老美失算了!想引領(lǐng)芯片技術(shù)卻讓ASML獨大
美國為了擺脫對他國的芯片依賴(lài),力促芯片制造業(yè)回流本土,美媒撰文分析,美國曾有機會(huì )引領(lǐng)芯片制造技術(shù)卻錯過(guò)了機會(huì ),不只讓ASML獨大,也讓亞洲制造商臺積電、三星等主導了生產(chǎn)。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202404/457642.htm根據MarketWatch報導,ASML在半導體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位,是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設備極紫外光(EUV)曝光機的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出,臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈,身為設備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。
至于美國為何會(huì )失去對EUV技術(shù)這項關(guān)鍵技術(shù)的控制權?美國財經(jīng)媒體報導,主因是英特爾的的戰略錯誤,時(shí)任執行長(cháng)布萊恩·科再奇(Brian Krzanich)不相信該技術(shù)能夠以經(jīng)濟的規模發(fā)揮作用,因此放棄了ASML第1代EUV機器的生產(chǎn)。
Brian Krzanich對于英特爾在尖端芯片制造制程方面領(lǐng)先于同行充滿(mǎn)信心,但事實(shí)證明這是1個(gè)錯誤決定,臺積電使用EUV制程,在2018年左右首次在技術(shù)上超越英特爾。
英特爾執行長(cháng)的基辛格(Pat Gelsinger)則希望他不會(huì )重蹈前任的覆轍,英特爾已收到ASML第一臺最新型高數值孔徑EUV光刻機,在接下來(lái)幾年,英特爾打算將此系統部署到18A后的節點(diǎn)(1.8納米制程)。
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