新款世偉洛克? ALD7 超高純閥門(mén)使半導體制造商能夠提高芯片產(chǎn)量

流體系統產(chǎn)品、組件及相關(guān)服務(wù)的領(lǐng)先供應商世偉洛克日前宣布推出世偉洛克? ALD7 超高純(UHP)隔膜閥 — 該產(chǎn)品能夠為半導體制造商提供提高芯片產(chǎn)量必需的一致性和長(cháng)使用壽命。與世偉洛克目前頂級的 ALD6 閥門(mén)相比，ALD7 提供了更好的流量一致性、流通能力和執行機構速度。它還提供了必要的高溫下性能，使芯片制造商能夠克服當前制造工藝的限制，滿(mǎn)足需求。

ALD7 閥門(mén)可以被集成到新設備或原有設備中，在與現有閥門(mén)相同的 1.5-inch (38.1mm)安裝下提供更高的流通能力（高達 0.7 Cv），幫助制造商滿(mǎn)足全球對先進(jìn)技術(shù)芯片的強勁需求。ALD7 閥門(mén)通過(guò)比其前身 ALD6 更快、更一致的執行速度，在上億次 ALD（原子層沉積）生產(chǎn)循環(huán)中提供精確進(jìn)料。該執行機構的打開(kāi)和關(guān)閉響應時(shí)間可低于 5ms。執行機構可浸入 150°C (302°F)環(huán)境，而閥體的額定溫度為 200°C (392°F)，使閥門(mén)能夠更好地支持需要高溫輸送的低蒸汽壓前驅體。這為制造商提供了增加產(chǎn)量和良率所需的控制。

ALD7 閥門(mén)擁有緊湊的設計，集成了熱隔離器，使系統設計者能夠盡可能地利用芯片制造設備的反應腔附近的有限空間。此閥門(mén)對 ALD 工藝中使用的腐蝕性氣體也有很強的抗腐蝕能力，其閥體由世偉洛克專(zhuān)有的超高純 316L VIM-VAR 不銹鋼構成。因此，半導體設備制造商可以依靠 ALD7 閥在易變的工藝條件下提供一致的性能，為客戶(hù)在不增加運營(yíng)成本的情況下提高產(chǎn)能。

“自從近 20 年前開(kāi)發(fā)出行業(yè)內第一款符合應用的ALD 閥以來(lái)，我們一直與半導體客戶(hù)合作，以更好地了解在芯片制造商繼續縮小工藝節點(diǎn)和增加芯片產(chǎn)量的情況下，我們的超高純閥所需要的性能水平，”世偉洛克產(chǎn)品經(jīng)理 Ben Olechnowicz 解釋說(shuō)?！斑@使得我們不斷追求創(chuàng )新思維，開(kāi)發(fā)閥門(mén)，使其執行更快，應用于更極端的條件，具有更高的流量系數，以滿(mǎn)足原子層工藝的持續要求。我們將 ALD7 設計成一款可靠的全天候生產(chǎn)閥門(mén)，可以滿(mǎn)足所有這些要求，為我們的客戶(hù)提供必要的性能一致性，以便在這個(gè)似乎總是在變化并對制造商提出更多要求的行業(yè)中保持領(lǐng)先地位?！?/span>

ALD7 目前可提供高流量 C型密封的模塊化表面安裝配置，或配備卡套管對焊和世偉洛克 VCR? 面密封接頭端接的直通配置。高溫電子位置傳感器、光學(xué)位置傳感器或電磁先導閥配置也可作為附加元件提供。