半導體FTIR外延膜厚量測設備實(shí)現新突破!
9月14日,蓋澤華矽半導體科技(上海)有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“蓋澤半導體”),兩臺自主研發(fā)的FTIR膜厚量測設備GS-M08X,正式交付兩家客戶(hù)
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202409/463007.htm作為一款量產(chǎn)設備,該機種基于FTIR紅外光譜技術(shù),可以精準測量晶圓中多層外延層的厚度,提供高精度的量測結果。設備裝配了雙臂潔凈機械手和全新設計的Stage平臺,以及自主研發(fā)的光路系統及算法,能更大程度上兼容客戶(hù)應用場(chǎng)景,也讓測量效率大幅度提高。增加了Online在線(xiàn)技術(shù),遵循SEMI標準協(xié)議,可無(wú)縫連接客戶(hù)OHT/MES等系統。同時(shí),設備實(shí)現測量自動(dòng)化控制和自動(dòng)化運行功能,降低人力成本,提高生產(chǎn)效率。
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