更大尺寸的 300mm 晶圓生產(chǎn)，并且霍尼韋爾在過(guò)去數年中也已增加了用于支持 300mm 晶圓生產(chǎn)的靶材產(chǎn)能。公司在華盛頓州斯波坎和韓國鎮川設有生產(chǎn)靶材的工廠(chǎng)，此外在科羅拉多州戈爾登的斯波坎和賓夕法尼亞州的福姆貝爾擁有生產(chǎn)各種金屬材料的工廠(chǎng)。

　　霍尼韋爾電子材料部隸屬于霍尼韋爾特殊材料集團，主要生產(chǎn)微電子聚合物、電子化工產(chǎn)品和其他先進(jìn)材料，此外電子材料部旗下的金屬業(yè)務(wù)部還提供各種產(chǎn)品，包括物理氣相沉積 (PVD) 靶材和線(xiàn)圈組、貴金屬熱電偶以及用于熱管理和電氣互連的各種材料。