應用材料為20nm制程開(kāi)發(fā)自主式缺陷檢測SEM

　　應用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統，進(jìn)一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡(jiǎn)稱(chēng)SEM) 技術(shù)的領(lǐng)導地位，這是首款可供芯片制造商用于無(wú)人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。

　　據應材表示，SEMVision G5獨特的功能可識別并拍攝1納米畫(huà)素的缺陷，協(xié)助邏輯與內存客戶(hù)改善制程，比過(guò)去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。

　　SEMVision G5系統配備最先進(jìn)的1納米畫(huà)素、無(wú)與倫比的影像質(zhì)量及強大的分析引擎，是唯一的缺陷檢測掃描電子顯微鏡，能夠在極其困難的線(xiàn)路層上，一邊進(jìn)行識別、分析及發(fā)現缺陷，卻同時(shí)能提高產(chǎn)出。另外，這套系統在區別真假警訊或真假缺陷方面樹(shù)立了全新的標竿，在測試中，這套系統遠比專(zhuān)業(yè)的操作員更為準確而快速，能讓客戶(hù)更快更常檢查更多晶圓，學(xué)習曲線(xiàn)更加速、提升良率也更迅速。

　　突破性的SEMVision G5為開(kāi)放架構平臺，具有已定義之檢測策略鏈接庫，可動(dòng)態(tài)結合接收自晶圓檢查系統的數據。此系統可自動(dòng)建立新的檢測程序，這是超越其它競爭對手工具的主要優(yōu)勢，因為其它廠(chǎng)商的工具需要以耗時(shí)的手動(dòng)設定程序，針對每一種芯片類(lèi)型分別建立檢測方式。這項功能對于晶圓代工客戶(hù)至為關(guān)鍵，因為他們必須在每年制造的數千種新芯片設計中達到良好的產(chǎn)能。