英特爾Xe2獨顯將采用臺積電4nm工藝
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7月8日消息，據wccftech援引DigiTimes的報告報道稱(chēng)，英特爾將在其Arc Battlemage“Xe2-HPG”獨立GPU上采用臺積電的4nm工藝節點(diǎn)，雖然依然是32個(gè)核心，但升級為了第二代核心，相對于上一代采用臺積電6mm的Arc Alchemist來(lái)說(shuō)，將帶來(lái)明顯的提升。
據介紹，英特爾用于 Arc Battlemage 獨立 GPU 的 Xe2 架構將比現有的 Arc Alchemist Xe1 GPU 進(jìn)行了許多改進(jìn)，以及各種新功能的添加。雖然該系列不僅是英特爾最高端的獨立 GPU 產(chǎn)品，但確實(shí)帶來(lái)了很大的提升。
以下是 Battlemage “Xe2” 獨立 GPU 的一些傳聞功能：與Alchemist相比性能提升高達50%；采用新一代內存子系統和壓縮技術(shù)；改進(jìn)的光線(xiàn)跟蹤體驗；微體系結構改進(jìn)；采用下一代基于ML的渲染技術(shù)；最新DeepLink功能；出色的游戲性能。
并且，隨著(zhù)臺積電4nm工藝的使用，英特爾Arc Battlemage“Xe2”獨立GPU陣容的性能確實(shí)會(huì )被證明是顛覆性的。根據臺積電的數據，其4nm節點(diǎn)的性能比5nm提高了11%。因此，帶來(lái)的性能提升將遠高于6nm。
目前，有傳聞顯示，英特爾將會(huì )在2024年推出兩款基于Arc Battlemage的GPU，代號為BMG-21和BMG-31。
同樣，英特爾的第二代Arc集成GPU也將會(huì )升級為新的基于臺積電4nm的Arc Battlemage Xe2-LPG架構，將會(huì )被英特爾Lunar Lake/Arrow Lake的第二代酷睿Ultra 200系列處理器首發(fā)搭載。
編輯：芯智訊-浪客劍
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