功率MOSFET雪崩擊穿問(wèn)題分析
若此時(shí)MOSFET未發(fā)生故障,則在關(guān)斷時(shí)刻之前,其內部耗散的能量為
E=LIo2(14)
式中:E為耗散能量;
Io為關(guān)斷前的漏極電流。
隨著(zhù)能量的釋放,器件溫度發(fā)生變化,其瞬時(shí)釋放能量值為
P(t)=i(t)v=i(t)VBR(15)
式中:
i(t)=Io-t(16)
到任意時(shí)刻t所耗散的能量為
E=Pdt=
L(Io2-i2)(17)
在一定時(shí)間t后,一定的耗散功率下,溫升為
Δθ=PoK(18)
式中:K=,其中ρ為密度;k為電導率;c為熱容量。
實(shí)際上耗散功率不是恒定的,用疊加的方法表示溫升為
Δθ=PoK-
δPnK
(19)
式中:δPn=δinVBR=VBRδt;
Po=IoVBR;
δt=tn-tn-1;
tm=t=。
則溫升可以表示為
Δθ(t)=PoK-
K
δt(20)
可以表示成積分形式為
Δθ(t)=PoK-
K
dτ(21)
在某一時(shí)刻t溫升表達式為
Δθ(t)=PoK-
K
(22)
將溫升表達式規范化處理,得
=
(23)
式中:tf=,為電流i=0的時(shí)刻;
ΔθM為最大溫升(t=tf/2時(shí))。
則由式(22)得
Δθ=PoK
=
IoVBRK
(24)
由上面的分析過(guò)程可以看出,在功率MOSFET發(fā)生雪崩擊穿時(shí),器件溫度與初始電流,以及器件本身的性能有關(guān)。在雪崩擊穿后如果沒(méi)有適當的緩沖、抑制措施,隨著(zhù)電流的增大,器件發(fā)散內部能量的能力越來(lái)越差,溫度上升很快,很可能將器件燒毀。在現代功率半導體技術(shù)中,MOSFET設計、制造的一個(gè)很重要方面就是優(yōu)化單元結構,促進(jìn)雪崩擊穿時(shí)的能量耗散能力。
5 結語(yǔ)
與一般雙極性晶體管的二次擊穿不同,MOSFET的雪崩擊穿過(guò)程主要是由于寄生晶體管被激活造成的。MOSFET由于工作在高頻狀態(tài)下,其熱應力、電應力環(huán)境都比較惡劣,一般認為如果外部電氣條件達到寄生三極管的導通門(mén)檻值,則會(huì )引起MOSFET故障。在實(shí)際應用中,必須綜合考慮MOSFET的工作條件以及范圍,合理地選擇相應的器件以達到性能與成本的最佳優(yōu)化。另一方面,在發(fā)生雪崩擊穿時(shí),功率器件內部的耗散功率會(huì )引起器件的發(fā)熱,可能導致器件燒毀。在新的功率MOSFET器件中,能量耗散能力、抑制溫升能力的已經(jīng)成為一個(gè)很重要的指標。
電子鎮流器相關(guān)文章:電子鎮流器工作原理
評論