?單價(jià)超19億！搶先臺積電，英特爾訂購ASML全球首臺最新、最先進(jìn)的EUV光刻機

來(lái)源：內容整理自聯(lián)合報、快科技

昨日，ASML公布了2021年第4季及全年財報，都創(chuàng )歷年新高且優(yōu)于預期。ASML并宣布去年底及今年都接獲最新一代高數值孔徑（Hing-NA）極紫外光（EUV），意味ASML在導入 0.55 數值孔徑High-NA EUV 光刻技術(shù)的道路上又邁出了一步。
High-NA EUV 是ASML最新一代光刻設備，雖然ASML未透露下單客戶(hù)，但因這項設備被業(yè)界視為做為未來(lái)投入環(huán)繞閘極（GAA）技術(shù)節點(diǎn)關(guān)鍵微影設備，預料下單廠(chǎng)商應是臺積電或三星，從臺積電稍早公布資本支出高達400億到440億美元，且首度揭露用于2nm先進(jìn)制程投資，這也意味臺積電在2nm有重大突破，并下單采購High-NA EUV，投入2nm研發(fā)及試產(chǎn)。
臺積電供應鏈透露，臺積電內部規劃2nm試產(chǎn)部隊于今年第4季正式成軍，這也意味臺積電在先進(jìn)制程，不會(huì )讓三星有任何超車(chē)的機會(huì )。
不過(guò)據了解，三星也緊急搶購一臺High-NA EUV，并要ASML直接拉到三星工廠(chǎng)內進(jìn)行測試，創(chuàng )下ASML首創(chuàng )直接先出貨再客戶(hù)廠(chǎng)內測試的首例，顯見(jiàn)二大廠(chǎng)在先進(jìn)制程競賽超乎想象的激烈。
ASML 2021年第4季營(yíng)收為50億歐元，營(yíng)收凈額為18億歐元，毛利率54.2%，新增訂單金額71億歐元；2021年全年營(yíng)收達186億歐元，營(yíng)收凈額59億歐元，毛利率52.7%。
ASML也公布2022年第一季財測，預估營(yíng)收凈額約33億到35億歐元，毛利率約49%。ASML計劃宣布2021年每股普通股5.5歐元的總股息 (年增率達100%)。
針對柏林工廠(chǎng)部分建筑物火災的影響評估，ASML表示，根據目前資料評估，柏林工廠(chǎng)的火災不會(huì )對2022年的系統出貨產(chǎn)生重大影響，因此，ASML預估該公司2022年的營(yíng)收凈額仍可比2021年增長(cháng)約20%。
ASML總裁暨執行長(cháng)溫彼得 (Peter Wennink) 表示，ASML第4季的營(yíng)收達到50億歐元，符合財測；由于強勁的升級與服務(wù)收入挹注，2021年的毛利率達到54.2%，優(yōu)于財測。
溫彼得進(jìn)一步指出，去年第4季的新增訂單金額達到71億歐元，其中26億歐元來(lái)自0.33 NA和0.55 NA EUV系統訂單。
他說(shuō)，對ASML來(lái)說(shuō)，2021年是強勁成長(cháng)的一年。2021年ASML總營(yíng)收達186億歐元，其中的63億歐元來(lái)自于42臺EUV系統。
展望2022年，溫彼得指出，客戶(hù)對ASML的系統出貨需求高于我們的生產(chǎn)能力。終端市場(chǎng)的強勁需求為ASML客戶(hù)帶來(lái)量產(chǎn)更多晶圓的壓力。為了支持客戶(hù)，ASML提供客戶(hù)在既有機臺上的高生產(chǎn)力升級方案，另一方面也正在努力優(yōu)化工廠(chǎng)的生產(chǎn)周期、增加機臺出貨量。其中一種縮短生產(chǎn)周期的方法是略過(guò)在工廠(chǎng)進(jìn)行測試項目，加速出貨流程，直接在客戶(hù)端進(jìn)行最終測試和正式驗收。盡管這些出貨量的營(yíng)收認列將被推遲到客戶(hù)正式接受之前，但確實(shí)為我們的客戶(hù)爭取更早獲得晶圓產(chǎn)能的機會(huì )。
ASML預期2022年第一季的營(yíng)收約落在33億歐元到35億歐元間，毛利率約49%，研發(fā)成本約7.6億歐元，管銷(xiāo)費用約2.1億歐元。溫彼得表示：「調降第一季財測的主因是: 大量的快速出貨導致約20億歐元的收入將推遲至后續季度認列。同時(shí)，目前預期有6臺EUV的系統認列將遞延遲至2023年。盡管如此，綜觀(guān)2022年，公司預計全年營(yíng)收成長(cháng)仍將達到20%。
單價(jià)超19億Intel全球首個(gè)下單訂購ASML最先進(jìn)EUV光刻機
1月19日最新消息，Intel宣布第一個(gè)下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。
TWINSCAN EXE:5200是ASML的高數值孔徑EUV光刻機，其吞吐量超每小時(shí)220片晶圓（wph）。
從路線(xiàn)圖來(lái)看，EXE:5200預計最快2024年底投入使用，2025年開(kāi)始大規模應用于先進(jìn)芯片的生產(chǎn)。
事實(shí)上，4年前，ASML的第一代高NA（0.55 NA）光刻機EXE:5000，Intel就是第一個(gè)下單的公司。不過(guò)當前的7nm、5nm芯片還并非是其生產(chǎn)，而是0.33NA EUV光刻機。
和0.33NA光刻機相比，0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm，可以更快更好地曝光更復雜的集成電路圖案，突破0.33NA單次構圖32nm到30nm間距的極限。
外界預計，第一代高NA光刻機EXE:5000會(huì )率先用于3nm節點(diǎn)，至于EXE:5200，按照Intel的制程路線(xiàn)圖，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。
此前，ASML發(fā)言人曾對媒體透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時(shí)密度增加2.9倍。未來(lái)比3nm更先進(jìn)的工藝，將極度依賴(lài)高NA EUV光刻機。
最后不得不說(shuō)，Intel能搶到第一單，除了和ASML一致緊密合作外，當然也是因為“鈔能力”，Gartner分析師Alan Priestley稱(chēng)，0.55NA下一代EUV光刻機單價(jià)將翻番到3億美元（約合19億元人民幣）。