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日本半導體設備,沒(méi)有那么強?

發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2022-08-22 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章

來(lái)源:內容由半導體行業(yè)觀(guān)察(ID:icbank)編譯自setup


在我(本文作者湯之上隆,下同)之前的文章《日本半導體設備和材料為何那么強?》中,我們描述了日本半導體制造設備的強。
但是,如圖1所示,從 2013 年左右開(kāi)始,整個(gè)日本的前端設備份額一直在下降。
圖片圖1:前端工藝設備出貨量及地區占比變化(至2021年)來(lái)源:作者根據野村證券數據制作這篇文章似乎已經(jīng)向四面八方發(fā)出了漣漪。這是因為,7月20日,日經(jīng)Crosstech發(fā)表了一篇題為“日本的半導體制造設備,以下一代技術(shù)應對全球市場(chǎng)份額下降”的文章。另外,7月28日,日經(jīng)新聞電子版發(fā)表了一篇內容完全相同的文章,標題為“日本的半導體制造設備,下一代技術(shù)奪回市場(chǎng)份額”。
但為什么日本在前端工藝設備中的份額卻在下降?
在我自己之前的文章中,我指出從 2011 年到 2021 年的十年間,所有前端工藝設備的份額(不包括掩模檢測設備)將下降(圖 2)。我還認為,這與日本前端設備份額的下降直接相關(guān)。圖片圖2:前端設備市場(chǎng)份額(2011年和2021年)來(lái)源:作者根據野村證券數據制作但是,我覺(jué)得僅此分析是不夠的。因此,在本文中,我們將再次探討日本前端設備份額下降的問(wèn)題。分析結果顯示,歐美企業(yè)集中在市場(chǎng)規模較大的設備領(lǐng)域,市場(chǎng)份額有所增加。
除非日本企業(yè)的增長(cháng)速度趕上并超過(guò)西方和韓國企業(yè),否則這個(gè)問(wèn)題將無(wú)法解決。畢竟可以說(shuō)事態(tài)嚴重。西方公司的戰略與集中度圖 3顯示了 2021 年各公司各前端工藝的市場(chǎng)份額、歐洲、美國和日本的份額以及市場(chǎng)規模。日本在設備領(lǐng)域具有市場(chǎng)占有率高的特點(diǎn),但市場(chǎng)規模并不大。具體來(lái)看,90.6%份額的鍍膜機/顯影機33億美元,94.7%份額的熱處理設備38億美元,61.4%份額的單片清洗設備41億美元,90.7%的批量清洗設備設備成本9億美元,占68.7%份額的CD-SEM成本8億美元。沒(méi)有日本壟斷的設備領(lǐng)域,市場(chǎng)規模超過(guò)50億美元。圖片圖 3:各公司前端設備市場(chǎng)份額、日本、美國和歐洲市場(chǎng)份額(2021 年) 來(lái)源:作者根據野村證券數據制作另一方面,在市場(chǎng)規模超過(guò)100億美元的設備領(lǐng)域,歐美設備制造商占據市場(chǎng)份額。具體來(lái)說(shuō),ASML 在 164 億美元的曝光設備中占據 95%,Lam Research (Lam) 和 Applied Materials (AMAT) 合計占 189 億美元的干法蝕刻設備的 64.8%,約 100 億美元。在價(jià)值 104 億美元的外觀(guān)檢測設備中,KLA 和 AMAT 占據了 73% 的份額。
在其他市場(chǎng)規模小于100億美元的領(lǐng)域中,AMAT在濺射設備44億美元中占據86%的份額,在CMP設備28億美元中占據68%,在圖案檢測領(lǐng)域占據35億美元。KLA和AMAT合計壟斷設備87.5%。
ASML、AMAT、Lam和KLA是在各類(lèi)設備市場(chǎng)占據主導地位的四家西方公司,其中四類(lèi)設備價(jià)值超過(guò)100億美元??傊?,歐美四家設備制造商在市場(chǎng)規模較大的領(lǐng)域牢牢占據了設備的份額。這顯示了西方公司獨有的戰略性質(zhì)和集中度。設備廠(chǎng)家銷(xiāo)售排名從目前的分析來(lái)看,4家歐美設備制造商在設備領(lǐng)域壟斷了市場(chǎng)份額,市場(chǎng)規模較大。這四家公司是什么時(shí)候開(kāi)始占據市場(chǎng)份額的?
圖4顯示了 2000 年至 2021 年設備制造商的前 10 名銷(xiāo)售排名。從這張圖可以看出,從2007年開(kāi)始,前五名的排名已經(jīng)固定為AMAT、ASML、Lam、Tokyo Electron(TEL)、KLA。圖片圖 4:設備制造商前 10 名銷(xiāo)售排名(2000-2021)  來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作。但是,前五名的排名不時(shí)發(fā)生變化。例如,AMAT 位居榜首,而 ASML 在 2011 年僅位居榜首。此外,從2000年到2008年排名第二的TEL,從2015年開(kāi)始排名逐漸下滑,從2015年開(kāi)始排名第四。
因此,從 2017 年到 2021 年,順序已轉移到第一 AMAT、第二 ASML、第三 Lam、第四TEL 和 第五 KLA。
從2007年開(kāi)始,前5名已經(jīng)確定,但前6名及以下每年都在劇烈波動(dòng)。其中,自2013年以來(lái),清潔設備市場(chǎng)占有率全球第一的SCREEN已經(jīng)占據了第6位。然而,2016年首次進(jìn)入前10名的韓國SEMES已經(jīng)躍居第6位,2021年取代了SCREEN。
這有點(diǎn)偏題,但我將解釋 SEMES 的歷史以及它是如何發(fā)展的。
SEMES的背景
1993年,三星電子(Samsung)成為全球DRAM銷(xiāo)量第一的公司。據說(shuō),三星當時(shí)已經(jīng)委托尼康、TEL、大日本屏幕制造(簡(jiǎn)稱(chēng)DNS,后來(lái)的SCREEN)等日本設備制造商在韓國為三星制造設備。
然而,許多日本制造商拒絕這樣做,擔心技術(shù)泄漏。但是,應三星的要求,SCREEN 于 1993 年 1 月與三星合資成立了 K-DNS。K-DNS 可能意味著(zhù)“韓國的 DNS”。向K-DNS派遣了大量的SCREEN工程師,在這里生產(chǎn)三星的清洗設備(圖5)。圖片圖5:SCREEN(原DNS)和SEMES(原K-DNS)設備銷(xiāo)量 來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作事實(shí)上,第一臺本地生產(chǎn)的清洗設備已于 1994 年 5 月交付給三星的器興工廠(chǎng)。此后,K-DNS 繼續為三星提供清潔設備。K-DNS 于 2005 年 1 月更名為 SEMES。SEMES 中的“SE”代表三星電子。
2010 年,SCREEN 出售了其在 SEMES 的股份(或者更確切地說(shuō),它被三星收購),使 SEMES 成為三星的全資子公司。以此為契機,三星所有的清潔設備均由SEMES制造,據悉,SCREEN已無(wú)法再向三星供應任何設備??傊?,SCREEN把屋檐租出去了,主樓被接管了。
2021年,SEMES在設備銷(xiāo)售方面最終將超越SCREEN,盡管差距很小。
現在,回到主題。下面,我們來(lái)看看各大設備廠(chǎng)商的銷(xiāo)售趨勢。主要設備廠(chǎng)商銷(xiāo)售趨勢圖 6顯示了歐洲、美國、日本和韓國主要設備制造商的銷(xiāo)售趨勢。許多設備制造商在 2000 年 IT 泡沫期間出現了一個(gè)大高峰,在 2008 年雷曼沖擊后出現下滑,在 2018 年內存泡沫期間達到峰值,在 2019 年出現內存衰退,在 2020 年出現新冠風(fēng)暴。似乎正在增加銷(xiāo)量不管。圖片圖6:主要設備制造商銷(xiāo)售趨勢(2000-2021)來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作2013年以來(lái),前四名(AMAT、ASML、Lam、TEL)與第5名的KLA差距拉大,第5名和第6名及以下的KLA差距也拉大。如果把它比作馬拉松,領(lǐng)先的團體是AMAT、ASML、Lam和TEL,而KLA的位置稍微遠一點(diǎn),排在第5位。我猜是這個(gè)位置。
因此,下面我們將分析排名第5位及以上的設備制造商和排名第6位及以下的設備制造商的增長(cháng)潛力。前五名設備制造商增長(cháng)潛力每個(gè)設備制造商都在 2000 年 IT 泡沫時(shí)期出現了一個(gè)高峰。因此,我繪制了一個(gè)圖表,將 2000 年每家公司的銷(xiāo)售額標準化為“1”(圖 7)。簡(jiǎn)而言之,我想澄清自 2000 年以來(lái)的 21 年間,排名前五的公司增長(cháng)了多少。圖片圖 7:2000 年標準化設備制造商銷(xiāo)售額排名前五 來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作因此,Lam 增長(cháng)最快,銷(xiāo)售額在 21 年內增長(cháng)了 8.9 倍。下面,按照增長(cháng)率從高到低排列,ASML 為 5.45 倍,KLA 為 3.11 倍,TEL 為 2.76 倍,AMAT 為 1.75 倍。
接下來(lái),我繪制了一張圖表,將每家公司在 2011 年的銷(xiāo)售額標準化為“1”(圖 8)。這個(gè)結果比圖4更重要。這是因為這有可能導致日本自 2013 年以來(lái)前端設備的份額迅速下降。圖片圖8:2011年標準化設備制造商銷(xiāo)售額排名前五 來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作從圖 8 來(lái)看,Lam 再次顯示出最高的增長(cháng),在過(guò)去十年中增長(cháng)了 4.62 倍。排名第二的小組正在激烈角逐。第二名是AMAT的2.49倍,第三名是TEL的2.29倍,第四名是ASML的2.06倍,第五名是KLA的1.90倍。
可以說(shuō),唯一一家進(jìn)入前五名的日本公司TEL表現不錯,但與Lam的增長(cháng)潛力相差甚遠。那么為什么Lam會(huì )變得如此之大呢?Lam的成長(cháng)源泉是什么?首先,2008 年,Lam 收購了奧地利單晶圓清洗設備制造商 SEZ。大約在 2008 年左右,清洗設備的范式從批量型轉變?yōu)閱纹?,?SEZ 為 Lam 的成長(cháng)做出了貢獻。
2011年,Lam收購了CVD設備制造商Novellus。2016年以來(lái),NAND型閃存向3D化,CVD設備的需求急劇增加,因此Novellus對Lam的增長(cháng)做出了極其巨大的貢獻。
此外,Lam 原本在柵極和金屬導電薄膜的干法蝕刻設備市場(chǎng)占有率最高。在這里,Lam 開(kāi)始蠶食 TEL 在 2000 年后投入使用的 Cu/Low-k 介質(zhì)蝕刻設備的市場(chǎng)份額?;谶@項技術(shù),他們幾乎壟斷了 3D NAND 存儲單元的 HARC(高縱橫比接觸)蝕刻的世界份額。
綜上所述,相信收購S(chǎng)EZ和Novellus以及擴大3D NAND閃存用HARC等絕緣膜干法刻蝕設備的銷(xiāo)售是高增長(cháng)的源泉。
Lam和TEL在干法刻蝕設備、CVD設備、單晶圓清洗設備方面處于競爭關(guān)系,但TEL在整體增長(cháng)方面落后于Lam。這被認為是日本前端工藝設備份額下降的原因之一。前6名以下的設備制造商增長(cháng)潛力現在我們來(lái)分析一下前六名及以下設備制造商的增長(cháng)潛力。圖9是以2000年IT泡沫的銷(xiāo)量為“1”,將前6名及以下主要設備制造商的銷(xiāo)售額標準化的圖表。圖片圖 9:2000 年標準化前 6 名以下設備制造商的銷(xiāo)售額 來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作請注意,垂直軸上的標準化銷(xiāo)售額是對數的。令人驚訝的是,韓國的 SEMES 增長(cháng)了 31.6 倍。如果把圖表畫(huà)在線(xiàn)性軸上,除了SEMES以外的設備制造商的增長(cháng)幾乎無(wú)法理解,所以我只好把它畫(huà)在對數軸上。即便如此,SEMES的增長(cháng)潛力也是巨大的。
SEMES以外,增長(cháng)率從高到低依次為Kokusai electric2.91倍、歐洲ASMI 2.02倍、SCREEN 1.98倍、日立高新技術(shù)1.31倍、荏原株式會(huì )社0.81倍、佳能0.67倍、尼康0.15 倍。荏原公司、佳能和尼康的負增長(cháng)不到 1 倍。
接下來(lái),我繪制了一張圖表,將每家公司在 2011 年的銷(xiāo)售額標準化為“1”(圖 10)。再次,SEMES 的增長(cháng)率最高,為 4.33 倍。緊隨其后的是 ASMI 3.46 倍、Kokusai electric 2.47 倍、荏原株式會(huì )社 1.81 倍、佳能 1.47 倍、SCREEN 1.04 倍、日立高新技術(shù) 0.97 倍、尼康 0.16 倍。
圖片圖10:2011年標準化6強以下設備廠(chǎng)商銷(xiāo)售額 資料來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作在這里,Kokusai electric是唯一一家增長(cháng)一倍以上的日本設備制造商,總體而言,日本企業(yè)的增長(cháng)率并不高。SCREEN和日立高新技術(shù)幾乎沒(méi)有增長(cháng),尼康的增長(cháng)率明顯為負。
設備銷(xiāo)售排名前10的日本設備制造商很多。但是,如果我們分析其增長(cháng)潛力,與韓國的SEMES和歐洲的ASMI相比,可以說(shuō)是相形見(jiàn)絀。總結與未來(lái)展望圖 11顯示了歐洲、美國、日本和韓國主要設備制造商的增長(cháng)潛力和設備組合。我們通過(guò)將設備制造商分為前 5 名或以上和前 6 名或以下,分析了 2000 年和 2011 年的增長(cháng)率。在圖 11 中,藍色顯示高增長(cháng),綠色顯示中等增長(cháng),黃色顯示中等增長(cháng),粉紅色顯示低增長(cháng)。
圖片圖11:主要前端設備廠(chǎng)商增長(cháng)率及設備組合 來(lái)源:作者根據電子期刊《半導體制造設備數據手冊》和野村證券數據制作TEL 是唯一一家進(jìn)入前五名的日本公司。TEL 從 2000 年和 2011 年開(kāi)始的增長(cháng)率都“有點(diǎn)高”。因此,可以說(shuō)TEL表現不錯,但與Lam的高成長(cháng)潛力不匹配,后者在干法刻蝕設備、CVD設備、清洗設備等領(lǐng)域展開(kāi)競爭。
在前六名之下,SEMES 和 ASMI 自 2011 年以來(lái)均顯示出高增長(cháng)率。其中,Kokusai electric是唯一一家被評價(jià)為從2000年到2011年增長(cháng)速度“略高”的日本企業(yè),可以說(shuō)表現不錯。然而,沒(méi)有其他日本設備制造商顯示出高增長(cháng)潛力。相反,低增長(cháng)的公司隨處可見(jiàn)。
此外,涉足100億美元以上裝備領(lǐng)域的西方企業(yè)普遍表現出“高”或“略高”的增長(cháng)潛力。另一方面,不幸的是,不得不說(shuō),日本設備制造商的增長(cháng)潛力普遍不如歐美和韓國公司。
我們分析了2013年以來(lái)日本前端設備份額快速下降的原因。得出的結論是,歐美四家公司戰略集中在裝備領(lǐng)域突破100億美元,穩占市場(chǎng)份額,而日本在銷(xiāo)售增長(cháng)方面不及歐美韓。據說(shuō)是市場(chǎng)份額下降的原因。那么日本設備制造商應該怎么做呢?日本設備制造商如何繼續?在文章開(kāi)頭提到的文章,,我解釋了日本設備制造商的競爭力如下(圖12)。“在日本市場(chǎng)占有率高的設備,往往處理液體、流體、粉末,初始形狀不固定,因此,需要優(yōu)化的參數很多,而且非常復雜。在這種情況下,日本人通過(guò)經(jīng)驗和直覺(jué)找到了最優(yōu)解。這個(gè)過(guò)程有很多無(wú)法記錄的隱性知識和訣竅,因此,它可以像一種技能或工藝。
在這些世界中,車(chē)間的持續改進(jìn)和改進(jìn)很重要,勤奮和耐心的日本人將零件優(yōu)化到最小的細節。因此,設備、材料和零件是自下而上創(chuàng )建的。相信這些日本特色是高市場(chǎng)占有率的源泉。
圖片圖12:日本與歐美設備發(fā)展差異[點(diǎn)擊放大] 來(lái)源:Takashi Yunoue / EE Times Japan然而,隨著(zhù)各類(lèi)設備變得極其復雜和高精度,日本的這種設備開(kāi)發(fā)方式或許正在走向轉折點(diǎn)。那么,在未來(lái)的裝備發(fā)展中,可能需要在充分發(fā)揮日本特色的同時(shí),努力吸收歐美的優(yōu)點(diǎn)。上述文章對歐美的設備開(kāi)發(fā)方法進(jìn)行了如下討論。“首先,我們通過(guò)營(yíng)銷(xiāo)把握需求??茖W(xué)正處于開(kāi)發(fā)各種設備的開(kāi)端?;谶@些需求和科學(xué),整個(gè)設備由一個(gè)強大的自上而下的領(lǐng)導者來(lái)架構。當時(shí),它通常是模塊化的。
此外,我們在設備開(kāi)發(fā)的每個(gè)過(guò)程中都充分利用了模擬。此外,技術(shù)和專(zhuān)有技術(shù)被轉化為軟件并集成到設備中。然后,通過(guò)將這些整合在一起,我們將創(chuàng )造出世界標準的設備……(略)阻止市場(chǎng)份額的下降并再次增加它并非易事。但是,日本要想在前端設備領(lǐng)域保持高水平的競爭力,卻是無(wú)法回避的問(wèn)題。對于日本設備制造商來(lái)說(shuō),這是關(guān)鍵時(shí)刻。我希望這不會(huì )重演日本半導體產(chǎn)業(yè)的衰落。


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