傳臺積電7nm以下制程明年將漲價(jià)6%!多家大客戶(hù)已同意?
10月21日消息,據DigiTimes報導,臺積電7nm以下先進(jìn)制程晶圓代工報價(jià)明年將將再漲3~6%,16nm以上則保持不變。
報道稱(chēng),臺積電已將漲價(jià)計劃通知客戶(hù)。有半導體業(yè)者透露,英偉達、聯(lián)發(fā)科、AMD等大廠(chǎng)已愿意接受漲價(jià)。
根據臺積電最新公布的第三季財報顯示,臺積電3nm制程的營(yíng)收在總營(yíng)收當中的占比已達6%,這主要得益于搭載A17 Pro處理器的iPhone 15 Pro系列的出貨;5nm制程占比37%,相比二季度增長(cháng)了7個(gè)百分點(diǎn);7nm制程占比16%,相比二季度減少了7個(gè)百分點(diǎn)。7nm及更先進(jìn)的制程營(yíng)收的占比為59%,相比二季度減少了6個(gè)百分點(diǎn)。
由于目前臺積電3nm制程僅蘋(píng)果一家大客戶(hù),這也導致臺積電3nm營(yíng)收占比增長(cháng)有限。不過(guò),隨著(zhù)后續高通、聯(lián)發(fā)科旗艦芯片的相繼投片,臺積電先進(jìn)制程營(yíng)收占比將有望進(jìn)一步上升。
另外,在日前的三季度法說(shuō)會(huì )上,臺積電還表示,其2nm制程有望在2025年量產(chǎn),具體將會(huì )在新竹寶山與高雄2座晶圓廠(chǎng)同步進(jìn)行。外界預估,臺積電2nm晶圓代工的價(jià)格將進(jìn)一步上升至2.5萬(wàn)美元。
據了解,臺積電的2nm制程工藝將放棄傳統的FinFET晶體管工藝,轉向GAA全環(huán)繞柵極晶體管架構(臺積電的版本命名為Nanosheet),相較于N3E工藝同功耗下性能提升10-15%,同性能下功耗下降25-30%,但晶體管密度提升僅10-20%。
另外,作為2nm制程技術(shù)平臺的一部分,臺積電也在研發(fā)背面供電(backside power rail)解決方案,該設計最適于高性能計算相關(guān)應用。而根據臺積電的規劃,目標是在2025年下半年推出背面供電技術(shù)供客戶(hù)采用,并于2026年量產(chǎn)。隨著(zhù)臺積電持續強化的策略,2nm及其衍生技術(shù)將進(jìn)一步擴大臺積電的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢。
至于價(jià)格方面,2nm制程的晶圓代工報價(jià)可能將會(huì )由3nm的2萬(wàn)美元/片,進(jìn)一步上漲至2.5萬(wàn)美元/片。
編輯:芯智訊-林子
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