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20nm制程
20nm制程 文章 進(jìn)入20nm制程技術(shù)社區
應用材料為20nm制程開(kāi)發(fā)自主式缺陷檢測SEM
- 應用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統，進(jìn)一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡(jiǎn)稱(chēng)SEM) 技術(shù)的領(lǐng)導地位，這是首款可供芯片制造商用于無(wú)人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。 據應材表示，SEMVision G5獨特的功能可識別并拍攝1納米畫(huà)素的缺陷，協(xié)助邏輯與內存客戶(hù)改善制程，比過(guò)去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。 SEMVision G5系統配備最先進(jìn)的1納米畫(huà)素、無(wú)與
- 關(guān)鍵字： 應用材料 20nm制程
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20nm制程介紹
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