Gigaphoton發(fā)布新的DUV光源產(chǎn)品規劃圖

　　半導體光刻光源的主要供應商Gigaphoton株式會(huì )社(母公司：栃木縣小山市，董事長(cháng)：浦中克己)宣布，為提高設備的工作效率，公司將制定新的產(chǎn)品規劃圖，以應對需求量不斷高漲的半導體廠(chǎng)家的要求。

　　Gigaphoton此次制定的產(chǎn)品規劃圖“RAM Enhancement”加強了DUV光源受激準分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護性(Maintainability)。公司已經(jīng)開(kāi)始行動(dòng)，將在2020年前打破被業(yè)界定位為極限的“工作效率99.8%的壁壘”。

　　在半導體芯片生產(chǎn)中，光刻工序的工作效率是最大的影響要素。因此，為最大限度地提高設備的工作效率，必須保證“長(cháng)期穩定的工作”，以及“最短的維修時(shí)間”。Gigaphoton為解決這些問(wèn)題，將延長(cháng)模塊壽命，派遣現場(chǎng)工程師提高設備的服務(wù)性能，實(shí)現盡可能不停止設備運轉的維修。

　　首先，為保證“長(cháng)期穩定的工作”，將最新ArF液浸光刻裝置的主要模塊，包括腔體(AMP CH)、窄帶域模塊(LNM)、監視模塊(MM)的壽命分別延長(cháng)到120Bpls。其次，為實(shí)現“最短的維修時(shí)間”，將追加預測裝置壽命及自動(dòng)計算維修時(shí)點(diǎn)的軟件。

　　通過(guò)這一系列的措施，截止2020年，面向所有客戶(hù)的必要維修次數將降低到每年一次，模塊更換時(shí)間減少到原來(lái)的一半，可望打破工作效率99.8%的壁壘。(假定內存芯片廠(chǎng)家的脈沖使用量為每年60Bpls。)

　　Gigaphoton董事長(cháng)浦中克已評價(jià)說(shuō)：“由于近年來(lái)半導體芯片的需求量高，半導體生產(chǎn)設備的工作效率愈發(fā)重要。我們推行的產(chǎn)品規劃‘RAM Enhancement’就是為滿(mǎn)足這樣的客戶(hù)需求而制定的。今后，Gigaphoton也將結合客戶(hù)需求和市場(chǎng)動(dòng)向，繼續提供最合適的解決方案。”