Toppan宣布28nm光刻掩膜準備就緒 通過(guò)IBM認證

　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開(kāi)發(fā)出新的光刻掩膜制造技術(shù)，可用于制造32nm和28nm掩膜。

　　該公司稱(chēng)，這些掩膜在日本Asaka工廠(chǎng)制成，通過(guò)了IBM的認證。

　　Toppan從45nm節點(diǎn)就開(kāi)始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術(shù)的最后階段的合作協(xié)議，以及22nm掩膜的合作開(kāi)發(fā)協(xié)議。