ASML德國工廠(chǎng)起火，產(chǎn)線(xiàn)損失未知

1月3日，路透社消息，芯片光刻機龍頭ASML周一表示，其在德國柏林的一家工廠(chǎng)發(fā)生火災。廠(chǎng)房部分區域受損，自動(dòng)清洗設備噴灑了約200平方公尺。好在暫時(shí)無(wú)人傷亡， 但是詳細損失及產(chǎn)能規模的影響還需要評估。

據柏林市消防單位稱(chēng)，廠(chǎng)房的生產(chǎn)設備目前不可用，火災原因和損失程度仍在調查中。

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起火工廠(chǎng)

前身是ASML的供應商Berliner Glas

隨后，ASML也在官網(wǎng)公布了關(guān)于該工廠(chǎng)的火災消息，從官網(wǎng)的信息來(lái)看，發(fā)生火災的工廠(chǎng)主要生產(chǎn)ASML的光刻機制造零件。

這家德國柏林的ASML工廠(chǎng)前身是Berliner Glas，為ASML的光刻機系統的零件制造和供應工廠(chǎng)。，包括晶圓臺(wafer tables)、光罩盤(pán)(reticle chucks)、反射鏡(mirror blocks)等。 

ASML在2020年收購德商Berliner Glas，后者是光學(xué)、機械及電子系統解決方案的開(kāi)發(fā)商及OEM(代工生產(chǎn))制造商，當時(shí)并未公開(kāi)收購金額。 該公司的銷(xiāo)售額為 2.3 億歐元（2.61 億美元）。

ASML表示，目前就損失或火災是否會(huì )對今年的產(chǎn)出計劃產(chǎn)生任何影響發(fā)表任何聲明還為時(shí)過(guò)早，還需要幾天時(shí)間來(lái)評估損失，會(huì )盡快向市場(chǎng)提供最新消息。 

“目前就損害或該事件是否會(huì )對今年的產(chǎn)量計劃產(chǎn)生任何影響發(fā)表任何聲明還為時(shí)過(guò)早，”ASML 表示，并補充說(shuō)評估損害需要幾天時(shí)間，并將盡快地公布。

不過(guò)，ASML 的股價(jià)，在傳出發(fā)生火災之前持續維持上漲約1% 的態(tài)勢。但是，在傳出發(fā)生火災事件之后，則是股價(jià)下跌約0.3% 幅度，來(lái)到每股704.4 歐元的價(jià)位。

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無(wú)法替代的ASML

目前全球半導體短缺，ASML 作為幾乎所有主要計算機芯片制造商的關(guān)鍵設備供應商，替全球芯片制造商生產(chǎn)關(guān)鍵設備，擁有獨家極紫外光（EUV）微影設備，與臺積電、三星及英特爾都有密切合作關(guān)系，中國臺灣也設有相關(guān)部門(mén)，在臺員工人數初估達2000人。目前正在滿(mǎn)負荷運轉，任何發(fā)貨延遲都會(huì )影響試圖擴大產(chǎn)能的客戶(hù)。 

早前ASML CEO曾指出，疫情持續加速數字化轉型，為解決芯片缺貨問(wèn)題，IDM廠(chǎng)、晶圓代工廠(chǎng)、存儲器廠(chǎng)均擴大投資提高產(chǎn)能，且投資項目聚集在先進(jìn)制程產(chǎn)能，進(jìn)一步推動(dòng)邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產(chǎn)能約達45～50臺且供不應求，明年預期將提高至55臺，且都將用于生產(chǎn)效率提升15％的新一代NXE: 3600D曝光機，新機臺在客戶(hù)晶圓廠(chǎng)每小時(shí)曝光產(chǎn)量（throughput）已達160片。

根據ASML召開(kāi)分析師會(huì )議中資料，隨著(zhù)邏輯IC制程明年跨入3納米世代，DRAM制程微縮至14納米以下，單片晶圓EUV曝光光罩層數正在快速提升，ASML預估先進(jìn)邏輯制程晶圓2021年EUV曝光層數平均已逾10層，至2023年將增加到逾20層，EUV光刻機未來(lái)幾年都會(huì )供不應求，ASML的EUV光刻機訂單一路滿(mǎn)到2025年。

隨著(zhù)EUV光刻技術(shù)變得越來(lái)越重要，ASML的優(yōu)勢也越發(fā)明顯。

不過(guò)，光刻機供貨商除阿斯麥之外，還有日本廠(chǎng)商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US)，這兩家在深紫外線(xiàn)(DUV，光源波長(cháng)比EUV長(cháng))的光刻技術(shù)上能與ASML競爭，但ASML作為企業(yè)龍頭，在DUV光刻領(lǐng)域，也擁有62%的市場(chǎng)份額。

但是在EUV領(lǐng)域，只有ASML一家能生產(chǎn)。

此外，ASML的第一臺高NA EUV光刻機預計將在2023年開(kāi)放早期訪(fǎng)問(wèn)，2024年到2025年開(kāi)放給客戶(hù)進(jìn)行研發(fā)并從2025年開(kāi)始量產(chǎn)。據悉，相較于當前0.33NA的EUV光刻機，0.55NA有了革命性進(jìn)步，它能允許蝕刻更高分辨率的圖案。分析師Alan Priestley稱(chēng)，0.55NA光刻機一臺的價(jià)格會(huì )高達3億美元（約合19億元），是當前0.33NA的兩倍。

有分析師表示，大火可能會(huì )限制ASML產(chǎn)量(至少在短期內)，從而阻礙計劃中的晶圓代工生產(chǎn)。