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EEPW首頁(yè) > 網(wǎng)絡(luò )與存儲 > 市場(chǎng)分析 > 臺積電新型存儲技術(shù)問(wèn)世,功耗僅為同類(lèi)技術(shù)的1%

臺積電新型存儲技術(shù)問(wèn)世,功耗僅為同類(lèi)技術(shù)的1%

作者: 時(shí)間:2024-02-05 來(lái)源:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

近年來(lái),在人工智能(AI)、5G 等推動(dòng)下,以 (磁阻式隨機存取存儲器)、鐵電隨機存取存儲器 (FRAM)、相變隨機存取存儲器(PRAM),以及可變電阻式隨機存取存儲器(RRAM)為代表的新興存儲技術(shù)逐漸成為市場(chǎng)熱點(diǎn)。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202402/455362.htm

從目前來(lái)看,最受期待的就是 ,各大廠(chǎng)商在它上面投入的力度也最大。 屬于非易失性存儲技術(shù),是利用具有高敏感度的磁電阻材料制造的存儲器,斷電時(shí),MRAM 儲存的數據不會(huì )丟失,且耗能較低,讀寫(xiě)速度快,可媲美 SRAM,比 Flash 速度快百倍,在存儲容量方面能替代 DRAM,且數據保存時(shí)間長(cháng),適合高性能應用。

MRAM 的基本結構是磁性隧道結,研發(fā)難度高,目前主要分為兩大類(lèi):傳統 MRAM 和 STT-MRAM,前者以磁場(chǎng)驅動(dòng),后者則采用自旋極化電流驅動(dòng)。

另外,相較于 DRAM、SRAM 和 NAND Flash 等技術(shù)面臨的微縮困境,MRAM 可滿(mǎn)足制程進(jìn)一步微縮需求。目前,DRAM 制程工藝節點(diǎn)為 1X nm,已接近極限,而 Flash 走到 20 nm 以下后,就朝 3D 制程轉型了。MRAM 制程則可推進(jìn)至 10nm 以下。

近日,臺積電與中國臺灣工業(yè)技術(shù)研究院 (ITRI) 的科學(xué)家共同展示了共同開(kāi)發(fā)的 SOT MRAM 存儲器。新的存儲設備專(zhuān)為內存計算而設計,并用作高級緩存。新內存比 DRAM 更快,即使在斷電后也能保留數據。它旨在取代 STT-MRAM 存儲器,并且運行期間的功耗降低 100 倍。

帶有 SOT-MRAM 芯片的實(shí)驗晶圓。 來(lái)源:臺積電/工研院

在非易失性存儲器的其他有前景的選擇中,自旋轉移磁阻存儲器 (STT-MRAM) 長(cháng)期以來(lái)一直是上層高速緩存存儲器(L3 及以上)和內存中非易失性計算的競爭者,除其他外,還有存儲選項。這種存儲器變體使用自旋極化電流通過(guò)隧道結將磁化強度轉移到存儲器單元。因此,STT-MRAM 的能耗比通過(guò)感應電磁場(chǎng)進(jìn)行記錄的傳統 MRAM 存儲器的能耗低幾倍。

SOT MRAM 存儲器走得更遠。鐵磁層的記錄是在自旋軌道扭矩的幫助下發(fā)生的。該效應通過(guò)兩種現象的組合在鐵磁層底部的導體中顯現出來(lái):旋轉霍爾效應和 Rashba 寶石效應。結果,與導體相鄰的鐵磁體受到導體中自旋電流感應的磁場(chǎng)的影響。這導致 SOT-MRAM 需要更少的功耗來(lái)運行。

兩種類(lèi)型的 MRAM 單元的寫(xiě)入和讀取電流路徑。來(lái)源:新加坡國立大學(xué)

SOT-MRAM 的其他優(yōu)點(diǎn)是獨立的寫(xiě)入和讀取電路,這對性能產(chǎn)生積極影響,并提高了耐磨性。

「該單元同時(shí)提供低功耗和高速運行,速度高達 10 ns?!构ぱ性弘娮优c光電研究實(shí)驗室主任張世吉博士說(shuō)道。通過(guò)實(shí)現內存計算電路可以進(jìn)一步提高整體計算性能。展望未來(lái),該技術(shù)在高性能計算(HPC)、人工智能(AI)、汽車(chē)芯片等領(lǐng)域具有應用潛力。

與延遲高達 100 ns 及以上的傳統 DRAM 相比,延遲低至 10 ns 的 SOT MRAM 更接近 SRAM(延遲高達 2 ns)。當然,它的延遲為 50 至 100 μs,明顯快于當今流行的 3D NAND TLC。雖然 SOT-MRAM 內存還不能馬上出現在處理器和控制器中,但是未來(lái)對于高效的內存計算和自供電設備通常是必要的。

這些新技術(shù)正吸引各大晶圓廠(chǎng)不斷投入,其他具有代表性的廠(chǎng)商包括英特爾、三星等。

英特爾也是 MRAM 技術(shù)的主要推動(dòng)者,該公司采用的是基于 FinFET 技術(shù)的 22 nm 制程。2018 年底,英特爾首次公開(kāi)介紹了其 MRAM 的研究成果,推出了一款基于 22nm FinFET 制程的 STT-MRAM,當時(shí),該公司稱(chēng),這是首款基于 FinFET 的 MRAM 產(chǎn)品,并表示已經(jīng)具備該技術(shù)產(chǎn)品的量產(chǎn)能力。

三星在 MRAM 研發(fā)方面算是起步較早的廠(chǎng)商,2002 年就開(kāi)始了這項工作,并于 2005 年開(kāi)始進(jìn)行 STT-MRAM 的研發(fā),之后不斷演進(jìn)。2019 年,三星發(fā)布了采用 28FDS 工藝技術(shù)的 1Gb 嵌入 STT-MRAM?;诟叨瓤煽康?eMRAM 技術(shù),在滿(mǎn)足令人滿(mǎn)意的讀取,寫(xiě)入功能和 10 年保存時(shí)間的情況下,可以實(shí)現 90%以上的良率。并且具備高達 1E10 周期的耐久性,這些對于擴展 eMRAM 應用有很大幫助。

2019 年底,Mentor 宣布將為基于 Arm 的 eMRAM 編譯器 IP 提供 IC 測試解決方案,該方案基于三星的 28FDS 工藝技術(shù)。據悉,該測試方案利用了 Mentor 的 Tessent Memory BIST,為 SRAM 和 eMRAM 提供了一套統一的存儲器測試和修復 IP。

目前 MRAM 有三個(gè)主要的應用市場(chǎng),一個(gè)是用來(lái)作為嵌入式存儲器,MRAM 的特性非常適合用來(lái)作為嵌入式存儲器,特別是在嵌入或整合在 MCU 中。此外,高密度的 MRAM 則適用于來(lái)作為系統暫存存儲器、加速 NAND 快閃存儲器,或者作為 SRAM 應用的替代品。在未來(lái),MRAM 甚至很可能用來(lái)取代 DRAM。MRAM 很適合用來(lái)作為企業(yè)客戶(hù)的關(guān)鍵型任務(wù)應用程序,其中可針對包括功率損耗和檔案遺失等問(wèn)題加以解決,因為這些問(wèn)題一旦發(fā)生都可能?chē)乐赜绊懣蛻?hù)端的使用狀況。

而 MRAM 和其他的下一代存儲器,也都被視為是最適合用于機器學(xué)習的儲存技術(shù)。



關(guān)鍵詞: MRAM

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