<dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"></dfn><small id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></small><small id="yhprb"></small><small id="yhprb"></small> <delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><s id="yhprb"><noframes id="yhprb"><small id="yhprb"><dfn id="yhprb"></dfn></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn> <small id="yhprb"></small><delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn>
首頁(yè)  資訊  商機   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會(huì )展  EETV  百科   問(wèn)答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動(dòng)中心  E周刊閱讀   樣片申請
EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 7nm

外資看淡10nm需求 IC廠(chǎng)商更想等待7nm

  •   美系外資發(fā)表研究報告指出,臺積電今年下半年的成長(cháng)雖將強勁,但明年卻可能趨緩(營(yíng)收大概只會(huì )成長(cháng)4%),因為iPhone 7處理器訂單已經(jīng)全部包給臺積電、并無(wú)再進(jìn)步的余地,而其10nm制程的需求也缺少進(jìn)一步成長(cháng)的空間。根據觀(guān)察,除了蘋(píng)果以外,IC設計公司大都比較想等2018年7nm制程出爐再說(shuō)。   臺積電對智能手機的營(yíng)運曝險度超過(guò)60%,但智能機明年成長(cháng)只能持平,臺積電想要營(yíng)收大幅成長(cháng)、恐怕有些困難。另外,高通驍龍600、驍龍800芯片組以及供應給iPhone的基帶都會(huì )轉單給三星電子以10/14nm制
  • 關(guān)鍵字: 10nm  7nm  

AppliedMicro宣布采用臺積電7nm制程

  •   臺積電7納米制程先下一城,芯片業(yè)者AppliedMicro正式宣布將采用臺積電7納米制程技術(shù)生產(chǎn)云端運算與網(wǎng)路通訊芯片。   AppliedMicro總裁兼執行長(cháng)Paramesh Gopi表示,該公司很高興有機會(huì )擴大與臺積電的合作關(guān)系,往后會(huì )努力將先進(jìn)科技帶到高效能運算市場(chǎng)中,并且更密集地與臺積電合作,以促使AppliedMicro旗下的矽產(chǎn)品,都能受益于臺積電的優(yōu)良制程技術(shù)。同時(shí),7納米制程技術(shù)的導入,將對正快速成長(cháng)的數據中心市場(chǎng)帶來(lái)重要變革,對運算效能、網(wǎng)路速度、能源效率等都將帶來(lái)顯著(zhù)提升,并降
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

ARM發(fā)力7nm芯片:手機功耗、性能春天!

  •   據Digitimes報道,ARM今天宣布與IMEC(歐洲為電子研究中心)深化合作,前者將加入代號為INSITE的項目。   INSITE致力于優(yōu)化晶體電路設計、系統層面架構的功耗表現、提高性能和降低成本。   報道特別提到,本次合作的重點(diǎn)是7nm及以上半導體芯片,這點(diǎn)稍有模糊,不知道是說(shuō)5nm級別,還是10nm級別,但7nm是肯定的。   根據最近一次爆料,今年10~12月,臺積電會(huì )量產(chǎn)10nm FinFET工藝的聯(lián)發(fā)科Helio X30和華為麒麟970,后者有望用于11月份的Mate 9。
  • 關(guān)鍵字: ARM  7nm  

臺積電2016年研發(fā)支出將逾720億元 為了7nm制程也是拼了

  •   臺積電本周四(14日)將舉行法說(shuō)會(huì ),臺積電表示,相關(guān)人才招募行動(dòng)已趁近期畢業(yè)生投入職場(chǎng),積極進(jìn)行中;董事長(cháng)張忠謀也將于法說(shuō)會(huì )中,針對臺積電如何實(shí)現研發(fā)支出及先進(jìn)制程挑戰目標的問(wèn)題來(lái)提出更詳細說(shuō)明。        臺積電研發(fā)支出占年度營(yíng)收約8%,以去年營(yíng)收8,434.97億元,公司釋出今年挑戰年增5%至10%的目標估算,今年營(yíng)收將突破9,000億元,換算今年度研發(fā)支出將逾720億元,遠超越去年的655億元,更是七年前的六倍之多。從這些數據來(lái)看足以證明臺積電為了發(fā)展下了多大的功夫。
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

迎7nm制程戰 臺積電擴編研發(fā)大軍

  •   臺積電深耕臺灣,透過(guò)增加研發(fā)支出與持續征才、擴大研發(fā)團隊編制等方式多管齊下,今年研發(fā)支出與研發(fā)大軍總數都將創(chuàng )新高,目標明年在7奈米關(guān)鍵戰役中勝出,為奪下全球半導體霸主的目標全力沖刺。   臺積電本周四(14日)將舉行法說(shuō)會(huì ),臺積電表示,相關(guān)人才招募行動(dòng)已趁近期畢業(yè)生投入職場(chǎng),積極進(jìn)行中;董事長(cháng)張忠謀也將于法說(shuō)會(huì )中,針對研發(fā)支出及先進(jìn)制程挑戰目標,提出更詳細說(shuō)明。   臺積電研發(fā)支出占年度營(yíng)收約8%,以去年營(yíng)收8,434.97億元,公司釋出今年挑戰年增5%至10%的目標估算,今年營(yíng)收將突破9,000
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

工藝超10nm后,器件性能還會(huì )繼續提高

  •   在“2016 Symposia on VLSI Technology”(6月13日~17日于美國檀香山舉辦)上,繼“Plenary Session”(全體會(huì )議)之后,在Session T2“Technology Highlighted Session”上,也涌現出了許多關(guān)于10nm工藝技術(shù)的論文。在本屆Symposium采納的86篇論文中,有12篇被選為焦點(diǎn)論文,其中4篇在 Session T2的Highlighted Sessi
  • 關(guān)鍵字: 10nm  7nm  

元件設計/新材料整合難度大增 半導體決戰關(guān)鍵7nm

  •   7奈米制程節點(diǎn)將是半導體廠(chǎng)推進(jìn)摩爾定律(Moore’s Law)的下一重要關(guān)卡。半導體進(jìn)入7奈米節點(diǎn)后,前段與后段制程皆將面臨更嚴峻的挑戰,半導體廠(chǎng)已加緊研發(fā)新的元件設計架構,以及金屬導線(xiàn)等材料,期兼顧尺寸、功耗及運算效能表現。   臺 積電預告2017年第二季10奈米晶片將會(huì )量產(chǎn),7奈米制程的量產(chǎn)時(shí)間點(diǎn)則將落在2018年上半。反觀(guān)英特爾(Intel),其10奈米制程量產(chǎn)時(shí)間確定 將延后到2017下半年。但英特爾高層強調,7奈米制程才是決勝關(guān)鍵,因為7奈米的制程技術(shù)與材料將會(huì )有重大改變。
  • 關(guān)鍵字: 半導體  7nm  

三星:7nm工藝代工業(yè)務(wù)將采用EUV

  •   三星電子在6月7日該公司與美國新思科技(Synopsys)聯(lián)合舉辦的會(huì )議上公開(kāi)了該公司代工業(yè)務(wù)的工藝路線(xiàn)圖。此次會(huì )議與第53屆設計自動(dòng)化大會(huì )(53rdDesignAutomationConference,DAC2016,2016年6月5日~10日舉行)同在美國奧斯汀舉行。   會(huì )議的主題是“ReadytoDesignat10nm!SynopsysandSamsungFoundry10nmEnablementforTapeoutSuccess”。來(lái)自三星的演講嘉賓是Foundr
  • 關(guān)鍵字: 三星  7nm  

臺積電:7nm工藝已簽下20多個(gè)合同

  •   臺積電(TSMC)在美國奧斯汀舉行的“Collaborating to Enable Design with the Latest Processors and FinFET Processes, including 7nm”(由美國新思科技、英國ARM和臺積電于6月6日聯(lián)合舉辦)上,介紹了采用10nm FinFET及7nm FinFET工藝的設計和生產(chǎn)進(jìn)展情況。演講人跟上年一樣。        (設計暨技術(shù)平臺副處長(cháng))   初次使用三重曝光的10nm工藝
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

7nm成下代技術(shù)熱點(diǎn) 三星、臺積電競爭日益激烈

  •   三星電子(Samsung Electronics)與臺積電在新一代晶圓代工戰局進(jìn)入白熱化,雙方紛將10納米制程量產(chǎn)目標訂在2016年底,近期三星更進(jìn)一步擴大投資,向荷蘭微影設備大廠(chǎng)ASML訂購極紫外光微影制程(EUV)掃描機,提前搶灘7納米制程,最快2017年底可用于量產(chǎn)晶圓,業(yè)界紛關(guān)注臺積電后續可能采取的反擊策略,恐將牽動(dòng)雙方未來(lái)在晶圓代工版圖變化。   業(yè)界認為EUV設備是突破微影制程界限的重要王牌,目前還沒(méi)有半導體業(yè)者真正將EUV設備導入量產(chǎn),因為龐大的設備投資讓晶圓代工業(yè)者退卻,亦無(wú)法得知使
  • 關(guān)鍵字: 三星  7nm  

臺積電形勢大好 16nm產(chǎn)能滿(mǎn)載且7nm將獲驗證

  •   根據亞系外資所出具的報告預期,在掌握新一代處理器的生產(chǎn)訂單,并且在非蘋(píng)訂單的強勁成長(cháng)需求下,晶圓代工廠(chǎng)臺積電16納米產(chǎn)能直至9月都將滿(mǎn)載。而且,未來(lái)臺積電的7納米將獲驗證,有機會(huì )成為第一家推出相關(guān)產(chǎn)品的廠(chǎng)商下,看好未來(lái)2016年第3季的臺積電營(yíng)收動(dòng)能。   亞系外資在新出爐的報告中表示,目前市場(chǎng)過(guò)度關(guān)注上半年蘋(píng)果整體iPhone智能手機需求疲軟所產(chǎn)生的負面效應。然而在臺積電掌握新一代蘋(píng)果處理器的情況下,加上非蘋(píng)陣營(yíng)包括繪圖、移動(dòng)及虛擬現實(shí)等應用需求的訂單強勁成長(cháng),2016年合計將可能占用臺積電16納
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

臺積電將在7nm制程拉開(kāi)與三星、英特爾差距 稱(chēng)霸半導體

  •   臺積電法說(shuō)會(huì )本周四(14日)登場(chǎng),揭開(kāi)半導體族群法說(shuō)會(huì )序幕。半導體設備廠(chǎng)透露,臺積電在16納米拉開(kāi)與三星差距,10納米超車(chē)英特爾之后,預料本次法說(shuō)會(huì ),將宣告加速7納米制程腳步,向全球展現其半導體先進(jìn)制程領(lǐng)先群倫的氣勢。   相較英特爾宣布2020年才產(chǎn)出7納米制程產(chǎn)品,凸顯臺積電將在于今年下半年以10納米制程試產(chǎn)聯(lián)發(fā)科等相關(guān)產(chǎn)品之后,未來(lái)在7納米一舉拉開(kāi)與兩只700磅大猩猩(指三星與英特爾)差距,稱(chēng)霸全球半導體產(chǎn)業(yè)。   臺積電近期已指示相關(guān)設備廠(chǎng),加速7納米生產(chǎn)線(xiàn)建置。從臺積電罕見(jiàn)在3月初于美西
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

Mentor增強7nm制程初期設計開(kāi)發(fā)

  •   MentorGraphics藉由完成臺積電(TSMC)10奈米FinFETV1.0認證,進(jìn)一步增強和優(yōu)化Calibre平臺和AnalogFastSPICE(AFS)平臺。除此之外,Calibre和AnalogFastSPICE平臺已可應用在基于TSMC7奈米FinFET制程最新設計規則手冊(DRM)和SPICE模型的初期設計開(kāi)發(fā)和IP設計。   為協(xié)助共同客戶(hù)能準備好使用先進(jìn)制程做設計,Mentor為T(mén)SMC10奈米制程改進(jìn)物理驗證工具,加速CalibrenmDRCsign-off工具的執行時(shí)間,使
  • 關(guān)鍵字: Mentor  7nm  

7nm制程將成臺積電力壓英特爾主戰場(chǎng)

  •   安謀(ARM)與臺積電共同宣布一項為期多年的協(xié)議,針對7納米FinFET制程技術(shù)進(jìn)行合作,包括支援未來(lái)低功耗、高效能運算系統單晶片(SoC)的設計解決方案。 這項協(xié)議延續先前采用ARM Artisan 基礎實(shí)體IP之16納米與10納米FinFET的合作。   事實(shí)上,以臺積電目前先進(jìn)制程之生產(chǎn)時(shí)程來(lái)看,屬于同一世代的10納米、7納米進(jìn)度已經(jīng)追上,甚至超越競爭對手英特爾(Intel)。   臺積電先進(jìn)制程10納米、7納米、5納米等部分,所有制程皆on schedule10納米制程2016第1季完成產(chǎn)
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  

臺積電為何想要在2018年量產(chǎn)7nm工藝?

  • 在14/16nm工藝上落后于三星著(zhù)實(shí)讓臺積電吃了悶虧,雖然三星的14nm工藝并沒(méi)有臺積電的16nmFF+工藝強悍,但半年的時(shí)間領(lǐng)先已經(jīng)足夠讓三星去游說(shuō)很多客戶(hù)了。好在蘋(píng)果的A9芯片沒(méi)有給臺積電丟臉,從各種續航測試來(lái)看的確將三星甩在身后。過(guò)去半年一直被壓著(zhù)打的臺積電總算是翻身吐氣了,為了不重蹈覆轍,臺積電似乎要加速推送7nm工藝量產(chǎn)。      10nm還沒(méi)出來(lái)就要推動(dòng)7nm了?實(shí)際上臺積電準備在2017年量產(chǎn)10nm工藝,然后在2018年下半年量產(chǎn)7nm。目前的進(jìn)度來(lái)看,臺積電已經(jīng)完成了10nm工藝的
  • 關(guān)鍵字: 臺積電  7nm  
共243條 16/17 |‹ « 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 »

7nm 介紹

您好,目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條7nm !
歡迎您創(chuàng )建該詞條,闡述對7nm 的理解,并與今后在此搜索7nm 的朋友們分享。    創(chuàng )建詞條

熱門(mén)主題

樹(shù)莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會(huì )員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473
国产精品自在自线亚洲|国产精品无圣光一区二区|国产日产欧洲无码视频|久久久一本精品99久久K精品66|欧美人与动牲交片免费播放
<dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"></dfn><small id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></small><small id="yhprb"></small><small id="yhprb"></small> <delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><s id="yhprb"><noframes id="yhprb"><small id="yhprb"><dfn id="yhprb"></dfn></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn> <small id="yhprb"></small><delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn>