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外延膜厚
外延膜厚 文章 進(jìn)入外延膜厚技術(shù)社區
半導體FTIR外延膜厚量測設備實(shí)現新突破！
- 9月14日，蓋澤華矽半導體科技（上海）有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“蓋澤半導體”），兩臺自主研發(fā)的FTIR膜厚量測設備GS-M08X，正式交付兩家客戶(hù)作為一款量產(chǎn)設備，該機種基于FTIR紅外光譜技術(shù)，可以精準測量晶圓中多層外延層的厚度，提供高精度的量測結果。設備裝配了雙臂潔凈機械手和全新設計的Stage平臺，以及自主研發(fā)的光路系統及算法，能更大程度上兼容客戶(hù)應用場(chǎng)景，也讓測量效率大幅度提高。增加了Online在線(xiàn)技術(shù)，遵循SEMI標準協(xié)議，可無(wú)縫連接客戶(hù)OHT/MES等系統。同時(shí)，設備實(shí)現測量自動(dòng)化控制和自動(dòng)化運行
- 關(guān)鍵字： 半導體 FTIR 外延膜厚 量測
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外延膜厚介紹
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