初創(chuàng )公司Atum Works推出納米級3D打印技術(shù)，芯片制造成本可減90%

4 月 26 日消息，據外媒 Tom's Hardware 昨日報道，初創(chuàng )公司 Atum Works 最近宣稱(chēng)，其納米級 3D 打印技術(shù)有望替代現有的生產(chǎn)流程，進(jìn)而將芯片制造成本降低 90%。

不過(guò)，這項技術(shù)有一個(gè)限制：盡管在封裝、光子學(xué)和傳感器領(lǐng)域可能足夠應用，但對于邏輯芯片而言，它的技術(shù)已經(jīng)滯后了 20 年。

據報道，現代芯片與建筑物相似，擁有多個(gè)層級、不同類(lèi)型的模塊和復雜的通信網(wǎng)絡(luò )。每一款先進(jìn)的芯片都需要通過(guò)一個(gè)復雜的過(guò)程制造，涉及成千上萬(wàn)的步驟和數百種專(zhuān)用工具，因此制造成本相當高昂。

Atum Works 表示，公司已經(jīng)研發(fā)并制造出一款納米級 3D 打印機，可以在晶圓級別材料上以 100 納米的分辨率打印多材料 3D 結構。與傳統的平面光刻工藝不同，傳統工藝是通過(guò)光掩模將電路圖案轉印到硅晶圓上，而 Atum Works 的技術(shù)則是在三維空間中精準地將材料沉積到指定位置。這一創(chuàng )新使得集成電路的制造成為可能，并能將互連等結構在一個(gè)連續的流程中形成，相比傳統方法，有望提高生產(chǎn)的良率。

目前的 EUV 光刻技術(shù)分辨率大約為 13 納米（如應用的 Sculpta 工具能夠對掃描器所生成的圖案進(jìn)行增強，精度可達到 1~2 納米），而現代的刻蝕技術(shù)在垂直方向上也能達到亞 10 納米的精度。據IT之家了解，100 納米分辨率的技術(shù)曾適用于 2003 至 2005 年間的 90 納米至 110 納米工藝。

Atum Works 的 3D 打印技術(shù)并不完全適用于高性能處理器的制造。然而，這種納米級 3D 打印技術(shù)有望在封裝、光子學(xué)、互連結構、傳感器和非邏輯元件等領(lǐng)域找到應用。在這些領(lǐng)域中，復雜的 3D 設計優(yōu)勢可能大于對極小特征的需求。

Atum Works 目前正在與潛在客戶(hù)積極洽談，計劃在今年內開(kāi)始交付首批產(chǎn)品。英偉達是該公司的初期合作伙伴之一，雙方還簽署了合作開(kāi)發(fā)意向書(shū)。