三星自研EUV光罩保護膜透光率已達90%

12月4日消息，據韓國媒體Business Korea報導，三星電子DS部門(mén)研究員Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保護（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達90%，計劃將進(jìn)一步提高至94-96%。

據了解，光罩保護膜是一種薄膜，可保護EUV光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對于 5nm或以下節點(diǎn)制程的先進(jìn)制程技術(shù)的良率表現至關(guān)重要。另外，光罩保護膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于 EUV光刻設備的光源波長(cháng)較短，因此保護膜需要較薄厚度來(lái)增加透光率。其中，透光率90%的意思是只有90%進(jìn)入薄膜的光線(xiàn)能到達光罩，這可能會(huì )影響電路圖案的精度。

三星今年初聲稱(chēng)已開(kāi)發(fā)出透光率達88%的EUV光罩保護膜，且這款產(chǎn)品已經(jīng)可以量產(chǎn)，而Kang表示三星EUV保護膜透光率再度增加到了90%。這比更常見(jiàn)的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）要低。

當EUV光罩保護膜在250瓦光源下操作時(shí)，每平方公分會(huì )產(chǎn)生的5瓦熱量，導致溫度高達680℃以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩護膜在EUV過(guò)程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問(wèn)題。

據報導，三星已經(jīng)在主要客戶(hù)的部分先進(jìn)EUV代工生產(chǎn)線(xiàn)上導入了EUV光罩護膜。雖然三星也在DRAM生產(chǎn)線(xiàn)中采用EUV制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認為即使沒(méi)有光罩護膜也可以進(jìn)行內存量產(chǎn)。

目前光罩保護膜主要供應商是荷蘭ASML，日本三井化學(xué)、信越化學(xué)，韓國S&S Tech、FST等。

據Kang透露，三星并沒(méi)有使用韓國國內供應商提供的EUV光罩護膜，而是與日本三井化學(xué)合作，為唯一供應商。

雖然FST和S&S Tech等韓國公司正積極開(kāi)發(fā)EUV光罩護膜，但還沒(méi)實(shí)現量產(chǎn)。相比之下，臺積電早在2019年開(kāi)始使用自行開(kāi)發(fā)的光罩保護膜，并已在7nm以下制程的生產(chǎn)線(xiàn)使用。2021 年宣布產(chǎn)能比2019 年提高了20 倍。

編輯：芯智訊-浪客劍