晶盛機電披露碳化硅進(jìn)展

近日，晶盛機電在接受機構調研時(shí)表示，目前公司已基本實(shí)現8-12英寸大硅片設備的全覆蓋并批量銷(xiāo)售，6英寸碳化硅外延設備實(shí)現批量銷(xiāo)售且訂單量快速增長(cháng)，成功研發(fā)出具有國際先進(jìn)水平的8英寸單片式碳化硅外延生長(cháng)設備，實(shí)現了成熟穩定的8英寸碳化硅外延工藝。同時(shí)公司基于產(chǎn)業(yè)鏈延伸，開(kāi)發(fā)出了應用于8-12英寸晶圓及封裝端的減薄設備、外延設備、LPCVD設備、ALD設備等。

晶盛機電自2017年開(kāi)始碳化硅產(chǎn)業(yè)布局，聚焦碳化硅襯底片和碳化硅外延設備兩大業(yè)務(wù)。公司已掌握行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅襯底技術(shù)和工藝，量產(chǎn)晶片的核心位錯達到行業(yè)領(lǐng)先水平，2023年11月公司正式啟動(dòng)了“年產(chǎn)25萬(wàn)片6英寸、5萬(wàn)片8英寸碳化硅襯底片”項目，目前已實(shí)現批量生產(chǎn)與銷(xiāo)售。

晶盛機電于2023年推出了6英寸雙片式碳化硅外延設備、8英寸碳化硅外延設備，外延的厚度均勻性、摻雜均勻性達到行業(yè)領(lǐng)先水平。

其中6英寸雙片式碳化硅外延設備在外延產(chǎn)能、運營(yíng)成本等方面已取得國際領(lǐng)先優(yōu)勢，與單片設備相比，雙片設備單臺產(chǎn)能增加70%，單片運營(yíng)成本降幅可達30%以上，助力客戶(hù)創(chuàng )造極大價(jià)值。

8英寸碳化硅外延設備可兼容6、8寸碳化硅外延生產(chǎn)，解決了腔體設計中的溫場(chǎng)均勻性、流場(chǎng)均勻性等控制難題，外延的厚度均勻性1.5%以?xún)?、摻雜均勻性4%以?xún)?，達到行業(yè)領(lǐng)先水平。