2028年自研7nm光刻機！俄羅斯真有這個(gè)能耐？
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在芯片規則不斷的升級之下，各個(gè)國家不再相信基于美技術(shù)體系的國際產(chǎn)業(yè)鏈，而中、俄是產(chǎn)業(yè)被限制最嚴重的國家，因此在技術(shù)的自研上反應也是最強烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學(xué)院也官宣了好消息。
根據海外傳來(lái)的消息，俄科學(xué)院IPF RAS已經(jīng)全力參與光刻設備的研發(fā)，后續將會(huì )有整套的半導體設備誕生，并且其還高調宣稱(chēng)：“自研的光刻機將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產(chǎn)！”
這就讓人納悶了，目前俄國依靠自主化的產(chǎn)業(yè)鏈，就連90nm工藝都無(wú)法完成，此前更是宣稱(chēng)實(shí)現28nm工藝，也要等到2023年，如今卻宣稱(chēng)2028年就能實(shí)現7nm工藝了，這真的有可能嗎？
俄半導體產(chǎn)業(yè)的現狀
在當前的特殊形勢之下，俄半導體的現狀要比中國更加嚴峻，在芯片規則的不斷升級之下，蘋(píng)果、高通、AMD、英特爾、臺積電、三星等等企業(yè)相繼斷供，可以說(shuō)整個(gè)國家的芯片供應渠道都被切斷了，俄科學(xué)院只能緊急啟動(dòng)了自研計劃。
在早前俄羅斯曾公布了一項計劃，預計會(huì )在2022年底完成90nm芯片的自主化，在2023年實(shí)現28nm芯片自研自產(chǎn)，但顯然這樣的預估過(guò)于保守了，從技術(shù)角度上來(lái)講，利用8年時(shí)間實(shí)現這個(gè)目標難度不大。
俄羅斯科學(xué)院也并非浪得虛名，在很多的頂尖技術(shù)上都曾和老美掰過(guò)手腕，就拿航天航空技術(shù)來(lái)講，國際很多國家的衛星發(fā)射都要依賴(lài)于俄羅斯，但可惜進(jìn)入到21實(shí)際之后，國家整體經(jīng)濟蕭條，沒(méi)有那么多的資金用于科研項目，才導致如今的困局出現。
如果沒(méi)有外來(lái)的芯片進(jìn)入，俄羅斯滿(mǎn)打滿(mǎn)算僅能制造出65nm的芯片，并且這還要依賴(lài)于海外的半導體設備才能實(shí)現的，因此可以說(shuō)目前的形勢相當嚴峻，而光刻機是核心的芯片制造設備，自然是首要攻克的目標。
根據俄科學(xué)院IPF RAS的介紹，他們將會(huì )利用6年的時(shí)間制造出工業(yè)原型，首臺alpha 機器將會(huì )在2024年誕生，其也透露初期階段的工作，主要是完善系統的全面性，重心并不在于設備上的突破。
到了2026年新研發(fā)的Beta將實(shí)現對于alpha的替代，到達這個(gè)階段所有的系統都差不多整備完畢了，基本上許多的操作流程都能實(shí)現自動(dòng)化了，屆時(shí)在分辨率和生產(chǎn)力上也將得到很大的提升，這個(gè)階段就可以實(shí)現設備的融合調試，將集成運用到實(shí)際技術(shù)操作流程中。
最后就到了最為關(guān)鍵的光源融入階段，這也是光刻機最為核心的技術(shù)，好在俄羅斯在X射線(xiàn)光源技術(shù)上，有著(zhù)完全自主可控的技術(shù)，此前也證實(shí)了相應的可行性，在進(jìn)行改良升級之后，一整套的光刻機就能夠正常投入使用了！
俄科學(xué)院能成功嗎？
在面臨全面制裁之后，俄國內的芯片極度短缺，所有的芯片圓晶廠(chǎng)都停止了供應，雖然本土對制程工藝要求不高，但面對僅能實(shí)現的65nm制程工藝，針對現階段的工藝水平確實(shí)不夠看，俄科學(xué)院也加大的對人才的培養，試圖擺脫這樣的困境。
俄羅斯科學(xué)院院士也表態(tài)：“ASML近20年來(lái)追求的是生產(chǎn)效率，EUV曝光機很好的幫助全球半導體廠(chǎng)商實(shí)現了技術(shù)精進(jìn)，但目前的俄羅斯并不需要太先進(jìn)的工藝，根據自己實(shí)際需求跟進(jìn)就好！”
但在這樣的消息傳出之后，海外媒體沒(méi)有一家看好俄羅斯，都認為這樣的計劃不可能實(shí)現，畢竟此前沒(méi)有任何的技術(shù)基礎，6年時(shí)間完成7nm芯片光刻機的突破，顯然是有點(diǎn)不切實(shí)際了，就連ASML都用了將近20余年的時(shí)間。
而中國參與光刻機的研發(fā)，也已經(jīng)有很長(cháng)一段時(shí)間了，至今還未能達到28nm的水平，因此基本上是不可能的，況且光有光刻機還不夠，還需要需要配套設備，以目前俄羅斯的狀態(tài)，想要從國際供應鏈獲取根本不可能。
而且除了有設備之外，還需要晶圓廠(chǎng)的配合，目前俄羅斯本土并沒(méi)有這樣的企業(yè)，因此按照此前2030年實(shí)現28nm芯片自主化，相對而言還是比較符合實(shí)際現狀的。
俄科學(xué)院下諾夫哥羅德代表團所演示的光刻設備，目前還只是設備的原型，可以說(shuō)還處于“PPT”階段，后續還要進(jìn)行開(kāi)發(fā)、制造以及安裝，并沒(méi)有想象中的那么簡(jiǎn)單，對此你們是怎么看的呢？
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