可制造5納米芯片！佳能計劃推出低成本設備替代光刻機

佳能計劃今年推出低成本芯片制造機，以顛覆芯片制造機行業(yè)。負責監督新型光刻機開(kāi)發(fā)的佳能高管武石洋明1月27日接受采訪(fǎng)稱(chēng)，采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標今年或明年出貨。

佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C，稱(chēng)其可制造5納米芯片。佳能方面表示，這款新設備的成本“將比ASML的EUV少一位數”，耗電量也會(huì )減少90%。

佳能CEO Fujio Mitarai曾表示，該公司的新納米壓印技術(shù)將為小型半導體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟一條道路，目前這種技術(shù)幾乎完全屬于該行業(yè)最大的公司。

在解釋納米壓印技術(shù)時(shí)，佳能半導體設備業(yè)務(wù)部長(cháng)巖本和德（Iwamoto Kazunori）表示，納米壓印技術(shù)就是把刻有半導體電路圖的掩模壓印到晶圓上。在晶圓上只壓印1次，就可以在合適的位置形成復雜的二維或三維電路。如果改進(jìn)掩模，甚至可以生產(chǎn)電路線(xiàn)寬為2nm的產(chǎn)品。目前，佳能的NIL技術(shù)使圖案的最小線(xiàn)寬對應5nm節點(diǎn)邏輯半導體。

據悉，5nm芯片制造設備行業(yè)由ASML主導，佳能的納米壓印方法或將有助于其縮小差距。

在設備成本方面，巖本和德表示，客戶(hù)的成本因條件而異，據估算1次光刻工序需要的成本有時(shí)降至傳統光刻設備的一半。納米壓印設備的規模減小，在研發(fā)等用途方面也方便引進(jìn)。佳能CEO Fujio Mitarai曾表示，該公司的納米壓印設備產(chǎn)品的價(jià)格將比ASML的EUV（極紫外線(xiàn)）設備低一位數，不過(guò)最終的定價(jià)決定還沒(méi)有做出。

據悉，在客戶(hù)方面，佳能目前收到了半導體廠(chǎng)商、大學(xué)、研究所的很多咨詢(xún)，作為EUV設備的替代產(chǎn)品，納米壓印設備備受期待。該設備可用于閃存、個(gè)人電腦用DRAM及邏輯等多種半導體用途。

來(lái)源：半導體前沿

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